分光光度计
    41.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113544479B

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202080009118.4

    申请日:2020-01-08

    Abstract: 本发明涉及光学仪器领域,并且旨在用于工业实验室的分析和各种材料光谱特性的分析研究中的科学研究目的。技术结果是提高了角度相关性测量和复杂棱镜测量的质量和准确性。一种分光光度计,包括外壳(1)、测量隔室(2)和单色辐射源(3),其中安装有:辐射源(4);单色器(5);偏振器组件(6));反射镜元件(7);具有光电探测器(12)与透镜(13)的组件(8)的测量通道;具有光电探测器(14)与透镜(15)的组件(9)的参考通道;具有空心旋转轴(16)和样本(11)的旋转物体台(10);和用于利用垂直旋转轴(17)移动光电探测器(12)的测量通道的组件(8)的装置。在进行测量时,分光光度计的旋转物体台(10)能够提供样本(11)的三次曝光。

    成像装置、成像装置操作方法和程序

    公开(公告)号:CN119278365A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202380043103.3

    申请日:2023-05-17

    Inventor: 小川哲

    Abstract: 本公开涉及能够可视化和呈现不可见的成像目标的成像装置、成像装置操作方法和程序。来自待测对象的入射光被光谱分割,基于光谱结果生成光谱原始数据,根据光谱原始数据计算待测对象的光谱反射率,基于光谱反射率生成可视化图像,并且实时显示可视化图像。本发明可以应用于光谱相机。

    干涉仪装置和用于制造干涉仪装置的方法

    公开(公告)号:CN113039414B

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN201980077473.2

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明提出一种干涉仪装置(1),所述干涉仪装置包括:衬底(2);在所述衬底(2)上施加的中间层区域(3);第一镜装置(SP1)和第二镜装置(SP2),其中所述第一镜装置和所述第二镜装置相对彼此平面平行地对准并且以第一间距(d12)彼此间隔开并且被包围在所述中间层区域(3)内或者被布置在所述中间层区域上,其中所述中间层区域(3)在内部区域(IB)内在所述第一镜装置(SP1)之下和/或在所述第二镜装置(SP2)之下被移除;和横向结构化的电极(E),其中所述横向结构化的电极包括第一子区域(E1)和至少一个横向上与所述第一子区域分离的并且电绝缘的第二子区域(E2),其中所述第一子区域和所述第二子区域能够连接到不同电位,其中所述电极(E)布置成离所述第一或第二镜装置(SP1;SP2)有第二间距(d2),其中所述第一子区域(E1)在所述内部区域(IB)中延伸并且布置在所述中间层区域(3)上,而所述第二子区域(E2)则在所述中间层区域(3)的外部区域(AB)中延伸,从而使所述第一镜装置(SP1)和/或所述第二镜装置(SP2)能够通过所述第一子区域(E1)在所述内部区域(IB)中静电地并且平行于所述衬底(2)地移动并且所述第一间距(d12)是可变的。

    干涉仪装置和用于确定干涉仪装置中的第一镜装置和第二镜装置之间的第一间距的方法

    公开(公告)号:CN113302464B

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN201980089437.8

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明提供一种干涉仪装置(1),该干涉仪装置包括:第一镜装置(SP1)和第二镜装置(SP2),所述第一镜装置和所述第二镜装置以第一间距(d12)彼此被隔开,其中所述第一镜装置(SP1)和/或所述第二镜装置(SP2)是能运动的,使得所述间距(d12)是可变的;基板(2),其中所述第一镜装置(SP1)和所述第二镜装置(SP2)叠置地布置在所述基板(2)的光学区域(OB)中,并且其中所述光学区域(OB)包括用于被所述第一镜装置(SP1)和所述第二镜装置(SP2)允许透过的电磁辐射(L)的第一辐射区域(AB1)和第二辐射区域(AB2),所述第一辐射区域和所述第二辐射区域侧向地并排延伸;滤波装置(F),该滤波装置布置在所述第二辐射区域(AB2)的光路中并且借助于该滤波装置能够确定用于所述电磁辐射(L)的波长的、依赖于第一间距(d12)的透过特征;以及探测器装置(3),该探测器装置具有布置在所述第一辐射区域(AB1)的光路中的第一探测器区域(D1)和布置在所述第二辐射区域(AB2)的光路中的第二探测器区域(D2),其中所述探测器装置(3)被设立用于在所述第一探测器区域(D1)中探测来自所述第一和第二镜装置(SP1、SP2)的第一电磁辐射并且在所述第二探测器区域(D2)中探测来自所述滤波装置(F)的第二电磁辐射(St2)。

    可切换多光谱光学传感器
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115917270A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202180042321.6

    申请日:2021-05-17

    Abstract: 一种光学系统,包括多光谱光学元件、可切换滤波器、双带通滤波器和传感器。多光谱光学元件接收至少处于第一光谱带和第二光谱带中的光。双带通滤波器滤除可切换滤波器的过渡区域中在第一光谱带与第二光谱带之间的光的波长。可切换滤波器以第一模式和以第二模式过滤从双带通滤波器接收的第一光谱带中的光,在第一模式中可切换滤波器透射第一光谱带中的光,在第二模式中可切换滤波器不透射第一光谱带中的光。传感器被设置在图像平面处,并且多光谱光学元件被配置为针对光谱带中的每个产生高于光谱带的预定阈值的调制传递函数值。

    光谱成像设备和方法
    46.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111164395B

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN201880063396.0

    申请日:2018-12-21

    Abstract: 一种设备包括:光谱滤波器(26),具有可变光谱滤波器透射(FT(λ));基于事件的成像传感器(27),被配置为产生测量事件(y1,y2,…,yn),这些事件对应于由观察到的光谱(X(λ))产生的滤波器响应(Y(t))的变化;以及处理器(28),被配置为控制光谱滤波器(26)的滤波器透射(FT(λ)),使得滤波器透射(FT(λ))随着时间(t)扫过波长(λ),并且处理器被配置为基于对应于滤波器响应(Y(t))的测量事件(y1,y2,…,yn)并基于滤波器透射(FT(λ))产生观察到的光谱(X(λ))的估计(X*(λ))。

    用于非接触式感测物质的基准开关架构

    公开(公告)号:CN112985603A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202110242820.1

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苹果公司

    Abstract: 本公开涉及用于非接触式感测物质的基准开关架构。本发明涉及用于在采样界面处测量样本(620)中的物质的浓度和类型的系统(600)和方法。所述系统(600)包括光源(602)、一个或多个光学器件(606,610,612)、一个或多个调制器(634,636)、基准(608)、检测器(630)以及控制器(640)。所公开的所述系统和所述方法能够通过在不同的测量光路之间共享一个或多个部件来考虑源自所述光源、一个或多个光学器件和所述检测器的漂移。另外,通过在所述光源与所述样本或基准之间放置一个或多个调制器,所述系统能够区分不同类型的漂移并且消除因杂散光导致的错误测量。此外,通过将检测器像素和微光学器件映射到所述样本中的位置和深度,所述系统能够沿着所述样本内的各种位置和深度检测所述物质。

    用于非接触式感测物质的基准开关架构

    公开(公告)号:CN108449957B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201680049893.6

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苹果公司

    Abstract: 本发明涉及用于在采样界面处测量样本(620)中的物质的浓度和类型的系统(600)和方法。所述系统(600)包括光源(602)、一个或多个光学器件(606,610,612)、一个或多个调制器(634,636)、基准(608)、检测器(630)以及控制器(640)。所公开的所述系统和所述方法能够通过在不同的测量光路之间共享一个或多个部件来考虑源自所述光源、一个或多个光学器件和所述检测器的漂移。另外,通过在所述光源与所述样本或基准之间放置一个或多个调制器,所述系统能够区分不同类型的漂移并且消除因杂散光导致的错误测量。此外,通过将检测器像素和微光学器件映射到所述样本中的位置和深度,所述系统能够沿着所述样本内的各种位置和深度检测所述物质。

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