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公开(公告)号：KR101929023B1
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：KR1020170124082
申请日：2017-09-26
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본 발명에 따른 다층 구조의 정제함에는 불순물 제거제가 수납된 복수 개의 트레이가 적층되고, 적층된 각 트레이의 하중은 개별적으로 정제함에 인가된다. 구체적인 예로서, 수분 흡착제가 수납된 트레이들, 산소 촉매제가 수납된 트레이들, 수분 흡착제가 수납된 트레이들이 순서대로 정제함에 배치될 수 있다. 즉, 산소 촉매제나 수분 흡착제 등 불순물 제거를 위해 사용되는 재료의 하중이 다층 구조의 트레이에 골고루 분산된다. 이로 인하여 가스를 정제할 때의 기류 정압을 크게 낮출 수 있고, 기류 정압이 낮아짐에 따라 링 블로워를 사용하지 않고 전력량이 적은 로터 팬(Rotor Fan)을 사용할 수 있으며, 발열 문제를 해결하고, 전력 소비도 줄일 수 있게 된다.
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公开(公告)号：KR101902809B1
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：KR1020170136201
申请日：2017-10-20
IPC: H01L31/18 , G03F5/00 , H01L31/02 , H01L31/0224
CPC classification number: H01L31/18 , G03F5/00 , H01L31/02002 , H01L31/022425
Abstract: 본발명에따른태양전지용스텐실마스크는금속재질의판을레이저로가공하여구성될수 있으며, 버스바 전극과핑거전극을형성하기위한개구부들사이의지지구조를유지하면서전극간 단절을방지할수 있도록전극패턴이형성된다. 각버스바 전극패턴에는다수의버스바 전극개구부들이구비되는데, 각버스바 전극개구부는인접한버스바 전극개구부와일정거리만큼떨어져있도록구성되며, 각핑거전극에대응하는핑거전극개구부는서로일정거리만큼떨어져있도록분리되어구성된다. 미세선폭으로구현할수 있어종래스크린기술을이용할때에비해핑거전극의수를늘려전자수집이용이하고, 고점도페이스트를사용하여퍼짐성을감소시킬수 있으며, 은(Ag) 페이스트의소모량을절감할수 있다. 또한, 인쇄된전극은높은종횡비를가질수 있어원하는전기전도도를얻을수 있게된다.
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公开(公告)号：KR101822128B1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：KR1020150188064
申请日：2015-12-29
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착장치용샘플거치대및 그샘플거치대를갖는증착장치에관한것으로, 보다구체적으로는증착대상인샘플의온도조절을효과적으로수행하여고품질의증착이가능하며, 전자파(EMI) 차폐증착공정중에샘플을전기적으로보호할수 있는증착장치용샘플거치대및 그샘플거치대에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020170093064A
公开(公告)日：2017-08-14
申请号：KR1020170008717
申请日：2017-01-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착챔버장치에관한것으로, 보다구체적으로는샘플이부착된필름을샘플거치대에적절한압력으로밀착되게할 수있으므로간단한구조로필름의변형이나파손의우려없이샘플의온도조절을효과적으로수행할수 있는증착챔버장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种沉积室装置，并且更具体euroneun样品附着到膜上的是在紧密接触以适当的压力对所述样品架，从而以简单的结构，可以有效地没有膜的变形或断裂的风险进行样品的温度控制 到沉积室装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170071075A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：KR1020150178968
申请日：2015-12-15
Applicant: (주)에스엔텍
IPC: C23C16/50 , C23C16/513 , C23C16/48 , C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 본발명은레이저를이용한증착장치용챔버에관한것으로, 보다구체적으로는레이저가투과되는창에플라즈마의세기가국부적으로제한되게하여, 창의내면에증착물질이증착되는것을방지함으로써, 증착효율을향상시킬수 있는레이저를이용한증착장치용챔버에관한것이다.
Abstract translation: 使用激光，并且更具体euroneun使激光是等离子体强度局部限制于该传输窗本发明涉及一种用于气相沉积装置的室中，可以通过防止沉积在窗口的内表面上的沉积材料提高沉积效率 用于使用激光器的沉积设备的腔室。
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公开(公告)号：KR1020170023035A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：KR1020170008720
申请日：2017-01-18
Applicant: (주)에스엔텍
CPC classification number: H01L21/02274 , H01L21/02252 , H01L21/02315 , H01L21/0234 , H01L21/67248 , H05H1/46
Abstract: 본발명은증착방법에관한것으로, 보다구체적으로는증착공정의온도조절이용이하여저온증착에유리하며, 증착대상인샘플의냉각효율을증대시켜고품질의증착이가능하며, 샘플의측면과모서리부분을균일하게증착할수 있는증착방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101701356B1
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：KR1020150037386
申请日：2015-03-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은스퍼터링장치및 스퍼터링방법에관한것으로, 보다구체적으로는기재의측면증착이용이하여기재의외면을고루증착할수 있는스퍼터링장치및 스퍼터링방법에관한것이다.
Abstract translation: 溅射装置和方法技术领域本发明涉及一种溅射装置和方法，更具体地涉及一种溅射装置和方法，其能够均匀地沉积作为基板的侧面沉积的基板的外表面。 溅射装置包括：真空室; 形成在真空室内的靶，用于将沉积材料分散到基底上; 在所述真空室内形成为与所述靶相反的衬底转印单元; 以及形成在所述基板转印单元中的姿势控制单元，用于控制所述基板的姿势。
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