Abstract:
본 발명은 유기 태양 전지의 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 유기 태양 전지의 제조 방법은 나노 패턴이 형성된 원본 몰드 준비 단계와, 상기 원본 몰드를 이용하여 용해성 폴리머층에 나노 패턴을 전사하는 용해성 폴리머 몰드 제작 단계와, 상기 용해성 폴리머 몰드 상에 P형 유기반도체층을 도포하는 P형 유기반도체층 형성 단계와, 상기 P형 유기반도체층의 한 면에 애노드 전극층을 형성하는 애노드 전극층 형성 단계와, 상기 용해성 폴리머 몰드를 용해시키는 용해성 폴리머 몰드 제거 단계와, 상기 P형 유기반도체층의 다른 면에 N형 유기반도체층을 도포하는 N형 유기반도체층 형성 단계, 및 상기 N형 유기반도체층의 한 면에 캐소드 전극층을 형성하는 캐소드 전극층 형성 단계를 포함한다. 이와 같이 본 발명에 따르면 용해성 폴리머로 이루어진 몰드를 이용하여 고정도의 규칙적인 패턴을 갖는 유기 태양 전지를 용이하게 제작할 수 있다. 태양 전지, 몰드, 유기, 패턴, 용해성 폴리머
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting display apparatus with an anti-reflection film is provided to prevent the color blurring phenomenon of the apparatus due to the interference of visible ray by irregularly changing the angle of visible ray. CONSTITUTION: A light emitting unit(120) comprises an anode, a cathode, and an organic light emitting layer which is located between the anode and the cathode. An anti-reflection film(140) is located on the upper side of the light emitting unit. An irregular nano-pattern(145) is formed on the upper side of the anti-reflection film.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of an organic solar cell using a mold is provided to easily form regular patterns on an N-type organic semiconductor layer by forming an N-type organic semiconductor layer on a P-type organic semiconductor layer using a spin coating method. CONSTITUTION: A mold having nano patterns is prepared(S101). A P-type organic semiconductor layer is formed by spreading the P-type organic semiconductor layer on the nano pattern of the mold(S102). The anode electrode layer is formed on one side of the P-type organic semiconductor layer(S103). The mold is separated from the P-type organic semiconductor layer(S104). The N-type organic semiconductor layer is formed by spreading the N-type organic semiconductor layer on the other side of the P-type organic semiconductor layer(S105). The cathode electrode layer is formed on one side of N-type organic semiconductor layer(S106).
Abstract:
PURPOSE: A method for producing a stamp for imprint lithography is provided to form pattern by oxidizing the surface of cylindrical body and produce the stamp of roll shape. CONSTITUTION: A method for producing a stamp for imprint lithography comprises: a step of applying aluminum layer to cylindrical body (110); a step of oxidizing aluminum layer to form micro pattern; a step etching body; and a step of isolating aluminum layer from the body.
Abstract:
A stamp for imprint lithography and an imprint lithography method using the same are provided to remove residual layer efficiently by increasing the surface area of the residual layer and to form more minute pattern. An imprint lithographic method comprises a step for preparing a stamp(200) formed with the concavo-convex region(215) at the upper side of the parent pattern(218); a step for forming a polymer layer on a substrate; a step for forming pattern by pressurizing the polymer layer with the stamp; a step for cuing the polymer layer; and a step for etching the residual layer formed between the patterns after separating the stamp from the polymer layer.
Abstract:
An LCD(Liquid Crystal Display) having an inkjet spacer and a method for manufacturing the inkjet spacer are provided to prevent increase of a width of the spacer caused by blur of ink and easily implement a desired height by forming the inkjet spacer after forming partitions, so that reliable image display can be possible. First and second substrates(20,40) are disposed so as to face each other. An LC(Liquid Crystal) layer(10) is interposed between the two substrates. An inkjet spacer(50) is fixed on one substrate of the two substrates so as to maintain a cell gap between the two substrates. The inkjet spacer comprises a domed convex unit and a concave unit. The concave unit is recessed towards a center of a width direction from an end part of the convex unit as an inflection point. Partitions are formed on one substrate of the two substrates. The inkjet spacer is formed in an inner spacer of the partition. After that, the partitions are removed.
Abstract:
본 발명은 미세 임프린트 리소그래피 공정 기술에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 UV 미세임프린트 리소그래피 공정기술이나, 가열방식의 미세임프린트 리소그래피 공정기술에 사용되는 스탬프와 이 스탬프의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 스탬프 제조방법은, 기판 위에 다이아몬드상 카본(DLC, diamond-like carbon) 박막을 증착하는 단계와, 상기 다이아몬드상 카본 박막 위에 레지스트를 도포하는 단계와, 상기 레지스트를 패터닝하는 단계와, 상기 패터닝된 레지스트를 보호막으로 하여 상기 다이아몬드상 카본 박막을 에칭하는 단계, 및 상기 레지스트를 제거하는 단계를 포함한다. 미세임프린트 리소그래피, 다이아몬드상 카본필름, 친수성, 소수성
Abstract:
본 발명은 나노튜브의, 보다 특정적으로는 탄소나노튜브의 분리 및 정제방법 및 그에 사용되는 나노튜브 분리 및 정제장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마이크로파를 사용하여, 생산과정에서 물리화학적으로 정제(purification)하기가 매우 힘든 나노튜브를 정제하거나, 여러 속성의 나노튜브 및 불순물이 혼재되어 있는 나노튜브 제조 결과물로부터 특정 속성의 나노튜브만을 선택적으로 분리 및 정제해내는 방법 및 그에 사용되는 나노튜브 분리 및 정제장치에 관한 것이다. 마이크로파, 나노튜브, 분리, 정제, 방법, 장치
Abstract:
본 발명은 수용성 촉매를 이용한 단일층 탄소나노튜브의 선택적 성장방법 및 이에 의해 형성된 단일층 탄소나노튜브를 포함하는 전자소자 또는 광전소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 탄화수소류의 유기용매를 필요로 하지 않는 수용성 촉매를 이용하기 때문에, 유기용매 사용시 손상되기 쉬운 포토레지스트 패턴을 사용하는 광식각법에 적용가능한 단일층 탄소나노튜브의 선택적 성장방법 및 이에 의해 형성된 단일층 탄소나노튜브를 포함하는 전자소자 또는 광전소자에 관한 것이다. 수용성, 촉매, 단일층, 탄소나노튜브, 선택적, 수평성장, 방법, 전자소자, 광전소자
Abstract:
본 발명은 유전영동을 이용하여 나노튜브를 분리하는 장치에 관한 것으로서, 서로 다른 속성을 가진 나노튜브가 유전성질을 가지는 매질에 분산된 분산용액의 유입구(2a)와 유출구(2b)를 가지는 구조물(2)과, 상기 구조물내를 상기 나노튜브 용액이 통과하면서 유전영동힘을 받도록 상기 구조물의 적어도 한 단면이상에서 비균일한 전기장의 분포를 형성시키는 전극(1)을 구비하며, 구성이 용이하고, 생산성이 높아서 대량으로 원하는 성질의 나노튜브를 분리 및 채집할 수 있게 해 주며, 또한 분리과정에서 나노튜브에 어떠한 손상을 가하지 않으므로 채집 후에 나노튜브 관련 응용분야에 적용하기에도 매우 적합하다. 나노튜브, 분리, 카본나노튜브