被覆膜とその製造方法およびPVD装置

    公开(公告)号:JP2018123431A

    公开(公告)日:2018-08-09

    申请号:JP2018032182

    申请日:2018-02-26

    Abstract: 【課題】低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく、耐チッピング性(耐欠損性)や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびPVD装置を提供する。 【解決手段】基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき基材に対して垂直な方向に柱状に連なっている硬質炭素層が形成されており、硬質炭素層がPVD法を用いて形成されており、硬質炭素層をラマン分光法で測定したとき、ラマン分光スペクトルのDバンドとGバンドのピークの面積強度比であるID/IG比が1〜6である被覆膜。アーク式PVD法を用いて、基材温度が250〜400℃に維持されるように、バイアス電圧、アーク電流、ヒーター温度および/または炉内圧力を制御すると共に、基材を自転および/または公転させながら基材の表面に硬質炭素膜を被覆する被覆膜の製造方法と装置。 【選択図】図1

    摺動部材及び被覆膜
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2018235750A1

    公开(公告)日:2020-06-18

    申请号:JP2018023026

    申请日:2018-06-15

    Abstract: 【課題】一定で安定した耐チッピング性と耐摩耗性を示すとともに耐剥離性(密着性)に優れる被覆膜を有する摺動部材、及びその被覆膜を提供する。 【解決手段】基材11の摺動面16に硬質炭素層からなる被覆膜1を有する摺動部材10であって、被覆膜1は、断面を明視野TEM像により観察したとき、相対的に黒で示される黒色の硬質炭素層Bと相対的に白で示される白色の硬質炭素層Wとを含む繰り返し単位が厚さ方向に積層されて1μm〜50μmの範囲内の厚さを有し、被覆膜1は、基材側に設けられて、繰り返し単位のうち白色の硬質炭素層Wの厚さが厚さ方向に徐々に大きくなる傾斜領域2と、摺動部材10の表面側に設けられて、繰り返し単位のうち白色の硬質炭素層Wの厚さが厚さ方向で同じ又は略同じ均質領域3とを有するように構成して上記課題を解決した。 【選択図】図2

    被覆膜とその製造方法およびPVD装置

    公开(公告)号:JP2018127719A

    公开(公告)日:2018-08-16

    申请号:JP2018063981

    申请日:2018-03-29

    Abstract: 【課題】低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく耐チッピング性や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびPVD装置を提供する。 【解決手段】基材の表面に被覆された膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき相対的に白黒で示される硬質炭素を有しており、白色の硬質炭素が厚み方向に網目状に連なっており、黒色の硬質炭素が網目の隙間に分散している網目状硬質炭素層が形成されており、網目状硬質炭素層をラマン分光法で測定したときラマン分光スペクトルのDバンドとGバンドのピークの面積強度比であるID/IG比が1〜6であり、網目の隙間に分散している黒色の硬質炭素が、非晶質硬質炭素からなる、または非晶質硬質炭素とグラファイト結晶とからなる被覆膜。 【選択図】図1

    非晶質カーボン被膜の製造方法、非晶質カーボン被膜及び切削工具

    公开(公告)号:JP2018168397A

    公开(公告)日:2018-11-01

    申请号:JP2017064520

    申请日:2017-03-29

    Abstract: 【課題】高い耐久性を有する非晶質カーボン被膜の製造方法、当該非晶質カーボン被膜及び当該非晶質カーボン被膜を有する切削工具を提供する。 【解決手段】基材の表面に炭素を蒸着させることにより非晶質カーボン被膜をベース被膜として形成する基礎成膜工程の後に、基材の表面に形成された非晶質カーボン被膜の表面を研磨する被膜研磨工程と、被膜研磨工程において研磨された非晶質カーボン被膜の表面に炭素を蒸着させることにより非晶質カーボン被膜を追加被膜として形成する追加成膜工程と、の組み合わせを少なくとも1回実行することにより、1層のベース被膜と少なくとも1層の追加被膜とからなる複数層の非晶質カーボン被膜を基材の表面に形成する。外表面を構成する追加被膜の厚みは小さいことが望ましい。基礎成膜工程の前に基材の表面を研磨する基材研磨工程を実行してもよい。 【選択図】図1

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