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    GUIDE D'ONDE COMPORTANT UN CANAL ET UNE COUCHE D'ADAPTATION
    51.
    发明申请
    GUIDE D'ONDE COMPORTANT UN CANAL ET UNE COUCHE D'ADAPTATION 审中-公开
    包含通道和适配层的波形管

    公开(公告)号：WO2003104865A2

    公开(公告)日：2003-12-18

    申请号：PCT/FR2003/001682

    申请日：2003-06-06

    Applicant: SILIOS TECHNOLOGIES ,  TISSERAND, Stéphane ,  HUBERT, Marc ,  ROUX, Laurent

    Inventor： TISSERAND, Stéphane ,  HUBERT, Marc ,  ROUX, Laurent

    IPC: G02B6/12

    CPC classification number: G02B6/1347 ,  G02B6/122 ,  G02B2006/12097

    Abstract: L'invention concerne un guide d'onde comportant un canal (12) sur un substrat optique (11), l'indice de réfraction de ce canal étant supérieur à celui du substrat, et comportant aussi au moins une couche guidante (15) agencée sur ce canal, l'indice de cette couche guidante étant supérieur à celui du substrat. De plus, le guide d'onde comporte une couche d'adaptation (13-14) s'étendant latéralement de part et d'autre du canal (12). L'invention vise également une méthode de fabrication de ce guide d'onde.

    Abstract translation: 本发明涉及一种波导，包括在光学衬底（11）上的通道（12），所述通道的折射率高于衬底的折射率，并且还包括布置在所述通道上的至少一个引导层（15）， 所述引导层的折射率高于基板的折射率。 此外，波导包括在通道（12）的任一侧上横向延伸的适配层（13-14）。 本发明还涉及制造所述波导的方法。

    LAME INTERFEROMETRIQUE A DEUX ONDES COMPORTANT UNE CAVITE PLEINE PARTIELLEMENT RESONANTE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
    52.
    发明专利
    LAME INTERFEROMETRIQUE A DEUX ONDES COMPORTANT UNE CAVITE PLEINE PARTIELLEMENT RESONANTE ET SON PROCEDE DE FABRICATION 未知

    公开(公告)号：FR2984489A1

    公开(公告)日：2013-06-21

    申请号：FR1161675

    申请日：2011-12-15

    Applicant: ONERA (OFF NAT AEROSPATIALE) ,  SILIOS TECHNOLOGIES

    Inventor： TISSERAND STEPHANE ,  GUERINEAU NICOLAS

    IPC: G01J3/02 ,  G01J3/26 ,  G01J9/02

    Abstract: Dispositif interférométrique à deux ondes, permettant d'obtenir une figure d'interférence d'une source lumineuse (S), dont la lumière traverse le dispositif, comportant : - une couche déphasante (A) en un premier matériau (1), d'indice optique n , comportant une première face (A1) et une deuxième face (A2) en vis-à-vis , ladite première face (A1) comportant au moins un élément ou une surface non parallèle à ladite deuxième face (A2) ; - une couche de support (B) en un deuxième matériau (2), d'indice optique n différent de l'indice optique n , comportant une première face (B1) en vis-à-vis et parallèle à une deuxième face (B2) ; - la deuxième face (A2) de la couche déphasante (A) et la deuxième face (B2) de la couche de support (B) étant jointes, de façon à former une lame interférométrique monolithique (LM).

    HOMOGENEISEUR A LAME DE PHASE
    56.
    发明专利
    HOMOGENEISEUR A LAME DE PHASE 未知

    公开(公告)号：FR2922325A1

    公开(公告)日：2009-04-17

    申请号：FR0758288

    申请日：2007-10-12

    Applicant: ECOLE POLYTECHNIQUE ETABLISSEM ,  SILIOS TECHNOLOGIES

    Inventor： CANOVA FEDERICO ,  CHAMBARET JEAN PAUL ,  TISSERAND STEPHANE ,  REVERSAT FABIEN

    IPC: G02B27/09 ,  G02B27/46 ,  H01S3/094

    Abstract: L'invention concerne un système pour homogénéiser une impulsion laser émise par une source laser afin d'illuminer de façon homogène une cible, ce système comprenant entre la source laser et la cible :- une lame de phase constituée d'une pluralité de sous-pupilles aptes à générer une pluralité de faisceaux lasers retardés vers la cible, la différence de parcours Deltad entre deux faisceaux lasers retardés adjacents étant supérieur à la cohérence temporelle Tc de l'impulsion laser,- des moyens de focalisation pour superposer lesdits faisceaux lasers retardés sur la cible en une tache homogène.

    DISPOSITIF DE CALIBRATION SUR SUBSTRAT EN SILICIUM
    58.
    发明专利
    DISPOSITIF DE CALIBRATION SUR SUBSTRAT EN SILICIUM 未知

    公开(公告)号：FR2872275A1

    公开(公告)日：2005-12-30

    申请号：FR0406912

    申请日：2004-06-24

    Applicant: SILIOS TECHNOLOGIES SA

    Inventor： TISSERAND STEPHANE ,  ROUX LAURENT ,  JACOB SOPHIE

    IPC: H01L21/306 ,  H01L21/66 ,  H01L23/544 ,  G01B7/34 ,  G01N27/00 ,  H01J37/20

    Abstract: L'invention présente un dispositif de calibration sur un substrat SU en silicium formé, en sus d'un niveau de référence Nc, par au moins deux niveaux distincts Ng, Nd.Ces niveaux présentent des dopages distincts.L'invention vise également un procédé de réalisation de ce dispositif de calibration, procédé comprenant une étape de définition pour définir au moins deux sections distinctes Sg, Sd d'une section de référence Sc sur un substrat SU en silicium.Cette étape de définition consiste à doper à des taux différents les sections différentes de la section de référence.

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