DISPOSITIF DE CALIBRATION SUR SUBSTRAT EN SILICIUM

    公开(公告)号:FR2872275A1

    公开(公告)日:2005-12-30

    申请号:FR0406912

    申请日:2004-06-24

    Abstract: L'invention présente un dispositif de calibration sur un substrat SU en silicium formé, en sus d'un niveau de référence Nc, par au moins deux niveaux distincts Ng, Nd.Ces niveaux présentent des dopages distincts.L'invention vise également un procédé de réalisation de ce dispositif de calibration, procédé comprenant une étape de définition pour définir au moins deux sections distinctes Sg, Sd d'une section de référence Sc sur un substrat SU en silicium.Cette étape de définition consiste à doper à des taux différents les sections différentes de la section de référence.

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