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公开(公告)号：KR1020000013118A
公开(公告)日：2000-03-06
申请号：KR1019980031795
申请日：1998-08-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박철규
IPC: H01L21/3063
Abstract: PURPOSE: An etching method of semiconductor device using electrolyte and etching system using thereof are provided to flat of a surface of a wafer. CONSTITUTION: The etching system comprises a electronic pedestal for safely receiving a wafer, a process chamber having electrolyte and the electronic pedestal safely received the wafer, and electronic stand installed at predetermined intervals with the electronic pedestal. The wafer is loaded on the electronic pedestal of the process chamber. A surface of the wafer is etched by supplying negative voltage to the electronic pedestal and positive voltage to the electronic stand.
Abstract translation: 目的：使用电解质的半导体器件及其蚀刻系统的蚀刻方法设置在晶片表面的平面上。 构成：蚀刻系统包括用于安全地接收晶片的电子基座，具有电解质的处理室和安全地接收晶片的电子基座以及以电子基座预定间隔安装的电子支架。 晶片装载在处理室的电子底座上。 通过向电子支架提供负电压并向电子支架提供正电压来蚀刻晶片的表面。
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公开(公告)号：KR100219419B1
公开(公告)日：1999-10-01
申请号：KR1019960035552
申请日：1996-08-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 본 발명은 공정이 이루어질 때 운영상태의 파악이 용이한 반도체 제조장비의 열교환 시스템에 관한 것이다.
즉, 본 발명은 유체 저장탱크와, 상기 탱크 내에 저장된 유체를 가열시킬 수 있는 가열기 및 유체가 상기 탱크에 유입되기 전의 위치에 설치되어 유체를 냉각시키는 냉각기를 구비하며, 유체순환 배관라인을 통하여 상기 배관라인과 연결된 반도체 제조장비 본체에 적정한 온도조건을 유지시키는 반도체 제조장비의 열교환 시스템에 있어서, 탱크의 수준을 감지하는 유체 상·하위센서와 접속되어 유체의 수준을 표시하는 하나 이상의 점멸기와 유체 저장탱크의 과열센서와 배관의 플로우 감지기에 각각 접속되어 온도와 유속의 이상을 경고하는 하나 이상의 경고등 및 온도와 유속을 표시하는 하나 이상의 표시장치를 구비한 모니터 박스가 상기 반도체 제조장비 본체에 근접되게 설치되어 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 열교환 시스템의 이상으로 인한 공정의 중단이나 안전사고를 미연에 방지하는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980043749A
公开(公告)日：1998-09-05
申请号：KR1019960061711
申请日：1996-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박철규
IPC: H01L21/08
Abstract: 진공상태를 유지하는 공정챔버 및 로드락챔버 등의 진공챔버내에서 동작하는 기구적인 구동부에 진공챔버의 외부로부터 동력을 전달하기 위해 공정챔버를 관통하여 설치된 구동축의 지지부 시일장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 상기 구동축(12)과 진공챔버(11) 사이에 구동축의 외주연에 내주연이 밀착되고, 외주연은 하방으로 갈수록 좁아지는 테이퍼 형상으로 형성되어 구동축의 회전을 지지하는 회전지지부재(13)와, 상기 진공챔버에 고정되어 상기 회전지지부재를 외측에서 반경방향으로 가압하는 밀착부재(14)와, 상기 진공챔버의 내측에 고정된 시일커버(16)와, 상기 시일커버와 구동축 사이에 설치되어 구동축과 시일커버 사이의 기밀을 유지하는 시일부재(17)로 이루어진다.
따라서 회전지지부재의 내주연에 형성된 홈이 구동축에 묻은 이물질을 제거함으로써 이물질이 구동축을 통해 진공챔버 내부로 침투하여 내부를 오염시키는 것이 방지되는 것이고, 회전지지부재의 외주연이 테이퍼형상으로 형성되어 구동축쪽으로 더욱 밀착됨으로써 회전지지부재의 마모로 인해 리크가 발생하는 것이 방지되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980005722A
公开(公告)日：1998-03-30
申请号：KR1019960022649
申请日：1996-06-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박철규
IPC: H01L21/304
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公开(公告)号：KR102171211B1
公开(公告)日：2020-10-28
申请号：KR1020130112340
申请日：2013-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B24B53/017 , B24B37/20 , H01L21/306
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150034866A
公开(公告)日：2015-04-06
申请号：KR1020130114143
申请日：2013-09-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24B21/002 , B24B9/065 , B24B37/02
Abstract: 본발명의연마장치는주연부가노출된웨이퍼가탑재할수 있는척과, 상기웨이퍼의주연부를연마할수 있는연마헤드와, 상기웨이퍼의연마시에상기웨이퍼상부에설치되고, 상기연마액을분사시켜상기척의상부에상기웨이퍼를보호하도록액체커튼을형성할수 있는연마액공급어셈블리를포함한다.
Abstract translation: 本发明的研磨装置包括：夹持露出周边部分的晶片的卡盘，抛光晶片的周边部分的抛光头和安装在晶片的上部的抛光液供给组件 晶片抛光晶片并形成液幕以扩散抛光溶液并保护夹头上部的晶片。
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公开(公告)号：KR100729229B1
公开(公告)日：2007-06-15
申请号：KR1020000055141
申请日：2000-09-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 웨이퍼의 연마 정도를 확인하는 횟수를 증가하여 연마 종말점을 정확하게 검출하는 장치가 개시되어 있다. 연마 패드 내에 광을 투과하는 다수개의 투과창을 구비하고 상기 연마 패드의 하부에 연마의 정도를 확인하는 확인 수단이 구비된다. 상기 확인 수단은 발광부 및 수광부를 포함하는 연마 확인부와, 상기 연마 확인부가 좌우 이동하는 이동라인이 되는 리드 스크류와, 상기 리드 스크류를 따라 상기 연마 확인부의 좌우 이동을 수행하기 위한 동력을 제공하는 모터와, 상기 수광부에서 확인한 광을 전기적 신호로 변환하여 출력하는 출력부를 포함한다. 따라서 상기 다수개의 투과창과 상기 연마 확인부의 좌우 이동에 의해 연마의 정도를 확인하는 횟수도 증가하여 상기 웨이퍼의 연마 종말점을 더욱 정확하게 검출할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100476859B1
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：KR1019970022047
申请日：1997-05-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 반도체장치로 제작되기 까지의 웨이퍼상에 파티클에 의한 오염 및 공정 불량이 없도록 웨이퍼가 위치되는 챔버 내에 분포되는 파티클을 제거하도록 하는 반도체장치 제조설비의 파티클 제거장치와 이를 적용한 반도체장치 제조설비 및 파티클 제거방법에 관한 것이다.
본 발명은 웨이퍼가 수용되는 본체의 개방된 부위를 분리 가능하게 설치되는 뚜껑부 하우징과, 절연 재질로 제작되어 상기 뚜껑부 하우징의 내측에 설치되는 지지대와, 금속 재질의 판 형상으로 상기 지지대에 지지되어 상호 일정 간격을 이루며 상호 대향하여 설치되는 복수개의 전극판 및 상기 마주보는 전극판이 각기 다른 전기적 극성을 갖도록 상기 전극판 각각에 대하여 각기 다른 전극의 전원을 인가하는 전원선을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 정전기를 형성하여 웨이퍼가 위치되는 공간상에 잔존하는 파티클을 용이하게 제거함으로써 공간 내부에 높은 수준의 청정도 상태를 형성하게 됨에 따라 파티클에 의한 웨이퍼의 오염 및 공정 불량이 방지되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100469363B1
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：KR1019980036283
申请日：1998-09-03
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박철규
IPC: H01L21/302
Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 흡착하여 연마패드에 접촉시켜 연마시키는 연마헤드를 전자기력의 척력에 의하여 상하로 가변시키도록 구성된 반도체장치 제조용 씨엠피설비에 관한 것으로서, 도 2에 도시한 바와 같이, 고정자(22)와 회전자(23)를 포함하는 모터케이스(21), 상기 회전자(23)의 중심부에 일체로 고정된 헤드가변케이스(24), 상기 헤드가변케이스(24)내에 취부되는 상부고정자석(25) 및 하부가변자석(25-1), 상기 하부가변자석(25-1)을 상기 헤드가변케이스(24)의 내벽에 대하여 가변가능하게 고정시키는 하부자석가이드(26), 상기 상부고정자석(25)과 상기 하부가변자석(25-1) 사이에 위치하여 상기 하부가변자석(25-1)의 상방으로의 가변을 한정하는 전자석스토퍼(27), 상기 헤드가변케이스(24)가 고정된 회전자(23)를 모터프레임(29)에 회전가능하게 고정시키는 베어� ��(28), 헤드회전축(2)에 의하여 상기 하부가변자석(25-1)에 일체로 고정되는 연마헤드(1) 및 상기 연마헤드(1)의 하방에 위치하여 연마패드(10)를 고정시키는 회전가능한 연마대(9)를 포함하여 이루어지며, 그에 따라 일정한 가압을 가능하게 하여 고른 연마가 가능하고, 그에 따라 반도체장치의 수율 및 신뢰성 등을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR1020030051060A
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：KR1020010081959
申请日：2001-12-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67253
Abstract: PURPOSE: A semiconductor cleaning system is provided to prevent a wafer from being damaged by malfunction of the cleaning system by detecting whether chemical or process gas is supplied to a chemical cleaning unit and by interlocking the cleaning system while informing an operator of an abnormal supply of the chemical when the chemical is not normally supplied to the chemical cleaning unit. CONSTITUTION: A detection unit detects a chemical supply state of the chemical cleaning unit. A control unit(150) determines whether the cleaning system is interlocked according to the data of the detection unit. An alarm unit(160) alarms when the chemical is not supplied to the chemical cleaning unit according to a control signal of the control unit.
Abstract translation: 目的：提供一种半导体清洁系统，通过检测是否向化学清洁单元提供化学或处理气体，并通过联锁清洁系统，同时告知操作者异常供应，以防止晶片受到清洁系统故障的损坏 当化学品通常不被提供给化学清洁单元时的化学物质。 构成：检测单元检测化学清洗单元的化学物质供给状态。 控制单元（150）根据检测单元的数据确定清洁系统是否互锁。 根据控制单元的控制信号，当化学品未提供给化学清洁单元时，报警单元（160）报警。
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