Abstract:
본 발명은 InP계 반도체 재료내에 Zn 3 P 2 반도체의 에피택셜층을 형성시키는 방법에 관한 것으로, In x Ga 1-x As y P 1-y /InP(1>x≥0.53, 0 x' Ga 1-x' As y P 1-y /In x' Ga 1-x' As y P 1-y /In x' Ga 1-x' P합금화되면서 In x' Ga 1-x' As y P영역내에 Zn 3 P 2 에 석출물이 격자정합된 형태로 성장되는 성질을 이용하여, InP계 반도체 결정상에 Zn 3 P 2 에피텍셜층(5)을 효과적으로 형성시키는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 파장분할 다중화방식의 광통신시스템에서 사용되는 다파장 어레이 레이저모듈에서 광출력을 검지할 목적으로 탑재되는 모니터 광검출기를 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 간단하게 제작하는 방법에 관한 것이다. 광검출기 어레이는 다파장 어레이 광원에서 각 파장의 세기를 독립적으로 검지하고 각 파장의 흔들림을 광 출력의 변화로써 검지하여 그 결과를 반도체 레이저의 구동부 및 온도 제어부로 궤환시켜 파장 안정화의 기능을 갖게 한다. 발명에서는 각 파장의 출력을 독립적으로 검출할 수 있는 여러 개의 단위 검출기를 단 한 번의 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 단일 칩 집적화할 수 있다. 즉 동일 웨이퍼 평면에 여러 개의 독립 흡수 파장을 갖는 InGaAsP/InGaAsP 다중 양자우물 흡수층이 성장되는 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 여러 파장을 독립적으로 검출할 수 있는 광검출기 어레이를 제작한다.
Abstract:
PURPOSE: A single wavelength semiconductor laser having plural integrated monitor photodetector which has different absorption wavelength band is provided to be used as the photoelectric source of a WDMA system. CONSTITUTION: In the method of manufacturing a single wavelength semiconductor laser, a diffraction grating layer(3) is formed on an n-InP substrate(2) through holographic or exposure method. In turn, layers of multiple quantum well activation layer(4), a photoelectric Ga layer(5), a p-InP clad layer(6) and a p-InGaAs layer(7) are formed. And a monitor PIN photoelectric detector is formed after etching. An InGaAsP/InGaAs layer(12) is formed on the exposed part of the n-InP substrate(2) and a p-InGaAsP layer(17) is formed making a first photoelectric detector along with the InGaAsP/InGaAs layer(18). Then a second photoelectric detector is formed with a semi-insulating InP layer(15), an n-InGaAs layer(14), an InGaAsP/InGaAs layer(12), a p-InP clad layer(11) and a p-InGaAs layer(10). A separating layer(9) is formed by inserting semi-insulating InP in to a trench formed by etching separating area for layer and photoelectric detection. Finally, a pair of electrodes are connected to the device.
Abstract:
본 발명은 발진 파장 선택성 반도체 레이저소자에 관한 것으로, 본 발명은 공진기 길이방향으로 개별 p-전극과 활성층으로 구성된 4개의 영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 광도파로에 연속회절격자가 형성된 구조의 제1반사영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 주기성 회절격자가 형성된 구조의 제2반사영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 상기 제1 및 제2반사영역 사이에 형성되는 광이득 영역과, 상기 4개의 영역 중 나머지 하나를 구성하며 상기 제1 및 제2반사영역 사이에 형성되는 위상 보정 영역을 구비하여, 발진 파장 선택성 LD는 하나의 광소자 칩에서 임의의 WDM 광파장을 출력할 수 있어 상기 기존 광원을 대체하고, 기존의 다수의 LD와 광결합기로 구성된 광원이 가지는 고가격, 구성의 복잡성을 해소한다.
Abstract:
본 발명은 방사각 조절 평면 매립형 반도체 레이저 장치에 관한 것으로, 반도체 레이저의 활성영역을 형성하기 위하여 에피 결정성장 후 방사각 조절영역의 광흡수 억제를 위한 식각 및 결정성장 없이 활성층 영역을 정의하기 위한 메사식각 공정에서 방사각 조절 광도파로를 제작함으로써 방사각 조절 광도파로를 통하여 작은 방사각을 얻어 광섬유와의 높은 광결합 효율을 얻을 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A high power semiconductor laser having a ridge wave guide structure and a manufacturing method thereof are provided to suppress occurrence of higher order modes during a high power operation and obtain a stable basic mode operation characteristics even at high power by reducing a change in an effective refractive index in edge portions of the semiconductor laser. CONSTITUTION: A multiple quantum well structure of a buffer layer(5), a clad layer(6), an active layer(8), a clad layer(10), and an ohmic contact layer(12) is grown on a substrate(4) by a MOCVD or other growing method. Then, a semiconductor laser having a ridge wave guide structure having a ridge portion(16) and a channel portion(17) is produced by processes of photo-resist masking, and coating an insulating layer and electrodes. After etching the ridge portion, boundary regions with the channel portion are ion-implanted with a predetermined dopant material using a photo-resist mask or an oxide-mask so as to have alleviated bandgap and effective refractive index. After masking the ion-implanted regions, new regions in the vicinity of the ion-implanted regions are ion-implanted with a new dopant material using a photo-resist mask or an oxide-mask. The ion-implantations are repeated by the number of kinds of dopant materials to be implanted. The ion-implantations are repeated with dopant materials having bandgaps different from the bandgap or with different effective refractive indices according to depth of ion-implantation and dose of dopants. The resultant structure are subjected to an annealing process to produce a high power semiconductor laser having a ridge wave guide structure.
Abstract:
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 반도체 레이저 제조 분야 2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 본 발명은 부가 공정 없이 고출력을 얻을 수 있으며, 동시에 광섬유와 광결합 효율을 증가시키기 위하여 출력광의 크기를 증가시킬 수 있는 평면 매립형 반도체 레이저 장치를 제공하고자 한다. 3. 발명의 해결방법의 요지 본 발명은 전면으로부터 후면을 향하여 그 폭이 선형적으로 증가하는 제1 영역과, 상기 선형 영역의 끝단의 폭을 상기 후면까지 연장한 제2 영역을 포함하는 활성층을 제안 하였다. 4. 발명의 중요한 용도 광통신, 특히 광송신기에 이용됨.
Abstract:
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 광소자 및 그 제조 방법 2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제 기존의 광소자는 발광 또는 수광의 단일 기능을 가지는 개별 소자로 제조됨으로써 한 개의 소자가 하나의 기능만을 수행할 뿐 동시에 여러 기능을 함께 수행하는 것이 불가능하여 단일 기능을 가지는 기존의 광소자 여러 개로 이루어지는 광통신 단말기는 구성이 복잡하고 가격이 높은 단점이 있다. 3. 발명의 해결 방법의 요지 광 신호 송신, 수신 및 검출 기능을 수행하는 개별 레이저 다이오드, 포토다이오드 및 광출력 검출을 위한 모니터 포토다이오드 광소자가 하나의 소자 내에 구성되어 광통신 단말기를 이루는 복합 기능 광소자 및 그 제조 방법을 제공한다. 4. 발명의 중요한 용도 광소자 및 그 제조 방법에 이용됨
Abstract:
본 발명은 광 가입자망용 광통신 단말기에 구비되어 발광 및 수광의 기능을 하나의 광소자에서 동시에 수행하는 수직형 광 집적소자에 관한 것이다. 화합물 반도체 기판(1) 상에 서로 다른 밴드갭 에너지를 갖고, 1.3㎛ 파장의 광신호를 송신하하는 매립형 구조의 하부 활성층(하부 공진기)(3)과 이 위에 1.55㎛파장의 광신호를 수신하는 리지(ridge)형 구조의 상부 활성층(상부 공진기)(5)이 수직으로 적층된다. 그 공진기들 사이에 보조 광도파로(12)를 삽입하여서 하부 공진기의 레이저 광이 상부 공진기에서 흡수되는 것을 방지하면서 동시에, 하부 공진기로 입사한 1.55㎛파장의 광신호가 상부 공진기에 효율적으로 광결합되도록 한다. 또한, 음극인 하부 전극(10)과 상부 전극(9)이 기판 및 상부 공진기 위에 독립적으로 설치되고, 공통 양극전극(13)이 보조 광도파로(12) 위에 설치된 것이다. 이러한 본 발명은, 먼저 하부 공진기에서 1.3㎛ 파장의 레이저 발진이 일어나 광신호를 외부로 송신하며 동시에 외부에서 수직형 광소자로 입력되는 1.55㎛ 파장의 광신호는 하부 공진기에 입사한 후 1.55㎛ 파장의 광을 흡수하는 상부 공진기로 결합됨으로써 광신호 수신이 일어난다. 이와 같이 광신호 송신 및 수신 기능을 동시에 수행함으로써 광 가입자망에서 광통신 단말기를 구성하는 개별 LD 및 PD 광소자를 대체한다.
Abstract:
본 발명은 기존의 0.98μm 반도체 레이저에서 발생하는 COD(catastrophic optical damage)에 의한 수명단축 현상을 없앤 새로운 RWG(ridge waveguide) 구조의 0.98μm 반도체 레이저에 대한 것이다. 0.98μm 반도체 레이저에서 발생하는 COD의 원인이 되는 광 출력면에서의 온도상승을 억제하기위해 출력면 부근의 RWG 영역을 형성시키지 않음으로써 광 출력 분포를 확대시켜주기 위하여, 공진기 길이 방향으로 출력면 끝을 기준하여 30μm 위치에서 스트라이프가 정지 되도록 소정 폭과 소정 길이의 리지(ridge)를 형성시켜, 공진기 양쪽 끝 부분은 도파로가 없는(non waveguide) 영역이 형성된 레이저 구조를 제공한다. 이에따라 공진기 내에서 발생한 빛이 양쪽 출력면 부근에서는 증폭되지 않고 단순히 유효 굴절률이 다른 물질을 통과하도록 하여주어 횡 방향으로 광 출력 분포가 넓어지도록 하여 출력면에서의 열을 감소시킴으로써 고출력으로 오랜 시간 동작하여도 특성이 열화 되지 않는 반도체 레이저를 제공할 수 있다.