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    Proceso para preparar compuestos 1H-pirazol-5-carboxilato N-sustituidos y derivados de los mismos
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    发明专利
    Proceso para preparar compuestos 1H-pirazol-5-carboxilato N-sustituidos y derivados de los mismos 未知

    公开(公告)号：ES2565821T3

    公开(公告)日：2016-04-07

    申请号：ES12794238

    申请日：2012-11-20

    Applicant: BASF SE

    Inventor： DOCHNAHL MAXIMILIAN ,  KÖRBER KARSTEN ,  DESHMUKH PRASHANT ,  KAISER FLORIAN ,  RACK MICHAEL ,  FRASSETTO TIMO ,  VEITCH GEMMA

    IPC: C07D401/04 ,  C07D471/10

    Abstract: Un proceso para preparar un compuesto 1H-pirazol -5- carboxilato N sustituido de la fórmula (I-A)**Fórmula** en el que R1 se selecciona de hidrógeno, halógeno, ciano, -SF5, CBrF2, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, en donde los seis últimos radicales mencionados se pueden sustituir por uno o más radicales Ra; -Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, -S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico aromático, saturado o parcialmente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; cada R2 se selecciona independientemente del grupo que consiste de halógeno, SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1- C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, en donde los seis últimos radicales mencionados se pueden sustituir por uno o más radicales Ra; -Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, - S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; Ra se selecciona del grupo que consiste de SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6-C1-C6-alquilo, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6,-Si(Rf)2Rg, -ORb, -SRb, -S(O)mRb, - S(O)nN(Rc)Rd, -N(Rc1)Rd1, fenilo que se puede sustituir por 1, 2, 3, 4 o 5 radicales Re, y un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6 o 7 miembros que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico se puede sustituir por uno o más radicales Re; o dos radicales germinalmente unidos Ra juntos forman un grupo seleccionado de >=CRhRi, >=NRc1, >=NORb y >=NNRc125 , o dos radicales Ra, juntos con el átomo de carbonos al que se unen, forman un anillo heterocíclico o carbocíclico saturado o parcialmente insaturado de 3, 4, 5, 6, 7 o 8 que contiene 1, 2 o 3 heteroátomos o grupos de heteroátomos seleccionados de N, O, S, NO, SO y SO2, como miembros del anillo; en donde, en el caso de más de un Ra, Ra pueden ser idénticos o diferentes; Rb se selecciona del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, fluoroalquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, fluoroalquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; en donde, en el caso de más de un Rb, Rb pueden ser idénticos o diferentes; Rc, Rd, independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, se seleccionan del grupo que consiste de ciano, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; o Rc y Rd, juntos con el átomo de nitrógeno al que se unen, forman un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o completamente insaturado de 3, 4, 5, 6, o 7 miembros que pueden contener 1 o 2 heteroátomos adicionales seleccionados de N, O y S como miembros del anillo, en donde el anillo heterocíclico pueden llevar 1, 2, 3 o 4 sustituyentes seleccionados de halógeno, alquilo C1-C4, fluoroalquilo C1-C4, alcoxi C1-C4 y fluoroalcoxi C1-C4; Rc1 es hidrógeno o tiene uno de los significados dados para Rc; Rd1 es hidrógeno o tiene uno de los significados dados para Rd; Re se selecciona del grupo que consiste de halógeno, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alcoxi C1-C4; alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, fluoroalquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, fluoroalquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2R9, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6 y fluoroalcoxi C1-C6; en donde, en el caso de más de un Re, Re pueden ser idénticos o diferentes; Rf, Rg son independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C4, cicloalquilo C3-C6, alcoxi C1-C4- alquilo C1-C4, fenilo y bencilo; Rh, Ri, independientemente uno del otro e independientemente de cada ocurrencia, se seleccionan del grupo que consiste de hidrógeno, halógeno, SF5, alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, fluoroalquenilo C2-C6, cicloalquilo C3-C8, fluorocicloalquilo C3-C8, en donde los seis últimos radicales mencionados pueden llevar opcionalmente 1 o 2 radicales seleccionados de alquilo C1-C4 y fluoroalquilo C1-C4; alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, alquiltio C1-C6, fluoroalquiltio C1-C6, alquilsulfinilo C1-C6, alquilsulfonilo C1-C6, -Si(Rf)2Rg, fenilo, bencilo, piridilo y fenoxi, en donde los cuatro últimos radicales mencionados pueden ser no sustituidos, parcial o completamente halogenados y/o pueden llevar 1, 2 o 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de alquilo C1-C6, fluoroalquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, fluoroalcoxi C1-C6, (alcoxi C1-C6)carbonilo, (alquilo C1-C6)amino y di-(alquilo C1- C6)amino; m es 1 o 2, en donde, en el caso de varias ocurrencias, m puede ser idéntico o diferente; n es 0, 1 o 2; en donde, en el caso de varias ocurrencias, n puede ser idéntico o diferente; r es 0, 1, 2, 3 o 4; M+ es un catión o equivalente de catión que compensan la carga del carboxilato; que comprende las etapas de i) desprotonar un compuesto de la fórmula (II)**Fórmula** en el que las variables R1, R2 y r son cada uno como se definió anteriormente, con una base orgánica de magnesio que tiene un magnesio unido a carbono; y ii) someter el producto obtenido en la etapa (i) a una carboxilación al hacer reaccionarlo con dióxido de carbono o un equivalente de dióxido de carbono, para obtener un compuesto de la fórmula (I-A).

    Procedimiento para fabricar benzoxazinonas
    7.
    发明专利
    Procedimiento para fabricar benzoxazinonas 未知

    公开(公告)号：ES2594553T3

    公开(公告)日：2016-12-21

    申请号：ES13747408

    申请日：2013-08-09

    Applicant: BASF SE

    Inventor： DOCHNAHL MAXIMILIAN ,  GÖTZ ROLAND ,  GEBHARDT JOACHIM ,  VOGELBACHER UWE JOSEF ,  FRASSETTO TIMO ,  RACK MICHAEL ,  MAYWALD VOLKER ,  WOLF BERND

    IPC: C07D413/04

    Abstract: Procedimiento para fabricar benzoxazinonas de fórmula (I),**Fórmula** en la que R1 es H, halógeno o alquilo C1-C6; R2 es H, halógeno o alquilo C1-C6; R3 es H, halógeno o alquilo C1-C6; R4 es H, alquilo C1-C6, haloalquilo C1-C6, cicloalquilo C3-C6, alquenilo C3-C6, haloalquenilo C3-C6, alquinilo C3-C6, haloalquinilo C3-C6, alcoxilo C1-C6 o cicloalquil C3-C6-alquilo C1-C6; R5 es H o alquilo C1-C6; R6 es H o alquilo C1-C6; W es O o S; y Z es O o S; en el que los carbamatos de fórmula (II),**Fórmula** en la que R5 y R6 15 se definen como en la fórmula (I); y R7 es alquilo C1-C6, haloalquilo C1-C6, cianoalquilo C1-C6, nitroalquilo C1-C6, arilo, heteroarilo de 5 ó 6 miembros o arilalquilo C1-C6, en el que los anillos de arilo o heteroarilo están no sustituidos, parcial o completamente halogenados o sustituidos con de uno a cinco sustituyentes seleccionados del grupo que consiste en CN, NO2, alquilo C1-C6, haloalquilo C1-C6, OH, alcoxilo C1-C6, haloalcoxilo C1-C6, formilo, alquilcarbonilo C1-C6, hidroxicarbonilo y alcoxicarbonilo C1-C6; se hacen reaccionar con carbamat-benzoxazinonas de fórmula (III),**Fórmula** en la que R1, R2, R3, R4 y W se definen como en la fórmula (I); y R8 es haloalquilo C1-C6, cianoalquilo C1-C6, nitroalquilo C1-C6, arilo, heteroarilo de 5 ó 6 miembros o arilalquilo C1-C6, en el que los anillos de arilo o heteroarilo están no sustituidos, parcial o completamente halogenados o sustituidos con de uno a cinco sustituyentes seleccionados del grupo que consiste en CN, NO2, alquilo C1-C6, haloalquilo C1-C6, OH, alcoxilo C1-C6, haloalcoxilo C1-C6, formilo, alquilcarbonilo C1-C6, hidroxicarbonilo y alcoxicarbonilo C1-C6; en presencia de una base.

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