制造软模的方法和使用其来形成图案的方法

    公开(公告)号:CN101097401A

    公开(公告)日:2008-01-02

    申请号:CN200710126895.3

    申请日:2007-06-29

    Inventor: 金珍郁

    Abstract: 本发明提供了一种制造软模的方法和使用其来形成图案的方法。该用于形成软模的方法包括:提供其上具有至少一个图案的主模;在所述主模上形成预聚物层;在所述预聚物层上施加水;使所述预聚物层硬化以形成软模;去除水;以及使所述软模与所述主模分离。在刻蚀对象层上形成抗蚀剂;提供软模;将所述软模设置在所述抗蚀剂上;使所述软模与所述抗蚀剂分离以形成抗蚀剂图案;以及使用所述抗蚀剂图案来刻蚀所述刻蚀对象层,其中提供软模的所述步骤包括:提供其上具有至少一个图案的主模;在所述主模上形成预聚物层;在所述预聚物层上施加水;使所述预聚物层硬化以形成软模;去除水;以及使所述软模与所述主模分离。

    母模、母模制造方法,以及利用其制造液晶显示装置的方法

    公开(公告)号:CN1991576A

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200610095969.7

    申请日:2006-06-29

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 母模、母模制造方法,以及利用其制造液晶显示装置的方法。公开了一种用于制造液晶显示装置的方法,其中,利用软刻印法代替了光刻技术。该方法包括以下步骤:形成薄膜晶体管阵列基板;形成滤色器基板;接合薄膜晶体管阵列基板和滤色器基板;以及在薄膜晶体管阵列基板与滤色器基板之间施加液晶,其中,形成薄膜晶体管阵列基板的步骤和形成滤色器基板的步骤中的至少一个步骤包括利用软模的图案形成方法。该图案形成方法可以是软刻印法工序,该软刻印法工序包括以下步骤:使具有特定图案的软模与缓冲层的表面接触;和向软模和缓冲层施加恒热,以将所述特定图案转印到缓冲层上。

    制造平板显示器的方法和设备

    公开(公告)号:CN1773340A

    公开(公告)日:2006-05-17

    申请号:CN200510079573.9

    申请日:2005-06-20

    Inventor: 金珍郁

    Abstract: 一种制造平板显示器的方法,包括:将抗蚀剂分布在形成在基板上的薄膜上,通过照射第一光线改变该抗蚀剂的极性;在抗蚀剂的上表面一侧相距基板指定距离处提供具有突出表面和沟槽的软模,该软模被表面处理为与抗蚀剂相同的极性;进行软模和基板的第一和第二次对准;通过用第一光线照射改变抗蚀剂的极性,使得抗蚀剂移入软模的沟槽;通过将第二光线照射到沟槽中的抗蚀剂在薄膜上形成抗蚀剂图案;将软模从抗蚀剂图案分离;以及通过刻蚀薄膜的一部分和抗蚀剂图案形成薄膜图案。

    液晶显示板及其制造方法
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1683969A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200510063578.2

    申请日:2005-04-13

    Inventor: 金珍郁

    CPC classification number: G02F1/1339 G02F2001/133519

    Abstract: 本发明公开了一种形成液晶显示板的方法。在基板上形成黑矩阵,在由黑矩阵分隔开的区域形成滤色片,在滤色片上通过用软模将液态预聚物材料挤压成形而同时形成涂敷层和衬垫料。当使用模具时将液态预聚物材料加热预定时间。液态预聚物材料包括例如聚乙烯乙二醇的基础树脂,例如苯乙烯-丙烯酸共聚单体的粘合剂以及光引发剂。

    制造薄膜晶体管阵列基板的方法

    公开(公告)号:CN1638019A

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN200410070554.5

    申请日:2004-08-06

    Inventor: 蔡基成 金珍郁

    CPC classification number: H01L27/124 H01L27/1288

    Abstract: 公布了一种无需进行光处理而执行构图处理的薄膜晶体管阵列基板制造方法。根据本发明的薄膜晶体管阵列基板制造方法包括:使用第一抗蚀剂和第一软模在基板上形成包括栅极和选通线的第一导电图案组;在具有所述第一导电图案组的所述基板上形成栅绝缘膜;使用第二抗蚀剂和第二软模在所述栅绝缘膜上形成第二导电图案组和半导体图案,其中该第二导电图案组包括源极、漏极和数据线,该半导体图案在所述源极和所述漏极之间形成沟道;使用第三抗蚀剂和第三软模在具有所述第二导电图案组和所述半导体组的所述栅绝缘膜上形成具有接触孔的钝化膜;以及使用第四抗蚀剂和第四软模在所述钝化膜上形成包括像素电极的第三导电图案组。

    薄膜构图方法及制造平板显示器件的方法和设备

    公开(公告)号:CN1637540A

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN200410070552.6

    申请日:2004-08-06

    Inventor: 金容凡 金珍郁

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y10/00 B82Y40/00 H01L51/0014 H01L51/56

    Abstract: 公开了一种制造薄膜的方法,以及制造平板显示器件的方法和设备,它们可以无需利用光刻工艺而进行构图处理,从而可以缩短处理时间并减少图案缺陷。根据本发明实施例的制造薄膜的方法和制造平板显示器件的方法和设备包括以下步骤:在基板上形成薄膜;在形成有所述薄膜的基板上涂布含有溶剂的抗蚀剂溶液;在具有所述抗蚀剂溶液的基板上对准软模;在所述溶剂的气化温度以下对所述抗蚀剂溶液进行第一热处理,同时对所述抗蚀剂溶液上的软模施压,从而在所述薄膜上形成抗蚀剂图案;将所述软模与所述抗蚀剂图案分离;通过第二热处理使所述抗蚀剂图案固化;以及利用所述抗蚀剂图案作为掩模对所述薄膜进行构图。

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