公开(公告)号：KR100066116B1

公开(公告)日：1993-10-05

申请号：KR1019900015488

申请日：1990-09-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 박경룡 ,  이훈복 ,  박신종

IPC: G06F15/18 ,  G02F1/133

公开(公告)号：KR1019930006904A

公开(公告)日：1993-04-22

申请号：KR1019910015639

申请日：1991-09-07

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김기홍 ,  이창석 ,  박형무 ,  윤형진 ,  박신종

IPC: H03K19/00

公开(公告)号：KR1019930001451A

公开(公告)日：1993-01-16

申请号：KR1019910010538

申请日：1991-06-25

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김동구 ,  박경룡 ,  박신종 ,  박철순 ,  박형무

IPC: G02F1/136

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR1019920009654B1

公开(公告)日：1992-10-22

申请号：KR1019900010551

申请日：1990-07-12

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 성건용 ,  강광용 ,  박신종

IPC: H01L39/06

Abstract: The method for mfg. a sputtering target comprises (a) raising the temp. of La2O3-Al2O3 mixed powder 1550-1700 deg.C in alumina crucible under an air atmosphere at a rate of 10 deg.C/min, maintaining it for 2-4 hr, and cooling it to a room temp. at a rate of 5 deg.C/min to obtain an aluminate powder, and (b) raising the temp. of the aluminate powder under an Ar atmosphere to 1700-1900 deg.C at a rate of 5 deg.C/min for 2 hr, cooling it to a room temp. at a rate of 8 deg.C, and heat-treating the sintered material under an air atmosphere at 1500 deg.C for 3 hr. The target is used as a Josephson device.

Abstract translation: 制造方法 溅射靶包括（a）提高温度。 的La2O3-Al2O3混合粉末在氧化铝坩埚中以10℃/ min的速度在空气气氛中保持2小时，并将其冷却至室温。 以5摄氏度/分钟的速度获得铝酸盐粉末，和（b）提高温度。 的铝酸盐粉末在Ar气氛下以5℃/ min的速度加热至1700-1900℃2小时，冷却至室温。 以8摄氏度的速度在1500℃下在空气气氛下对烧结材料进行热处理3小时。 目标被用作约瑟夫逊设备。

公开(公告)号：KR1019920013170A

公开(公告)日：1992-07-28

申请号：KR1019900021845

申请日：1990-12-26

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이훈복 ,  김종문 ,  박신종

IPC: G06F19/00

Abstract: 내용 없음