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公开(公告)号:KR1019970016806A
公开(公告)日:1997-04-28
申请号:KR1019950029295
申请日:1995-09-07
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 김철홍
IPC: G03F7/20
Abstract: 본 발명은 투영 노광 방법에 관한 것으로서, 투영 노광 장치에 있어서, 특정파장대의 빛이 투과하는 제 1영역 ; 및 특정 파장대의 빛이 투과하지 못하는 제 2영역으로 분할됨을 특징으로 밴드패스필터를 포함하는 투영 노광 장치이다.
따라서 밴드패스필터에 투과 및 비투과막을 분할함으로써, 개구를 조절해야 하는 번거로움을 없애고, 인위적으로 빛을 차단하지 않아 균일도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.-
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公开(公告)号:KR1019970012017A
公开(公告)日:1997-03-29
申请号:KR1019950028523
申请日:1995-08-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 김철홍
IPC: G03F7/20
Abstract: 반도체 사진 공정에서 사입사광을 얻는 변형 조명 방법을 개시한다. 사입사 조명법인 ATOM(Advancde Tilted illumination On Mask)변형 조명 방법에 있어서, 마스크상에 설치되어 있는 그레이팅(grating)을 플라이즈 아이(fly's eye)렌즈 뒷면에 설치한 것을 특징으로 하는 변형 조명 방법을 제공한다.
본 발명에 의하면, 그레이팅(grating)을 플라이즈 아이(fly's eye)렌즈 뒷면에 설치함으로써 플라이즈 아이(fly's eye) 렌즈와 웨이퍼 면 상이에 광의 손실이 없으므로 노광장비의 적분(integrator)기능을 100% 사용할 수 있으므로, 광원의 세기에 따라 매번 입력에너지가 변하는 문제를 해결하고 기존의 마스크클 그대로 사용함으로써 검사나 제작상의 어려움이 없어지게 된다.-
公开(公告)号:KR1019970007802A
公开(公告)日:1997-02-21
申请号:KR1019950021375
申请日:1995-07-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 김철홍
IPC: G11B5/09
Abstract: 가변속 오디오신호 재생장치 및 그 방법을 공개한다. 그 장치는 제1클럭신호에 동기되어 아날로그 오디오 신호를 디지탈 변환하는 아날로그-디지탈 변환수단; 사용자의 재생 배속 N의 선택에 따라 상기 아날로그-디지탈 변환수단으로부터 디지탈 변환된 오디오 신호의 단자음 및 단모음 부분을 1/N로 복제하여 확장하거나 삭제하는 신호 처리수단; 제2클럭신호에 동기되어 상기 신호 처리수단으로부터의 디지탈 오디오 신호를 아날로그 신호로 변환하는 디지탈-아날로그 변환수단; 및상기 제1클럭신호 및 상기 제2클럭신호를 발생하는 클럭 발생수단을 구비한 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 샘플링 주파수를 그대로 두고, 단자음 및 단모음 신호 부분을 복제하여 확장하거나, 그 일부분을 삭제함으로써 음질이 떨어짐이 없이 사용자가 원하는 재생 배속으로 청취가 가능하다는 잇점이 있다.
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公开(公告)号:KR1019970002479A
公开(公告)日:1997-01-24
申请号:KR1019950019039
申请日:1995-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/701 , G03F7/70108 , G03F7/70158
Abstract: 그레이팅마스크를이용한투영노광장치에대해기재되어있다. 이는, 그레이팅마스크를사용한투영노광장치에있어서, 상기그레이팅마스크가패턴을전사할포토마스크와분리되어위치하는것을특징으로한다. 따라서, 1매의그레이팅마스크만으로사입사조명방법을구현할수 있고, 그레이팅마스크를다량으로제조할필요가없으며, 포토마스크및 그레이팅마스크의검사도가능한잇점이있다.
Abstract translation: 描述使用光栅掩模的投影曝光设备。 这是因为在使用光栅掩模的投影曝光设备中,光栅掩模与图案将被转移到的光掩模分离。 因此,可以仅使用一个光栅掩模来实现网状照明方法,并且不需要制造大量的光栅掩模,并且检查光掩模和光栅掩模也是有利的。
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公开(公告)号:KR1019970000149B1
公开(公告)日:1997-01-04
申请号:KR1019900009872
申请日:1990-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G11B5/48
Abstract: The method is provided for controlling a DFG-type DPG by using a DPG except for DFG in operating a VTR head drum, and comprises the steps of; checking a DPG pulse from the head drum operator and the time between DPG pulses to calculate the length of the pulses and calculate the error by subtracting the reference value from the length; certifying whether the error from the above step is a magnet error; increasing a correction unit to get a variable error value and a reference value by the error value for a magnet error, putting out the error-corrected voltage to the head drum operator to control the head drum.
Abstract translation: 该方法用于通过在操作VTR磁头鼓中使用DFG以外的DPG来控制DFG型DPG,并且包括以下步骤: 从头鼓操作员检查DPG脉冲和DPG脉冲之间的时间来计算脉冲的长度,并通过从长度中减去参考值来计算误差; 证明上述步骤的误差是否为磁铁误差; 增加校正单元以通过磁误差的误差值获得可变误差值和参考值,将误差校正的电压输出到磁头鼓操作器以控制磁头鼓。
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公开(公告)号:KR1019960019258A
公开(公告)日:1996-06-17
申请号:KR1019940029358
申请日:1994-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 김철홍
IPC: G11B27/02
Abstract: [1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야]
영상신호를 편리하게 녹화 및 재생하는 방법 및 회로의 관련된 기술이다.
[2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제]
기록매체에 특정한 프로그램의 영상 신호를 녹화하거나 녹화된 영상신호를 재생할시 사용자의 수동조작을 보다 줄일 수 있고, 서로 다른날에 녹화된 동일 종류의 프로그램을 연속적으로 재생할 수 있는 간편녹화 방법 및 회로를 제공한다.
[3. 발명의 해결방법의 요지]
수신계를 통해 획득된 영상신호를 해당 프로그램별로 기록매체상에 녹화하는 방법은; 녹화관련 키의 입력에 대응되어 발생되는 녹화관련 데이타를 내부 메모리에 저장하기 위한 단계와; 녹화시각 데이타를 주기적으로 체크하고, 현재의 시각이 녹화시각에 도달되기 이전에, 상기 기록매체의 오디오 트랙내에 인덱스 코드를 삽입함에 의해 상기 기록매체를 포맷하는 단계와; 상기 녹화시각이 될때마다 상기 기록매체를 이송시켜 상기 해당 프로그램의 번호에 대응하는 상기 인덱스 코드를 상기 오디오 트랙으로부터 검색하고, 검색된 지점의 선두를 기준으로 상기 영상신호를 기록매체상에 녹화하는 단계를 포함한다.
[4. 발명의 중요한 용도]
영상신호 기록 및 재생장치의 운용에 적합하게 사용된다.-
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公开(公告)号:KR1019940007983A
公开(公告)日:1994-04-28
申请号:KR1019930017473
申请日:1993-09-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/20
Abstract: 반도체장치의 리소그래피(Lithography)공정중에 사용되는 변형 조명방법을 이용한 투영 노광 방법 및 이를 사용한 투영 노광 장치 및 상기 노광 장치에 사용되는 마스크가 제공된다. 콘덴서 렌즈를 통과한 빛의 0차 회절된 수, 입사성분을 제거하고, -/+1차로 회절된 빛의 경사성분을 강화한후 패턴이 형성되어 있는 마스크에 상기 사입사 성분의 빛을 조명하여 피노광물을 노광한다. 상기 빛의 수직입사 성분은 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 있는 그레이팅 마스크에 의해 광의 위상차이로 인하여 간섭되어 제거되는 반면에, 1차로 회절된 빛은 강화된다. 콘트라스트가 증가되어 리토그래피 공정의 해상도가 개선되고, 촛점 심도로 증가한다. 64MDRAM급의 패턴을 종래의 투영 노광 장치로 형성할수 있다.
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