公开(公告)号：KR1019980012057A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019960031188

申请日：1996-07-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤철주 ,  박명준 ,  남재우 ,  황인식

IPC: H01L21/306

公开(公告)号：KR1019980005743A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960023986

申请日：1996-06-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남재우

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR1019980005739A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960023948

申请日：1996-06-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박명준 ,  남재우 ,  윤철주

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR1019960005819A

公开(公告)日：1996-02-23

申请号：KR1019940016452

申请日：1994-07-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남재우 ,  권명민 ,  송창룡

IPC: H01L21/304

Abstract: 반도체 기판 세정방법과 이에 사용되는 세정액이 개시되어 있다. 반도체 기판, 특히 폴리사이드 구조가 형성되어 있는 반도체 기판을 TC-1 새정액을 사용하여 세정한다. 상기 TC-l 세정액은 사에딜 수산화 앙모늄 수용액과 과산화수소 수용액을 순수물과 혼합한 알카리계 세정액이다. 본 발명에 따르면, TC-1 세정액을 사용한 세정방법은 폴리사이드 배선의 텅스덴 실리사이드층 및 BPSG층에 대해서도 식각성이 거의 없을뿐만 아나라, 반도체 제조공정 중 발생하는 파티클, 폴리머 및 금속성 불순물들을 충분히 제거할 수 있다.