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公开(公告)号:CN105140089A
公开(公告)日:2015-12-09
申请号:CN201510599765.6
申请日:2011-07-28
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: H01J35/10 , H01J35/14 , H01J2235/081 , H01J2235/086 , H05G1/52
Abstract: 本发明名称是“用于电子束的磁控制的设备和方法”。用于x射线产生系统的电子束操纵线圈的设备和方法包括控制电路(68)的使用。控制电路(68)包括第一低压源(74)、第二低压源(76)和第一开关装置(90),所述第一开关装置(90)与第一低压源(74)串联耦合并且配置成在处于闭合位置时与第一低压源(74)创建第一电流通路(92)。控制电路还包括:第二开关装置(94),与第二低压源(76)串联耦合,并且配置成在处于闭合位置时与第二低压源(76)创建第二电流通路(96);以及电容器(86),与电子束操纵线圈(62)并联耦合,并且沿第一和第二电流通路(92,96)定位。
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公开(公告)号:CN103329239A
公开(公告)日:2013-09-25
申请号:CN201280005994.5
申请日:2012-01-17
Applicant: 普兰西欧洲股份公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/108 , H01J2235/081 , H01J2235/085
Abstract: 本发明涉及一种旋转式X射线阳极(10),其具有支撑主体(14)和形成于所述支撑主体(14)上的焦点路径(16)。所述支撑主体(14)和所述焦点路径(16)通过粉末冶金被制造为复合物,所述支撑主体(14)由钼或基于钼的合金形成,而所述焦点路径(16)由钨或基于钨的合金形成。此处,在最终热处理的所述旋转式X射线阳极(10)中,所述焦点路径(16)的至少一部分存在于非再结晶和/或局部再结晶的结构中。
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公开(公告)号:CN103119686A
公开(公告)日:2013-05-22
申请号:CN201180041159.2
申请日:2011-08-23
Applicant: 和鑫生技开发股份有限公司
Inventor: 王家琦 , 布鲁斯·布莱恩·帕森斯
IPC: H01J35/08
CPC classification number: H01J35/08 , H01J35/18 , H01J2235/081 , H01J2235/087
Abstract: 本发明提供一种用于透射X射线管的厚标靶。其涉及50微米以及更厚的厚标靶材料在X射线透射管上的使用;涉及可能的标靶材料组成,包含各种元素以及其合金、共晶合金、化合物或金属间化合物;以及涉及利用此类厚标靶透射X射线管的应用。所述标靶中有至少一部分的厚度是50微米或更大。所述标靶可任选地附接到衬底端窗上,所述衬底端窗基本上可透过X射线,或足够厚而无需此种衬底。应用包含产生高百分比的所述厚标靶的单色线发射X射线,以在剂量减少的医疗成像以及其他非破坏性测试应用中使用。
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公开(公告)号:CN102099888B
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN200980127866.6
申请日:2009-06-09
Applicant: 西门子公司
CPC classification number: H01J35/10 , H01J35/14 , H01J2235/068 , H01J2235/081 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种X射线源(2),其包括一种共用阳极(8)和多个在一纵向(3)上彼此间隔开的电子源(41..4n),所述共用阳极(8)布置在所述电子源对面且同样沿所述纵向(3)延伸。由所述电子源(41..4n)发射的电子沿所述纵向(3)彼此间隔开的多个位置上击中所述阳极(8),以便产生多个分离的发射中心(181..18n)。所述阳极(8)可围绕一沿所述纵向(3)定向的轴线(A)旋转。
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公开(公告)号:CN101368262B
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:CN200810213705.6
申请日:2006-04-28
Applicant: H.C.施塔克有限公司 , H.C.施塔克公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J35/108 , B22F7/08 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/085 , Y10T29/4902
Abstract: 本发明公开了一种向表面施加涂层的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体-粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导向物体的表面。
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公开(公告)号:CN102257591A
公开(公告)日:2011-11-23
申请号:CN200980150982.X
申请日:2009-12-14
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: M·D·德罗利
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/108 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/085 , H01J2235/088
Abstract: 本发明涉及在旋转阳极类型的X射线管中使用的混合阳极盘结构,并且,更具体地,涉及新型轻质阳极盘结构(RA),该新型轻质阳极盘结构包括沉积于旋转X射线管的阳极靶(AT)上的粘附促进保护碳化硅(SiC)夹层(SCI),其中,该阳极靶可以例如用碳-碳复合衬底(SUB’)制成。此外,提供一种用于将包括高Z材料的涂层(CL)(例如用钨铼合金制成的层)鲁棒地附着于所述阳极靶的表面上的制造方法,于是,根据所述方法,可以预见,在钨铼合金的沉积之前,将例如由钽(Ta)、铪(Hf)、钒(V)或铼(Re)层给予的难熔金属外涂层(RML)施加于碳化硅夹层(SCI)。因而,本发明充分利用热循环期间的碳化硅涂层的碳复合衬底(SUB’)的断裂的趋势,并且,通过联锁机制而提高碳化硅/难熔金属夹层与碳-碳复合衬底(SUB’)和焦点轨迹涂层(CL)的粘附。所提议的发明的关键方面是:a)碳化硅层(SCI)中的涂层裂缝(SC)的受控形成;和b)利用难熔金属来进行的SiC裂缝开口的共形填充。
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公开(公告)号:CN102224559A
公开(公告)日:2011-10-19
申请号:CN200980147255.8
申请日:2009-11-19
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: R·K·O·贝林
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/10 , H01J35/06 , H01J35/14 , H01J35/305 , H01J2235/06 , H01J2235/068 , H01J2235/081 , H01J2235/086
Abstract: 本申请描述一种用于X射线管的可转动阳极,其中,所述阳极包括适于被第一电子束击中的第一单元(901)、和适于被至少第二电子束击中的至少第二单元(902),其中所述第一单元和所述至少第二单元相互电绝缘。此外,本申请描述一种X射线系统,其中所述系统包括根据本说明的阳极、用于产生电子束的主阴极、用于影响第二电位的辅助阴极,其中所述主阴极适于产生第一电位,其中所述主阴极适于使所述电子束偏转以加热所述辅助阴极。此外,本申请显示用于确定电位的装置,所述电位通过检测电子束在根据本说明书的阳极上的撞击点和/或通过检测始自根据本说明书的阳极的辐射的X射线光谱而确定,其中所述电子束由阴极产生,其中所述电子束在撞击点击中阳极第一单元,其中所述电子束可被偏转,其中所述偏转电子束在撞击点击中所述阳极的所述第二单元,其中第一单元和/或第二单元发出辐射。
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公开(公告)号:CN102067267A
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200980123216.4
申请日:2009-04-30
Applicant: 阿尔卡特朗讯公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/10 , H01J2235/081 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种用于旋转靶的支撑件,其具有大致为中心穿孔的圆盘的形状。所述支撑件是由基于镍的结构硬化的超级合金的材料制成的并且其形状是具有周边薄区域的圆盘。该周边薄区域和围绕中心孔的厚区域被斜率在3°至10°之间的凹进区域隔开,并且所述周边薄区域与所述围绕中心孔的厚区域之间的厚度比是在1.5至3之间。所述超级合金是在加工后经过结构硬化处理的Inconel。该支撑件的各表面中的至少一个被覆以辐射覆盖层用以通过热辐射来排放热量。
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公开(公告)号:CN100525860C
公开(公告)日:2009-08-12
申请号:CN03159742.4
申请日:2003-09-24
Applicant: 美国西门子医疗解决公司
CPC classification number: H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/1204
Abstract: 一种X-射线靶部组件,它包括一个外壳,该外壳具有一个凹槽,容纳在所述凹槽中的冷却流体,以及与所述外壳连接的X-射线靶部,其中,所述X-射线靶部不直接接触所述冷却流体。
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公开(公告)号:CN101368262A
公开(公告)日:2009-02-18
申请号:CN200810213705.6
申请日:2006-04-28
Applicant: H.C.施塔克有限公司 , H.C.施塔克公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J35/108 , B22F7/08 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/085 , Y10T29/4902
Abstract: 本发明公开了一种向表面施加涂层的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体-粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导向物体的表面。
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