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公开(公告)号:ZA201408803B
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:ZA201408803
申请日:2014-12-02
Applicant: BASF SE
Inventor: NEESE PAUL , CULBERTSON DEBORAH L , DICKHAUT JOACHIM , BANDUR NINA GERTRUD , VON DEYN WOLFGANG , KAISER FLORIAN , KÖRBER KARSTEN , VEITCH GEMMA , NARINE ARUN , GUNJIMA KOSHI
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公开(公告)号:BR112014000887A2
公开(公告)日:2016-09-13
申请号:BR112014000887
申请日:2012-07-13
Applicant: BASF SE
Inventor: NARINE ARUN , KAISER FLORIAN , VEITCH GEMMA , DICKHAUT JOACHIM , KÖRBER KARSTEN , BANDUR NINA GERTRUD , DESHMUKH PRASHANT
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43.
公开(公告)号:ES2565821T3
公开(公告)日:2016-04-07
申请号:ES12794238
申请日:2012-11-20
Applicant: BASF SE
Inventor: DOCHNAHL MAXIMILIAN , KÖRBER KARSTEN , DESHMUKH PRASHANT , KAISER FLORIAN , RACK MICHAEL , FRASSETTO TIMO , VEITCH GEMMA
IPC: C07D401/04 , C07D471/10
Abstract: Un proceso para preparar un compuesto 1H-pirazol -5- carboxilato N sustituido de la fórmula (I-A)**Fórmula** en el que R1 se selecciona de hidrógeno, halógeno, ciano, -SF5, CBrF2, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, en donde los seis últimos radicales mencionados se pueden sustituir por uno o más radicales Ra; -Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, -S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico aromático, saturado o parcialmente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; cada R2 se selecciona independientemente del grupo que consiste de halógeno, SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1- C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, en donde los seis últimos radicales mencionados se pueden sustituir por uno o más radicales Ra; -Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, - S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; Ra se selecciona del grupo que consiste de SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6-C1-C6-alquilo, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6,-Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, - S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; o dos radicales germinalmente unidos Ra juntos forman un grupo seleccionado de >=CRhRi, >=NRc1, >=NORb y >=NNRc125 , o dos radicales Ra, juntos con el átomo de carbonos al que se unen, forman un anillo heterocíclico o carbocíclico saturado o parcialmente insaturado de 3, 4, 5, 6, 7 o 8 que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo; en donde, en el caso de más de un Ra, Ra pueden ser idénticos o diferentes; Rb se selecciona del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, fluoroalquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, fluoroalquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; en donde, en el caso de más de un Rb, Rb pueden ser idénticos o diferentes; Rc, Rd, independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, se seleccionan del grupo que consiste de ciano, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; o Rc y Rd, juntos con el átomo de nitrógeno al que se unen, forman un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6, o 7 miembros que pueden contener 1 o 2 heteroátomos adicionales seleccionados de N, O y S como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico pueden llevar 1, 2, 3 o 4 sustituyentes seleccionados de halógeno, alquilo C1-C4, fluoroalquilo C1-C4, alcoxi C1-C4 y fluoroalcoxi C1-C4; Rc1 es hidrógeno o tiene uno de los significados dados para Rc; Rd1 es hidrógeno o tiene uno de los significados dados para Rd; Re se selecciona del grupo que consiste de halógeno, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C4; alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, fluoroalquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, fluoroalquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2R9, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; en donde, en el caso de más de un Re, Re pueden ser idénticos o diferentes; Rf, Rg son independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C4, cicloalquilo C3-C6, alcoxi C1-C4- alquilo C1-C4, fenilo y bencilo; Rh, Ri, independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, se seleccionan del grupo que consiste de hidrógeno, halógeno, SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alquilo C1-C4 y fluoroalquilo C1-C4; alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, (alcoxi C1-C6)carbonilo, (alquilo C1-C6)amino y di-(alquilo C1- C6)amino; m es 1 o 2, en donde, en el caso de varias ocurrencias, m puede ser idéntico o diferente; n es 0, 1 o 2; en donde, en el caso de varias ocurrencias, n puede ser idéntico o diferente; r es 0, 1, 2, 3 o 4; M+ es un catión o equivalente de catión que compensan la carga del carboxilato; que comprende las etapas de i) desprotonar un compuesto de la fórmula (II)**Fórmula** en el que las variables R1, R2 y r son cada uno como se definió anteriormente, con una base orgánica de magnesio que tiene un magnesio unido a carbono; y ii) someter el producto obtenido en la etapa (i) a una carboxilación al hacer reaccionarlo con dióxido de carbono o un equivalente de dióxido de carbono, para obtener un compuesto de la fórmula (I-A).
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公开(公告)号:ZA201401074B
公开(公告)日:2015-08-26
申请号:ZA201401074
申请日:2014-02-12
Applicant: BASF SE
Inventor: KÖRBER KARSTEN , KAISER FLORIAN , DICKHAUT JOACHIM , BANDUR NINA GERTRUD , VEITCH GEMMA , DESHMUKH PRASHANT , NARINE ARUN
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公开(公告)号:ZA201401719B
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:ZA201401719
申请日:2014-03-10
Applicant: BASF SE
Inventor: BANDUR NINA GERTRUD , CULBERTSON DEBORAH L , DESHMUKH PRASHANT , DICKHAUT JOACHIM , GUNJIMA KOSHI , KAISER FLORIAN , KORDES MARKUS , KÖRBER KARSTEN , NARINE ARUN , NEESE PAUL , VEITCH GEMMA
IPC: C07D20060101 , A01N20060101
Abstract: The present invention relates to anthranilamide compounds and the stereoisomers, salts, tautomers and N-oxides thereof and to compositions comprising the same. The invention also relates to the use of the anthranilamide compounds or of the compositions comprising such compounds for combating invertebrate pests. Furthermore, the invention relates to methods of applying such compounds.
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46.
公开(公告)号:IN3469CHN2014A
公开(公告)日:2015-07-03
申请号:IN3469CHN2014
申请日:2014-05-07
Applicant: BASF SE
Inventor: DOCHNAHL MAXIMILIAN , KÖRBER KARSTEN , DESHMUKH PRASHANT , KAISER FLORIAN , RACK MICHAEL , FRASSETTO TIMO , VEITCH GEMMA
IPC: C07D401/04 , C07D471/10
Abstract: The present invention relates to a process for preparing an N substituted 1 H pyrazole 5 carboxylate compound of the formula (l A) comprising the steps of i) deprotonating a compound of the formula (II) in which the variables R R and r are each as defined in the description and the claims with a magnesium organic base having a carbon bound magnesium; and ii) subjecting the product obtained in step (i) to a carbonylation by reacting it with a reagent selected from the group consisting carbon dioxide or a carbon dioxide equivalent to obtain a compound of formula (l A); and it relates to further conversions to yield a N substituted 1H pyrazole 5 carbonyl chloride compound of the formula (I).
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公开(公告)号:IN981CHN2014A
公开(公告)日:2015-04-10
申请号:IN981CHN2014
申请日:2014-02-06
Applicant: BASF SE
Inventor: KAISER FLORIAN , DESHMUKH PRASHANT , KÖRBER KARSTEN , VON DEYN WOLFGANG , KORDES MARKUS , DICKHAUT JOACHIM , NARINE ARUN , BANDUR NINA GERTRUD , VEITCH GEMMA , CULBERTSON DEBORAH L , NEESE PAUL , GUNJIMA KOSHI
IPC: C07D213/60 , C07D213/61 , C07D239/28
Abstract: The present invention relates to anthranilamide compounds and the stereoisomers salts tautomers and N oxides thereof and to compositions comprising the same. The invention also relates to the use of the anthranilamide compounds or of the compositions comprising such compounds for combating invertebrate pests. Furthermore the invention relates to methods of applying such compounds.
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公开(公告)号:AU2013255894A1
公开(公告)日:2014-11-13
申请号:AU2013255894
申请日:2013-04-29
Applicant: BASF SE
Inventor: KORBER KARSTEN , KAISER FLORIAN , VEITCH GEMMA , VON DEYN WOLFGANG , BANDUR NINA GERTRUD , DICKHAUT JOACHIM , NARINE ARUN , CULBERTSON DEBORAH L , NEESE PAUL , GUNJIMA KOSHI
IPC: C07D403/04 , A01N43/00 , A01N57/00 , C07F9/00
Abstract: The present invention relates to substituted pyrazole-containingcompounds of formula (I), and the stereoisomers and salts thereof, wherein the substituents are as defined in the description. The present invention further relates to a method for combating or controlling invertebrate pests, to a method for protecting plant propagation material and/or the plants which grow therefrom, to plant propagation material comprising at least one compound according to the present invention, to a method for treating or protecting an animal from infestation or infection by parasites, to a process for the preparation of a composition for treating infested or infected animals and/or for protecting animals against infestation or infection by parasites, and to a compound according to the invention for use as a medicament.
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公开(公告)号:CL2014000237A1
公开(公告)日:2014-09-05
申请号:CL2014000237
申请日:2014-01-30
Applicant: BASF SE
Inventor: DESHMUKH PRASHANT , KORDES MARKUS , DICKHAUT JOACHIM , NARINE ARUN , BANDUR NINA GERTRUD , VEITCH GEMMA , NEESE PAUL , GUNJIMA KOSHI , KAISER FLORIAN , KORBER KARSTEN , VON DEYN WOLFGANG , CULBERTSON DEBORAH L
IPC: A01N43/40 , C07D213/61
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公开(公告)号:AU2012297002A1
公开(公告)日:2014-03-06
申请号:AU2012297002
申请日:2012-08-10
Applicant: BASF SE
Inventor: KORBER KARSTEN , DESHMUKH PRASHANT , KAISER FLORIAN , RACK MICHAEL , FRASSETTO TIMO , VEITCH GEMMA , KORDES MARKUS
IPC: C07D401/04
Abstract: The present invention relates to a process for preparing an N-substi- tuted 1 H-pyrazole-5-carbonylchloride compound of the formula (I) comprising the steps of i) deprotonating a compound of the formula (II) with a base selected from lithium-organic base having a carbon or nitrogen bound lithium or with a magnesium-organic base having a carbon bound magnesium; and ii) subjecting the product obtained in step (i) to a chlorocarbonylation by reacting it with a reagent selected from the group consisting of phosgene or a phosgene equivalent, to obtain a compound of formula (I).
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