被覆膜とその製造方法およびPVD装置
    452.
    发明申请
    被覆膜とその製造方法およびPVD装置 审中-公开
    涂膜,其制造方法和PVD器件

    公开(公告)号:WO2016042629A1

    公开(公告)日:2016-03-24

    申请号:PCT/JP2014/074598

    申请日:2014-09-17

    Abstract:  低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく耐チッピング性や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびPVD装置を提供する。 基材の表面に被覆された膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき相対的に白黒で示される硬質炭素を有しており、白色の硬質炭素が厚み方向に網目状に連なっており、黒色の硬質炭素が網目の隙間に分散している網目状硬質炭素層がPVD法を用いて形成されており、網目状硬質炭素層をラマン分光法で測定したときラマン分光スペクトルのDバンドとGバンドのピークの面積強度比であるID/IG比が1~6である被覆膜。アーク式PVD法を用いて、基材温度が200℃を超え300℃以下に維持されるようにバイアス電圧、アーク電流、ヒーター温度等を制御すると共に、基材を自転および/または公転させながら基材の表面に硬質炭素膜を被覆する被覆膜の製造方法と装置。

    Abstract translation: 本发明提供一种涂膜及其制造方法以及不仅充分提高低摩擦特性和耐磨性的平衡,而且还能够提高抗碎裂性和耐剥离性的PVD装置。 该膜包覆基材表面,其中当在横截面的明场TEM图像中观察时,涂膜具有呈现相对较黑和白的硬碳,使用PVD方法形成网状硬碳层,所述层 具有沿着厚度方向延伸的净形状的白色硬碳和分散在网中的孔中的黑色硬碳,ID / IG比为1-6,所述比例为拉曼光谱D 使用拉曼光谱法测量网状硬碳层时的带峰面积强度和G带峰面积强度。 涂膜制造方法和装置使用电弧PVD法,并且在控制偏压,电弧电流和加热器温度等的同时,保持基板温度超过200℃但不超过300℃,还涂覆基板 通过旋转和/或旋转衬底来与硬碳膜表面。

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