다파장 광검출기 어레이 및 그 제조방법
    32.
    发明授权
    다파장 광검출기 어레이 및 그 제조방법 失效
    多波长可检测光电二极管阵列及其制造方法

    公开(公告)号:KR100540891B1

    公开(公告)日:2006-01-12

    申请号:KR1019990062443

    申请日:1999-12-27

    Abstract: 본 발명은 파장분할 다중화방식의 광통신시스템에서 사용되는 다파장 어레이 레이저모듈에서 광출력을 검지할 목적으로 탑재되는 모니터 광검출기를 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 간단하게 제작하는 방법에 관한 것이다. 광검출기 어레이는 다파장 어레이 광원에서 각 파장의 세기를 독립적으로 검지하고 각 파장의 흔들림을 광 출력의 변화로써 검지하여 그 결과를 반도체 레이저의 구동부 및 온도 제어부로 궤환시켜 파장 안정화의 기능을 갖게 한다. 발명에서는 각 파장의 출력을 독립적으로 검출할 수 있는 여러 개의 단위 검출기를 단 한 번의 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 단일 칩 집적화할 수 있다. 즉 동일 웨이퍼 평면에 여러 개의 독립 흡수 파장을 갖는 InGaAsP/InGaAsP 다중 양자우물 흡수층이 성장되는 선택적 MOCVD 결정 성장법을 이용하여 여러 파장을 독립적으로 검출할 수 있는 광검출기 어레이를 제작한다.

    흡수 파장 대역이 다른 다수개의 모니터 광검출기가집적된 단일파장 반도체 레이저
    33.
    发明公开
    흡수 파장 대역이 다른 다수개의 모니터 광검출기가집적된 단일파장 반도체 레이저 失效
    单波长半导体激光器,具有不同吸收波长带的PLALAL集成监视器光电二极管

    公开(公告)号:KR1020010054750A

    公开(公告)日:2001-07-02

    申请号:KR1019990055705

    申请日:1999-12-08

    Abstract: PURPOSE: A single wavelength semiconductor laser having plural integrated monitor photodetector which has different absorption wavelength band is provided to be used as the photoelectric source of a WDMA system. CONSTITUTION: In the method of manufacturing a single wavelength semiconductor laser, a diffraction grating layer(3) is formed on an n-InP substrate(2) through holographic or exposure method. In turn, layers of multiple quantum well activation layer(4), a photoelectric Ga layer(5), a p-InP clad layer(6) and a p-InGaAs layer(7) are formed. And a monitor PIN photoelectric detector is formed after etching. An InGaAsP/InGaAs layer(12) is formed on the exposed part of the n-InP substrate(2) and a p-InGaAsP layer(17) is formed making a first photoelectric detector along with the InGaAsP/InGaAs layer(18). Then a second photoelectric detector is formed with a semi-insulating InP layer(15), an n-InGaAs layer(14), an InGaAsP/InGaAs layer(12), a p-InP clad layer(11) and a p-InGaAs layer(10). A separating layer(9) is formed by inserting semi-insulating InP in to a trench formed by etching separating area for layer and photoelectric detection. Finally, a pair of electrodes are connected to the device.

    Abstract translation: 目的:提供具有不同吸收波长带的多个集成监视器光电检测器的单波长半导体激光器作为WDMA系统的光电源。 构成:在制造单波长半导体激光器的方法中,通过全息或曝光方法在n-InP基板(2)上形成衍射光栅层(3)。 反过来,形成多量子阱激活层(4),光电Ga层(5),p-InP包覆层(6)和p-InGaAs层(7)的层。 并且在蚀刻之后形成监视器PIN光电检测器。 在n-InP衬底(2)的暴露部分上形成InGaAsP / InGaAs层(12),并且形成与InGaAsP / InGaAs层(18)一起形成第一光电检测器的p-InGaAsP层(17)。 然后,第二光电检测器形成有半绝缘InP层(15),n-InGaAs层(14),InGaAsP / InGaAs层(12),p-InP包层(11)和p-InGaAs 层(10)。 通过将半绝缘InP插入到通过蚀刻用于层的分离区域和光电检测形成的沟槽中来形成分离层(9)。 最后,一对电极连接到设备。

    발진 파장 선택성 반도체 레이저소자
    34.
    发明授权
    발진 파장 선택성 반도체 레이저소자 失效
    振荡波长选择半导体激光装置

    公开(公告)号:KR100277719B1

    公开(公告)日:2001-02-01

    申请号:KR1019980054710

    申请日:1998-12-12

    Abstract: 본 발명은 발진 파장 선택성 반도체 레이저소자에 관한 것으로, 본 발명은 공진기 길이방향으로 개별 p-전극과 활성층으로 구성된 4개의 영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 광도파로에 연속회절격자가 형성된 구조의 제1반사영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 주기성 회절격자가 형성된 구조의 제2반사영역과, 상기 4개의 영역 중 하나를 구성하며 상기 제1 및 제2반사영역 사이에 형성되는 광이득 영역과, 상기 4개의 영역 중 나머지 하나를 구성하며 상기 제1 및 제2반사영역 사이에 형성되는 위상 보정 영역을 구비하여, 발진 파장 선택성 LD는 하나의 광소자 칩에서 임의의 WDM 광파장을 출력할 수 있어 상기 기존 광원을 대체하고, 기존의 다수의 LD와 광결합기로 구성된 광원이 가지는 고가격, 구성의 복잡성을 해소한다.

    방사각 조절 평면 매립형 반도체 레이저 장치
    35.
    发明授权
    방사각 조절 평면 매립형 반도체 레이저 장치 失效
    嵌入式可调平面嵌入式半导体激光器件

    公开(公告)号:KR100275520B1

    公开(公告)日:2001-01-15

    申请号:KR1019980026477

    申请日:1998-07-01

    Abstract: 본 발명은 방사각 조절 평면 매립형 반도체 레이저 장치에 관한 것으로, 반도체 레이저의 활성영역을 형성하기 위하여 에피 결정성장 후 방사각 조절영역의 광흡수 억제를 위한 식각 및 결정성장 없이 활성층 영역을 정의하기 위한 메사식각 공정에서 방사각 조절 광도파로를 제작함으로써 방사각 조절 광도파로를 통하여 작은 방사각을 얻어 광섬유와의 높은 광결합 효율을 얻을 수 있다.

    고출력리지웨이브가이드구조의반도체레이저와그제작방법
    36.
    发明授权
    고출력리지웨이브가이드구조의반도체레이저와그제작방법 失效
    高功率半导体激光器,具有导波导波结构及其制造方法

    公开(公告)号:KR100274155B1

    公开(公告)日:2001-01-15

    申请号:KR1019970037477

    申请日:1997-08-06

    Abstract: PURPOSE: A high power semiconductor laser having a ridge wave guide structure and a manufacturing method thereof are provided to suppress occurrence of higher order modes during a high power operation and obtain a stable basic mode operation characteristics even at high power by reducing a change in an effective refractive index in edge portions of the semiconductor laser. CONSTITUTION: A multiple quantum well structure of a buffer layer(5), a clad layer(6), an active layer(8), a clad layer(10), and an ohmic contact layer(12) is grown on a substrate(4) by a MOCVD or other growing method. Then, a semiconductor laser having a ridge wave guide structure having a ridge portion(16) and a channel portion(17) is produced by processes of photo-resist masking, and coating an insulating layer and electrodes. After etching the ridge portion, boundary regions with the channel portion are ion-implanted with a predetermined dopant material using a photo-resist mask or an oxide-mask so as to have alleviated bandgap and effective refractive index. After masking the ion-implanted regions, new regions in the vicinity of the ion-implanted regions are ion-implanted with a new dopant material using a photo-resist mask or an oxide-mask. The ion-implantations are repeated by the number of kinds of dopant materials to be implanted. The ion-implantations are repeated with dopant materials having bandgaps different from the bandgap or with different effective refractive indices according to depth of ion-implantation and dose of dopants. The resultant structure are subjected to an annealing process to produce a high power semiconductor laser having a ridge wave guide structure.

    Abstract translation: 目的:提供具有脊波导引结构的高功率半导体激光器及其制造方法,以抑制高功率操作期间的高阶模式的发生,即使在高功率下也能够通过减少高功率的变化而获得稳定的基本模式操作特性 在半导体激光器的边缘部分的有效折射率。 构成:在衬底上生长缓冲层(5),包覆层(6),有源层(8),包覆层(10)和欧姆接触层(12)的多量子阱结构( 4)通过MOCVD或其他生长方法。 然后,通过光刻胶掩模和涂覆绝缘层和电极的工艺制造具有脊部分(16)和沟道部分(17)的脊波导构造的半导体激光器。 在蚀刻脊部之后,使用光刻胶掩模或氧化物掩模,用预定的掺杂剂材料离子注入具有沟道部分的边界区域,以便减小带隙和有效折射率。 在掩蔽离子注入区域之后,使用光致抗蚀剂掩模或氧化物掩模,用离子注入区域附近的新的掺杂剂材料离子注入离子注入区域。 通过待植入的掺杂剂材料的种类数来重复离子注入。 用离子注入深度和掺杂剂剂量的带隙不同于带隙或不同有效折射率的掺杂剂材料重复离子注入。 对所得结构进行退火处理,以制造具有脊波导构造的高功率半导体激光器。

    평면 매립형 반도체 레이저
    37.
    发明授权
    평면 매립형 반도체 레이저 失效
    PLANE BURIED TYPE SEMICONDUCTOR LASER

    公开(公告)号:KR100243686B1

    公开(公告)日:2000-02-01

    申请号:KR1019970022975

    申请日:1997-06-03

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    반도체 레이저 제조 분야
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    본 발명은 부가 공정 없이 고출력을 얻을 수 있으며, 동시에 광섬유와 광결합 효율을 증가시키기 위하여 출력광의 크기를 증가시킬 수 있는 평면 매립형 반도체 레이저 장치를 제공하고자 한다.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    본 발명은 전면으로부터 후면을 향하여 그 폭이 선형적으로 증가하는 제1 영역과, 상기 선형 영역의 끝단의 폭을 상기 후면까지 연장한 제2 영역을 포함하는 활성층을 제안 하였다.
    4. 발명의 중요한 용도
    광통신, 특히 광송신기에 이용됨.

    복합 기능 광소자 및 그 제조 방법
    38.
    发明授权
    복합 기능 광소자 및 그 제조 방법 失效
    多功能光学装置及其形成方法

    公开(公告)号:KR100243659B1

    公开(公告)日:2000-02-01

    申请号:KR1019970015138

    申请日:1997-04-23

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    광소자 및 그 제조 방법
    2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
    기존의 광소자는 발광 또는 수광의 단일 기능을 가지는 개별 소자로 제조됨으로써 한 개의 소자가 하나의 기능만을 수행할 뿐 동시에 여러 기능을 함께 수행하는 것이 불가능하여 단일 기능을 가지는 기존의 광소자 여러 개로 이루어지는 광통신 단말기는 구성이 복잡하고 가격이 높은 단점이 있다.
    3. 발명의 해결 방법의 요지
    광 신호 송신, 수신 및 검출 기능을 수행하는 개별 레이저 다이오드, 포토다이오드 및 광출력 검출을 위한 모니터 포토다이오드 광소자가 하나의 소자 내에 구성되어 광통신 단말기를 이루는 복합 기능 광소자 및 그 제조 방법을 제공한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    광소자 및 그 제조 방법에 이용됨

    수직형광집적소자
    39.
    发明公开
    수직형광집적소자 失效
    垂直荧光集成装置

    公开(公告)号:KR1019990084770A

    公开(公告)日:1999-12-06

    申请号:KR1019980016754

    申请日:1998-05-11

    Abstract: 본 발명은 광 가입자망용 광통신 단말기에 구비되어 발광 및 수광의 기능을 하나의 광소자에서 동시에 수행하는 수직형 광 집적소자에 관한 것이다. 화합물 반도체 기판(1) 상에 서로 다른 밴드갭 에너지를 갖고, 1.3㎛ 파장의 광신호를 송신하하는 매립형 구조의 하부 활성층(하부 공진기)(3)과 이 위에 1.55㎛파장의 광신호를 수신하는 리지(ridge)형 구조의 상부 활성층(상부 공진기)(5)이 수직으로 적층된다. 그 공진기들 사이에 보조 광도파로(12)를 삽입하여서 하부 공진기의 레이저 광이 상부 공진기에서 흡수되는 것을 방지하면서 동시에, 하부 공진기로 입사한 1.55㎛파장의 광신호가 상부 공진기에 효율적으로 광결합되도록 한다. 또한, 음극인 하부 전극(10)과 상부 전극(9)이 기판 및 상부 공진기 위에 독립적으로 설치되고, 공통 양극전극(13)이 보조 광도파로(12) 위에 설치된 것이다. 이러한 본 발명은, 먼저 하부 공진기에서 1.3㎛ 파장의 레이저 발진이 일어나 광신호를 외부로 송신하며 동시에 외부에서 수직형 광소자로 입력되는 1.55㎛ 파장의 광신호는 하부 공진기에 입사한 후 1.55㎛ 파장의 광을 흡수하는 상부 공진기로 결합됨으로써 광신호 수신이 일어난다. 이와 같이 광신호 송신 및 수신 기능을 동시에 수행함으로써 광 가입자망에서 광통신 단말기를 구성하는 개별 LD 및 PD 광소자를 대체한다.

    알더블유지 구조의 고출력 반도체 레이저
    40.
    发明公开
    알더블유지 구조의 고출력 반도체 레이저 失效
    具有Al双保持结构的高功率半导体激光器

    公开(公告)号:KR1019990027329A

    公开(公告)日:1999-04-15

    申请号:KR1019970049766

    申请日:1997-09-29

    Abstract: 본 발명은 기존의 0.98μm 반도체 레이저에서 발생하는 COD(catastrophic optical damage)에 의한 수명단축 현상을 없앤 새로운 RWG(ridge waveguide) 구조의 0.98μm 반도체 레이저에 대한 것이다. 0.98μm 반도체 레이저에서 발생하는 COD의 원인이 되는 광 출력면에서의 온도상승을 억제하기위해 출력면 부근의 RWG 영역을 형성시키지 않음으로써 광 출력 분포를 확대시켜주기 위하여, 공진기 길이 방향으로 출력면 끝을 기준하여 30μm 위치에서 스트라이프가 정지 되도록 소정 폭과 소정 길이의 리지(ridge)를 형성시켜, 공진기 양쪽 끝 부분은 도파로가 없는(non waveguide) 영역이 형성된 레이저 구조를 제공한다. 이에따라 공진기 내에서 발생한 빛이 양쪽 출력면 부근에서는 증폭되지 않고 단순히 유효 굴절률이 다른 물질을 통과하도록 하여주어 횡 방향으로 광 출력 분포가 넓어지도록 하여 출력면에서의 열을 감소시킴으로써 고출력으로 오랜 시간 동작하여도 특성이 열화 되지 않는 반도체 레이저를 제공할 수 있다.

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