Abstract:
PURPOSE: A fabrication method of polymer arrayed waveguide wavelength multiplexing/demultiplexing optical element is provided to be simplify in its process by using polymer material and utilize a silicon nitride thin film as a dry etching mask, thereby reducing the insertion loss and cross talk rate of the elements. CONSTITUTION: A polymer waveguide lower clad layer(22) and a polymer waveguide core layer(24) are sequentially coated on a semiconductor substrate(20). Then, an insulation film pattern for an etching mask is formed on the resultant. Next, a portion of the polymer core layer(24) is etched to form a polymer waveguide pattern by using the insulation film pattern as a dry etching mask. Finally, a polymer waveguide upper clad layer(28) is formed on the resultant(20).
Abstract:
본 발명은 파장분할 다중화(WDM) 방법을 이용한 광통신 시스템에서 필요한 광소자의 일종인 열광학 가변 파장 필터 제작방법에 관한 것으로서, 불소 치환된 폴리머 물질을 사용하여 폴리머 광도파로를 형성하고, 상기 광도파로의 유효굴절률을 조절하기 위해 상기 폴리머 광도파로 위에 열광학 가변전극을 형성하고, 열광학 가변전극을 이용하여 반사 광신호의 대역을 변환시키기 위해 상기 광도파로 내에 폴리머 브래그 격자를 집적함으로써, 통과신호의 파장대역폭이 매우 좁고 인접한 광신호와의 누화가 적으며, 열광학 특성을 이용한 파장 가변 특성에 따라 안정성이 높고 넓은 가변 범위를 제공하는 장점이 있으며, 폴리머 광도파로를 이용한 광소자 기술은 향후 저가의 광소자 제작에 매우 적합한 기술로서 경제성 및 시장성면에서 잇점을 가질 수 � ��는 효과가 있다.
Abstract:
PURPOSE: A wavelength division optical waveguide device is provided to have a smaller size and a smaller insertion loss than a wavelength division optical waveguide using a conventional curved optical waveguide column lattice. CONSTITUTION: A wavelength division optical waveguide device includes an input flat waveguide(12), an output flat waveguide(13), and a plurality of waveguide columns aligned between the input flat waveguide and the output flat waveguide for transmitting optical signals(17). The plurality of waveguide columns each includes the first total reflection waveguide etch face(16) for totally reflecting the optical signals(17) inputted from the input flat waveguide(12) to a straight waveguide, the straight waveguide, and the second total reflection waveguide etch face(16) for totally reflecting the optical signals(17) inputted from the straight waveguide to transmit them to the output flat waveguide(13).
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating an optical wave guide is provided by using the principle that a refractivity is increased according to diffusion of metal ions into a polymer. CONSTITUTION: A method for fabricating an optical wave guide by metal diffusion comprises a first step for depositing a polymer core layer(2) on a substrate(1) according to spin coating; a second step for depositing a metal layer(3) by using a thermal deposition unit; a third step for forming a metal layer(4) by pattering the metal layer(3) according to an expected optical wave guide; a fourth step for forming an optical wave guide(6) by heating the above-formed layers on a heat plate(5) at a predetermined temperature for a predetermined time in order to diffuse metal ions into a polymer and remove the residual metal; and a fifth step for fabricating a polymer optical wave guide by forming an upper cladding polymer thin film(7) according to spin coating. As a result, refractivity can be minutely controlled in a wide range, and a sectional size of the optical wave guide can be easily adjusted, thereby fabricating various polymer optical devices.
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating a thermo-optical variable wavelength filter is provided to control passing wavelength by using a polymer optical wave guide and a polymer brag lattice. CONSTITUTION: A method for fabricating a thermo-optical variable wavelength filter comprises the steps of forming a polymer optical wave guide on a semiconductor substrate using polymer material, forming a polymer brag lattice on the optical wave guide using O2 RIE and polymer spin coding, and forming a thermo-optical variable electrode on the polymer optical wave guide where the brag lattice is integrated.
Abstract:
본 발명은 광학적 복굴절성이 큰 전기 광학 폴리머를 이용한 편광 조절기 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘(Si) 기판 위에 금을 열증착하여 하부 전극을 형성하는 제 1 공정과, 상기 하부 전극 위에 코아층 폴리머보다 굴절률이 낮고 복굴절성이 없는 폴리머를 코팅하여 하부 클래딩을 형성하는 제 2 공정과, 상기 하부 클래딩층 위에 복굴절성이 큰 전기광학 폴리머를 코팅하고 열건조한 후, 활성 이온 식각법과 리쏘그라피로 원하는 패턴을 형성하여 광도파로를 형성하는 제 3 공정과, 상기 광도파로 위에 코아층 폴리머보다 굴절률이 낮고 복굴절성이 없는 폴리머를 코팅하여 상부 클래딩을 형성하는 제 4 공정과, 상기 상부 클래딩층 위에 폴링과 상부 전극을 위해서, 금을 열증착하여 상부 전극용 금을 형성하는 제 5 공정과, 상기 형성된 상부 전극용 금 과 하부 전극을 이용하여 유리전이 온도에서 전계를 가하여 폴링하며 상부에 증착된 금을 리쏘그라피로 원하는 패턴을 형성하는 제 6 공정과, 실리콘(Si) 절단면을 이용한 단면 절개법이나 단면 연마 방법을 이용하여 광파의 입출력을 위한 단면을 형성한 후 양 단면에 광섬유를 부착하는 제 7 공정으로 구성되어, 제작 공정이 손쉬우며, 고성능, 저가의 제품을 만들기에 유리하다.
Abstract:
본 발명은 한 쌍의 광 도파로(41, 42)를 구비하는 광신호 스위칭 소자에 있어서, 상기 한 쌍의 광 도파로(41, 42)를 통하는 광신호에 광 위상변화를 별도로 주는 광 위상 변조수단(48); 및 상기 광 위상 변조수단(48)의 입출력단 각각에 위치하여 상기 광 도파로 각각을 따라 통과하는 광신호간에 커플링을 유도하는 광 커플링수단(47, 49)을 구비하되, 상기 광 커플링수단(47, 49)에 의한 광 커플링 구간의 광 도파로는 서로 이격 간격없이 붙은 형태인 것을 특징으로 하는 광 스위칭 소자에 관한 것으로, 진행하는 광이 두 도파로가 간격이 없이 붙은 광 커플링부를 지나기 때문에 두 도파로 커플링 구간 사이에서 발생되는 오차를 서로 공유하여 공정상에 발생하는 오차를 최소한으로 감소시킬 수 있고, 두 도파로의 커플링을 DC형이나 BB형처럼 간접적으로 하지 않� � 때문에 광 소자의 전체 길이를 줄일 수 있으며, 이에 따라 광 소자의 출력 감소를 최소화할 수 있도록 한 것이다.
Abstract:
본 발명은 하기 화학식 (1)로 표시되는 아크릴기 혹은 시나밀기를 가진 불소 치환 폴리아릴렌 에테르, 그 제조방법 및 그 불소 치환 폴리아릴렌 에테르를 사용한 광도파로형 광소자에 관한 것이다. 불소 치환 폴리아릴렌 에테르 유도체는 데카풀루오로바이페닐 혹은 데카풀루오로벤조페논과 아로마틱 디올의 열축중합에 의하여 얻어지며, 이들 고분자에 아크릴기 혹은 시나밀기를 도입하여 본 발명의 광도파로 소자용 고분자를 제조한다. 상기 고분자는 주쇄 구조에서 높은 불소 치환으로 분자 진동에 의한 물질 고유의 광통신 영역에서의 광흡수를 배제하여 고분자 광소자의 가장 큰 문제점인 광진행 손실이 아주 낮다. 또한 고분자 말단이나 고분자 측쇄에 광경화성 아크릴기 혹은 시나밀기를 도입 함으로서 고분자 메트릭스의 광가교를 통한 내화학성을 향상 시켜 다층 막박 공정이 가능하며, 300℃이상에서도 열적으로 분해와 승화되지 않는 열안정성이 뛰어난 우수한 광도파로형 광소자를 제조할 수 있다. (화학식 1)
상기식에서, X는 없거나, -C=O- 또는 -SO 2 -이다. R 1 은 H, 광가교성 아크릴레이트, 메타크릴레이트 또는 시나메이트이다. R 2 은 광가교성 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 또는 시나메이트이다. n은 중합도로 1∼100의 자연수이다.