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公开(公告)号:EP0415143B1
公开(公告)日:1994-10-26
申请号:EP90115295.9
申请日:1990-08-09
Applicant: Alcatel SEL Aktiengesellschaft , ALCATEL N.V.
Inventor: Dütting, Kaspar , Wünstel, Klaus, Dr. rer. nat. , Mayer, Hans-Peter, Dr. rer. nat. , Lösch, Kurt, Dr. rer. nat.
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01J9/02 , G01J9/0246 , G01J2009/004 , G01J2009/0211
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公开(公告)号:EP0415143A3
公开(公告)日:1991-11-21
申请号:EP90115295.9
申请日:1990-08-09
Applicant: Alcatel SEL Aktiengesellschaft , ALCATEL N.V.
Inventor: Dütting, Kaspar , Wünstel, Klaus, Dr. rer. nat. , Mayer, Hans-Peter, Dr. rer. nat. , Lösch, Kurt, Dr. rer. nat.
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01J9/02 , G01J9/0246 , G01J2009/004 , G01J2009/0211
Abstract: Interferometrische Meßsysteme sind bekannt. Sie enthalten eine Lichtquelle zur Erzeugung kohärenten Lichtes und einen Interferometeraufbau, bestehend aus mindestens einem Strahlteiler und zwei Reflektoren sowie Linsen zur Bündelung des Lichtstrahls. Erfindungsgemäß dient ein solches Meßsystem zur Untersuchung des von einer Laserlichtquelle (1) ausgesandten Lichtbündels (30) auf Frequenz, Moden, Modenstabilität, Modenverteilung sowie Kohärenzlänge und Kohärenzzeit etc. Das Lichtbündel (30) wird durch eine Linse parallel gemacht, gelangt anschließend über den Strahlteiler (3) in zwei Teilbündel (31, 32) zu den Reflektoren (4, 5). Einer der beiden Teilbündel durchläuft ein Referenz-Interferenzmuster (7). Beide Teilbündel (31, 32) interferieren miteinander und werden über ein optisches System zur Verringerung der numerischen Apertur einem Photoempfänger (10) zugeführt. Besonders vorteilhaft ist es, wenn möglichst viele optische Bauelemente, insbesondere die Linse (2) der Strahlteiler (3) die Reflektoren (4, 5) und das Referenz-Interferenzmuster (7) auf einem Block (6) monolithisch integriert sind.
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公开(公告)号:KR1020130020001A
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:KR1020110082341
申请日:2011-08-18
Applicant: 한화테크윈 주식회사
Inventor: 구보타히데토시
CPC classification number: G01J9/00 , G01J2009/004
Abstract: PURPOSE: A method for measuring the resolution of an optical device is provided to improve measuring accuracy and to obtain robust properties with respect to a measurement environment. CONSTITUTION: A method for measuring the resolution of an optical device is as follows. An angle is detected from an arbitrary target area of a test chart desired to measure the resolution(210). The detected angle data is oversampled at an unequal space(220). The oversampled data is resampled while filtering the same so that an equal space data is obtained(230). A primary difference of the equal space data is obtained(240). The intensity and a phase of frequencies are obtained by performing Fourier transformation with respect to the obtained primary difference data(250). The obtained intensity data is standardized(270). [Reference numerals] (210) Detecting an angle; (220) Oversampling; (230) Resampling while filtering; (240) Primary difference; (260) Resampling while filtering; (270) Standardizing; (AA) Start; (BB) End
Abstract translation: 目的:提供一种测量光学器件分辨率的方法,以提高测量精度并获得关于测量环境的鲁棒性能。 构成:用于测量光学装置的分辨率的方法如下。 从期望测量分辨率的测试图表的任意目标区域检测角度(210)。 检测到的角度数据在不等的空间(220)被过采样。 对过采样数据进行重新采样,同时对其进行滤波,以获得相等的空间数据(230)。 获得相等空间数据的主要差异(240)。 频率的强度和相位通过相对于获得的主差分数据执行傅里叶变换来获得(250)。 获得的强度数据被标准化(270)。 (附图标记)(210)检测角度; (220)过采样; (230)过滤时重采样; (240)主要差异; (260)过滤时重采样; (270)标准化; (AA)开始; (BB)结束
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公开(公告)号:KR101615336B1
公开(公告)日:2016-04-25
申请号:KR1020150032275
申请日:2015-03-09
Applicant: 에이스기계 주식회사
CPC classification number: H05B6/6408 , G01J2009/004 , G01R23/10 , H05B6/664 , H05B6/725
Abstract: 본발명은저전력소모전기로에관한것이다. 이는, 금속재료를용융하기위한전기로로서, 고체인금속재료를장입하여액체상태로용융시키기위한내부공간을가지는용융탱크; 및상기용융탱크내에장입된금속재료를마이크로파를이용하여가열하여용융시키기위한고주파가열장치를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种功耗低的电炉。 这是用于熔化金属材料的电炉。 电炉包括:熔池,其具有用于容纳固态金属材料的内部空间并将其熔化成液态; 以及通过使用微波加热和熔化熔池中的金属材料的高频波加热装置。 因此,功耗可以最小化。
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