-
公开(公告)号:AU5070093A
公开(公告)日:1994-05-26
申请号:AU5070093
申请日:1993-11-15
Applicant: CANON KK
Inventor: SAITO KEISHI , AOIKE TATSUYUKI , SANO MASAFUMI , NIWA MITSUYUKI , HAYASHI RYO , TONOGAKI MASAHIKO
IPC: H01L31/075 , H01L31/18
-
公开(公告)号:DE3784541T2
公开(公告)日:1993-09-30
申请号:DE3784541
申请日:1987-04-15
Applicant: CANON KK
Inventor: SANO MASAFUMI
IPC: C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/24 , C23C16/44 , C23C16/452 , C23C16/455 , C30B25/02 , C30B28/14 , C30B29/06 , H01L21/205
-
公开(公告)号:DE3927353A1
公开(公告)日:1990-05-17
申请号:DE3927353
申请日:1989-08-18
Applicant: CANON KK
Inventor: SAITOH KEISHI , SANO MASAFUMI , MATSUDA KOICHI
IPC: G03G5/082
Abstract: Member has at least a photoconductive layer and a surface layer on a base. The photoconductive layer is composed of non-monocrystalline silicon including 1 10 at % of H and 5 15 at % of C, and having 0.01 0.05 ratio of expansion mode of C-H bond and that of Si-H bond by infrared ray absorbing spectral, and has the layer structure not including graphite structure, or including less than 1% of graphite structure per unit vol. The surface layer is composed of non-monocrystalline silicon carbide including 50 70 at % of H and 20 40 at % of C, and has the layer structure not including the graphite structure of including less than 1 % of graphite structure per unit vol. The charge injection preventing layer is formed between the base and the photoconductive layer.
-
公开(公告)号:AU7151587A
公开(公告)日:1987-10-22
申请号:AU7151587
申请日:1987-04-14
Applicant: CANON KK
Inventor: SANO MASAFUMI
IPC: C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/24 , C23C16/44 , C23C16/452 , C23C16/455 , C30B25/02 , C30B28/14 , C30B29/06 , H01L21/205 , H01L21/203 , H01L21/225 , H01L21/26 , H01L21/302
-
公开(公告)号:RU2402106C2
公开(公告)日:2010-10-20
申请号:RU2008143340
申请日:2008-10-31
Applicant: CANON KK , TOKIO INSTIT JUT OF TEKNOLODZHI
Inventor: SANO MASAFUMI , NAKAGAVA KATSUMI , KHOSONO KHIDEO , KAMIJA TOSIO , NOMURA KENDZI
IPC: H01L29/786
Abstract: Изобретениеотноситсяк аморфномуоксидуи полевомутранзисторус егоиспользованием. Сущностьизобретения: ваморфныйоксид, составкоторогоизменяетсяв направлениитолщиныслоя, содержитсоединение, имеющеев кристаллическомсостояниисостав, представленныйформулой In2-XM3XO3(Zn1-YM2YO)m, гдеМ2 - элементгруппы II сатомнымномеромменьше, чему Zn (например, Mg илиСа), М3 - элементгруппы III сатомнымномером, меньшечему In (например, В, Al, Ga или Y), хнаходитсяв промежуткеот 0 до 2, унаходитсяв промежуткеот 0 до 1, и m равно 0 илинатуральномучислу, меньшемучем 6, иприэтомаморфныйоксидимеетконцентрациюэлектронныхносителейнеменеечем 1012/см3 именеечем 1018/см3 иимеетподвижностьэлектронов, котораяувеличиваетсяс увеличениемконцентрацииэлектронныхносителей. Техническимрезультатомизобретенияявляетсяпредоставлениеаморфногооксида, которыйфункционируеткакполупроводникдляиспользованияв активномслоетранзистора. 3 н. и 4 з.п. ф-лы, 10 ил.
-
公开(公告)号:RU2390072C2
公开(公告)日:2010-05-20
申请号:RU2008122971
申请日:2006-11-01
Applicant: CANON KK
Inventor: AIBA TOSIAKI , SANO MASAFUMI , KADZI NOBUJUKI
IPC: B82B1/00 , H01L29/786
Abstract: Изобретениеотноситсяк полевымтранзисторамс использованиемаморфногооксидадляактивногослоя. Сущностьизобретения: вполевомтранзисторе, содержащемактивныйслойи изолирующуюзатворпленку, активныйслойсодержитслойоксида, содержащего In, Zn и Ga, аморфнуюобластьи кристаллическуюобласть, иприэтомкристаллическаяобластьотделенаотпервойповерхностираздела, котораяявляетсяповерхностьюразделамеждуслоемоксидаи изолирующейзатворпленкой, расстояниемв 1/2 илименеетолщиныактивногослояи находитсяв пределах 300 нмотповерхностиразделамеждуактивнымслоеми изолирующейзатворпленкойилинаходитсяв точечномсостояниив контактес этойповерхностьюраздела. Изобретениеобеспечиваетполучениеполевоготранзисторас высокойдрейфовойподвижностью. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.
-
公开(公告)号:RU2358355C2
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:RU2007121702
申请日:2005-11-09
Applicant: CANON KK , TOKIO INSTIT JUT OF TEKNOLODZH
Inventor: SANO MASAFUMI , NAKAGAVA KATSUMI , KHOSONO KHIDEO , KAMIJA TOSIO , NOMURA KENDZI
IPC: H01L29/786
Abstract: Использование: изобретениеможетбытьиспользованов микроэлектронике. Сущностьизобретения: вполевомтранзисторе, содержащемэлектродистока, электродстока, изоляторзатвора, электродзатвораи активныйслой, активныйслойсодержитаморфныйоксид, вкоторомконцентрацияэлектронныхносителейниже 1018/см3 ив которомподвижностьэлектроновувеличиваетсяс увеличениемконцентрацииэлектронныхносителей. Поменьшеймере, одинизэлектродаистока, электродастокаи электродазатвораявляетсяпрозрачнымдлявидимогосвета, приэтомток, протекающиймеждуэлектродомистокаи электродомстока, еслик электродузатворанеприложенонапряжение, непревышает 10 микроампер. Транзисторысогласноизобретениюобладаютулучшеннымихарактеристикамив отношении, поменьшеймере, одногоизсвойств: прозрачность, электрическиесвойстватонкопленочноготранзистора, свойствапленки, изолирующейзатвор, предотвращениетокаутечкии адгезивностьмеждуактивнымслоеми подложкой. 9 н. и 12 з.п. ф-лы, 12 ил.
-
公开(公告)号:BRPI0517560A
公开(公告)日:2008-10-14
申请号:BRPI0517560
申请日:2005-11-09
Applicant: CANON KK , TOKYO INST TECH
Inventor: SANO MASAFUMI , NAKAGAWA KATSUMI , HOSONO HIDEO , KAMIYA TOSHIO , NOMURA KENJI
IPC: H01L29/786 , H01L21/363
Abstract: A novel field-effect transistor is provided which employs an amorphous oxide. In an embodiment of the present invention, the transistor comprises an amorphous oxide layer containing electron carrier at a concentration less than 1×10−18/cm3, and the gate-insulating layer is comprised of a first layer being in contact with the amorphous oxide and a second layer different from the first layer.
-
公开(公告)号:CA2708335A1
公开(公告)日:2006-05-18
申请号:CA2708335
申请日:2005-11-09
Applicant: CANON KK , TOKYO INST TECH
Inventor: SANO MASAFUMI , NAKAGAWA KATSUMI , HOSONO HIDEO , KAMIYA TOSHIO , NOMURA KENJI
IPC: H01L29/26 , C01G9/02 , C01G15/00 , C01G19/02 , H01L21/363 , H01L29/772 , H01L29/786
Abstract: A novel amorphous oxide film applicable, for example, to an active layer of a TFT is provided. The amorphous oxide film has an electron carrier concentration of less than 10 18 /cm 3 at a temperature of 25° C, wherein the amorphous oxide is any one selected from the group consisting of an oxide containing In, Zn, and Sn; an oxide containing In and Zn; an oxide containing In and Sn; and an oxide containing In, Zn, and Ga. The oxide comprises one type of element or a plurality of elements selected from the group consisting of Li, Na, Mn, Ni, Pd, Cu, Cd, C, N, and P; or at least one element selected from the group consisting of Ti, Ru, and F.
-
公开(公告)号:AU2005302964A1
公开(公告)日:2006-05-18
申请号:AU2005302964
申请日:2005-11-09
Applicant: CANON KK , TOKYO INST TECH
Inventor: HOSONO HIDEO , SANO MASAFUMI , NOMURA KENJI , NAKAGAWA KATSUMI , KAMIYA TOSHIO
IPC: H01L21/363 , H01L29/786
Abstract: A novel field-effect transistor is provided which employs an amorphous oxide. In an embodiment of the present invention, the transistor comprises an amorphous oxide layer containing electron carrier at a concentration less than 1×10−18/cm3, and the gate-insulating layer is comprised of a first layer being in contact with the amorphous oxide and a second layer different from the first layer.
-
-
-
-
-
-
-
-
-