公开(公告)号：CN102066925A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200980123355.7

申请日：2009-04-17

Applicant: 三菱电机株式会社 ,  东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 生沼学 ,  稻永康隆 ,  野田清治 ,  谷村泰宏 ,  田畑要一郎 ,  渡边谦资

IPC: G01N31/00 ,  H05H1/00 ,  H05H1/24 ,  G01N21/35

CPC classification number: G01N33/0013

Abstract: 本发明提供在大气压附近实时地测定氮原子密度的氮原子测定方法。氮原子测定方法，是在大气压附近测定氮原子的密度的氮原子测定方法，具有以下步骤：对于在氮原子发生源中发生的含有氮原子的气体中的规定量，在上述氮原子发生源的下游，混合浓度已知的规定量的一氧化氮气；上述含有氮原子的气体与混合的上述一氧化氮气的反应后，测定一氧化氮的密度和二氧化氮的密度；使用如下关系算出氮原子密度：氮原子密度为从上述一氧化氮气的已知的浓度减去测定的上述一氧化氮的浓度和测定的上述二氧化氮的浓度之和所得到的差。

公开(公告)号：CN117426143A

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202280037972.0

申请日：2022-05-18

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 有田廉 ,  渡边谦资

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明的目的在于得到一种活性气体生成装置，能够将高浓度的活性气体从气体喷出口向后级的处理空间供给。本发明的活性气体生成装置(51)为，在电极用介电膜(30)与电极用介电膜(40)相对置的空间即主要电介质空间内，电极用导电膜(31)以及(41)在俯视时重叠的区域被规定为主要放电空间(50)。在电极用介电膜(30)与屏蔽介电膜(8)相对置的空间即辅助电介质空间内，包括电介质贯通口(14)以及罩贯通口(15)的区域被规定为辅助放电空间(58)。辅助放电空间(58)包括屏蔽介电膜(8)上方的缓冲空间的一部分(9)，从辅助放电空间(58)到达气体喷出口(61、62)的路径被规定为活性气体流通路径。

公开(公告)号：CN113170567B

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN201980077109.6

申请日：2019-11-12

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 有田廉 ,  渡边谦资

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置的结构，能够有意图地减弱在装置的后级设置的处理空间的电场强度，并且将活性气体的失活量抑制在必要最小限度。而且，在本发明的活性气体产生装置(101)中，设置于电极用电介质膜(11)上的辅助导电膜(12)以俯视时与活性气体流通路径的一部分重叠的方式设置，并且辅助导电膜(12)被设定为接地电位。设置于电极用电介质膜(21)上的活性气体用辅助部件(60)设置为，在电极用电介质膜(11)和(21)之间的电介质空间内，在放电空间(6)与气体喷出孔(23)之间填埋活性气体流通路径的一部分而限制为活性气体流通用间隙。

公开(公告)号：CN111527796B

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN201880084691.4

申请日：2018-01-10

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 渡边谦资 ,  西村真一 ,  有田廉 ,  山田义人 ,  田畑要一郎

IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/452 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  H05H1/30

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够生成优质的活性气体的活性气体生成装置。然后，本发明具有特征(一)～特征(三)。特征(一)为“以接地侧电极构成部(2X)支承高压侧电极构成部(1X)的方式构成活性气体生成用电极组(300)”。特征(二)为“具有设置在高压侧电极构成部(1X)的电介质电极(110)的放电空间外区域、向下方突出的台阶部(115H，115M，115L)，通过这些台阶部的形成高度(S15)来规定放电空间(68)的间隙长度”。特征(三)为“高压侧电极构成部(1X)及接地侧电极构成部(2X)分别将放电空间形成区域(R68)的厚度形成得比较薄，并且将上述放电空间外区域的厚度形成得比较厚”。

公开(公告)号：CN112703582A

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201980058546.3

申请日：2019-08-22

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 渡边谦资 ,  有田廉

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/448 ,  H05H1/24

Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置，不将放电空间分割为多个、且施加1种交流电压，就能够向外部喷出包含活性气体浓度相互不同的多种局部活性气体的活性气体。在本发明中，高电压侧电极构成部(1A)包括电介质电极(111)及形成在电介质电极(111)的上表面上的金属电极(101H、101L)。电介质电极(111)成为沿着X方向而膜厚连续地变化的构造。即，电介质电极(111)的右端的膜厚被设定为厚度dA1，左端的膜厚被设定为厚度dB1(＞dA1)，沿着X方向从右端到左端而连续地变厚。

公开(公告)号：CN111527796A

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN201880084691.4

申请日：2018-01-10

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 渡边谦资 ,  西村真一 ,  有田廉 ,  山田义人 ,  田畑要一郎

IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/452 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  H05H1/30

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够生成优质的活性气体的活性气体生成装置。然后，本发明具有特征(一)～特征(三)。特征(一)为“以接地侧电极构成部(2X)支承高压侧电极构成部(1X)的方式构成活性气体生成用电极组(300)”。特征(二)为“具有设置在高压侧电极构成部(1X)的电介质电极(110)的放电空间外区域、向下方突出的台阶部(115H，115M，115L)，通过这些台阶部的形成高度(S15)来规定放电空间(68)的间隙长度”。特征(三)为“高压侧电极构成部(1X)及接地侧电极构成部(2X)分别将放电空间形成区域(R68)的厚度形成得比较薄，并且将上述放电空间外区域的厚度形成得比较厚”。

公开(公告)号：CN107079575B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201480083011.9

申请日：2014-10-29

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 田畑要一郎 ,  渡边谦资 ,  西村真一

IPC: H05H1/46 ,  C23C16/50 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明提供一种即使是大面积的被处理体也能够实施均匀的使用了自由基气体的处理的放电发生器及其电源装置。本发明所涉及的放电发生器及其电源装置具备自由基气体生成装置(100)、处理室装置(200)和n相逆变器电源装置(9)。在处理室装置(200)相邻配置自由基气体生成装置(100)，自由基气体生成装置(100)具有多个(n个)放电单元(70)。n相逆变器电源装置(9)采用具有能够对n相的交流电压进行输出控制的手段的电源电路结构，对应于所述放电单元(70)的设置位置对各相的交流电压进行可变控制。

公开(公告)号：CN111052873A

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201780093717.7

申请日：2017-09-06

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 有田廉 ,  渡边谦资 ,  西村真一

IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08

Abstract: 本发明的目的是提供一种抑制异常放电的发生的活性气体生成装置的构造。并且，在本发明的活性气体生成装置中，供电体(23)设在高电压侧电极构成部(1)的金属电极(10A及10B)的上方，具有在俯视时将高电压侧电极构成部(1)的金属电极(10A及10B)的整体覆盖的形状。供电部(33A及33B)分别设在接地侧电极构成部(2)的金属电极(20A及20B)的下方，具有在俯视时将接地侧电极构成部(2)的金属电极(20A及20B)的整体覆盖的形状。

公开(公告)号：CN109477220A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201680087274.6

申请日：2016-06-28

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 西村真一 ,  渡边谦资 ,  山田义人

IPC: C23C16/505 ,  C01B13/11 ,  H05H1/24

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够喷出均匀性高的活性气体的活性气体生成装置。而且，关于本发明的电介质电极(21)，在中央区域(R51)中沿着X方向设置相互沿着X方向形成为2列结构的气体喷出孔(31)～(37)和气体喷出孔(41)～(47)来作为3个以上的多个气体喷出孔。而且，通过在气体喷出孔31和气体喷出孔41的形成位置设置X方向的差分，2列结构的气体喷出孔(31)～(37)和气体喷出孔(41)～(47)沿着X方向而气体喷出孔(3i)与气体喷出孔(4i)交替地配置。

公开(公告)号：CN108292603A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680068427.2

申请日：2016-01-06

Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

Inventor： 西村真一 ,  渡边谦资 ,  田畑要一郎

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/455 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够以超过马赫的超高速向处理对象衬底供给气体的气体供给装置。并且，本发明的气体供给装置的气体喷出器(1)具有喷嘴部(10)。构成喷嘴部(10)的第一段限制筒(13)的开口部截面形状呈直径r1的圆形。第二段限制筒(14)沿着Z方向与第一段限制筒(13)连续地形成，开口部截面形状呈直径r2的圆形，将从第一段限制筒(13)供给的原料气体(G1)向下方的低真空处理腔(18)进行供给。这时，直径r2被设定为满足“r2>r1”。