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公开(公告)号：KR1020060008663A
公开(公告)日：2006-01-27
申请号：KR1020040057510
申请日：2004-07-23
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 나노 임프린트를 이용한 나노 물질의 패턴 형성방법에 관한 것이다. 본 발명은, 기판 위에서 나노 임프린팅을 이용하여 수백 nm 이하의 나노 물질의 패턴을 형성하여 성장시키고, 또 나노 물질을 가능한 적은 다발 혹은 하나씩 성장시키는 것에 의해 여러가지 응용장치에 활용할 때 그 효율을 높일 수 있는 나노 임프린트를 이용한 나노 물질의 형성방법을 제공하기 위해, 나노 임프린트 공정에 의해 글래스 또는 웨이퍼의 기판 위에 적층된 금속층 위에 경화수지 패턴을 제작하는 패턴 제작공정과; 상기 패턴 제작공정에 의해 상기 기판의 표면 위에 형성된 패턴 이외의 금속층을 제거한 후 남겨진 경화수지 패턴도 제거하는 것에 의해 패턴 형태의 금속층만 남기는 패턴 에칭공정 및 상기 에칭된 기판을 소정의 반응로내에 반입한 후, 소정의 반응 가스를 도입하여 상기 기판 위에 형성된 금속 패턴을 성장시키는 패턴 성장공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트를 이용한 나노 물질의 패턴 형성방법을 제공한다.
임프린트, 나노, 물질, 패턴, 자외선, 경화수지, 리소그래피-
公开(公告)号：KR102098324B1
公开(公告)日：2020-04-08
申请号：KR1020180088491
申请日：2018-07-30
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L31/0352 , H01L31/0224 , H01L31/0328 , G02B5/02
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公开(公告)号：KR1020180066308A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：KR1020160165806
申请日：2016-12-07
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은대면적제작및 롤스탬프를이용한연속공정이가능하며, 식각공정을거치지않고메타표면을구현할수 있는전사공정을이용한플라즈모닉메타표면제작방법에관한것이다. 이를위해, 본발명은형성하고자하는기능층의패턴에대응되도록일면에나노구조체가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계; 그리고상기일면에액상물질의도포또는이방성진공증착을통해상기기능층을형성하는기능층형성단계;를포함하며, 상기기능층이증착된상기스탬프는플라즈모닉메타표면으로구현되는것을특징으로하는플라즈모닉메타표면제작방법을제공한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020180029604A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR1020160117881
申请日：2016-09-13
Applicant: 한국기계연구원 , 한양대학교 산학협력단
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , H01L21/0274
Abstract: 고종횡비금속구조제조방법은제1 베이스기판상에씨드층을형성한다. 상기씨드층상면에상기씨드층을외부로노출하는홀(hole)을포함하도록나노마스크를형성한다. 상기씨드층으로부터상기홀을관통하여나노로드(nano rod)들을성장시킨다. 상기나노로드들사이의이격공간을금속으로채운다. 상기씨드층으로부터상기나노로드들을제거하여홀을포함하는금속구조를형성한다.
Abstract translation: 高纵横比金属结构制造方法在第一基底基板上形成晶种层。 并且在种子层的上表面上形成用于将种子层暴露于外部的孔。 并且纳米棒通过种子层的孔生长。 纳米棒之间的间距用金属填充。 将纳米棒从种子层去除以形成包括孔的金属结构。
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公开(公告)号：KR1020170119775A
公开(公告)日：2017-10-30
申请号：KR1020160047582
申请日：2016-04-19
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B32B37/02 , B23K26/36 , B23K26/38 , B32B37/025 , B32B38/0008 , B32B38/1833 , B32B2310/0843
Abstract: 본발명은필름형태의가공필름에결합되는가공층을레이저빔으로가공하고, 가공된가공층을다수적층고정시킴으로써, 고강도이고, 초경량이며, 고기능성인 3차원구조체를쉽고용이하게형성할수 있는나노박막의레이저가공을이용한 3차원구조체의제조방법에관한것이다. 이를위해나노박막의레이저가공을이용한 3차원구조체의제조방법은가공층이결합된가공필름을롤러유닛에설치한상태에서롤러유닛을동작시켜가공필름을가공영역에정위치시키는제1정위치단계와, 가공영역에서기설정된패턴에대응하여레이저유닛을동작시켜레이저빔으로가공층을가공하는패터닝단계와, 롤러유닛을동작시켜패터닝단계를거쳐가공된가공층을적층스테이지또는적층스테이지에안착된기판상에정위치시키는제2정위치단계및 가공된가공층이적층스테이지또는기판상에적층되도록스퀴지유닛을동작시켜가공필름을적층스테이지쪽으로가압하는적층단계를포함하고, 상술한단계를순차적으로반복실시하여나노박막으로 3차원구조체를제조할수 있다.
Abstract translation: 在本发明中的纳米薄膜，通过该处理，连接到具有用激光束的薄膜形式的处理膜处理层，所述多个层叠固定研磨处理层，一种高强度，并且重量轻，它可以容易地形成并且有利于高性能成人三维结构 三维结构采用激光加工的三维结构。 采用纳米薄膜的激光加工为具有包括所述第一位置制造这种三维结构的方法，包括：通过在安装操作所述辊单元hansangtae处理膜加工联接到滚子单元中的位置层在处理区域处理该膜 中，基板安放一组图形化步骤中，处理层通过图案化步骤操作所述辊单元处理，其响应于所述预定图案通过操作激光器单元处理与从处理区域的激光束，以在层压阶段或层叠阶段的一部分层 并且，使刮板单元动作，以使加工后的加工层层叠在层叠工作台或基板上，并将加工后的膜向层叠工序推压，并依次重复上述工序 三维结构可以使用纳米膜来制造。
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公开(公告)号：KR1020170091406A
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：KR1020160012389
申请日：2016-02-01
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 양자점플라즈모닉필름과이의제조방법을제공한다. 양자점플라즈모닉필름의제조방법은, 고분자수지에복수의양자점이분산된기재필름을제조하는단계와, 임프린트몰드로기재필름을가압하여기재필름의일면에나노미터크기의오목패턴을형성하는단계와, 기재필름의일면에금속을나노미터두께로증착하여오목패턴내부에위치하는제1 금속층및 오목패턴사이에위치하는제2 금속층을형성하는단계와, 제2 금속층을제거하는단계를포함한다.
Abstract translation: 量子点等离子体激元膜及其制造方法。 一种制造量子点等离激元膜的方法，该方法包括以下步骤：制备多个量子点的基膜的分散在聚合物树脂，通过在压印模具和加压支持膜，形成纳米尺寸的基材膜的一个表面上的凹陷图案 ，它包括通过在纳米厚度的基材膜的一个表面上沉积金属，以形成位于所述第一金属层和位于该凹图案内的凹图案之间的第二金属层去除第二金属层的步骤。
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公开(公告)号：KR101729683B1
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020150131007
申请日：2015-09-16
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 선격자편광자의제조방법은, 일면에나노구조체를가지는스탬프를준비하고상기일면에이방성진공증착으로마스크층을형성하는단계와, 기판위에금속막을형성하는단계와, 마스크층가운데나노구조체상부의마스크층을금속막위로전사하는단계와, 금속막가운데마스크층으로덮이지않은부위를건식식각으로제거하여금속막을금속선들로패터닝하는단계를포함한다.
Abstract translation: 制造线栅偏振器中，制备戳与在一侧上的纳米结构，和相位，并且在形成在形成在沉积在表面上的各向异性真空的掩模层的金属膜的纳米结构顶部上的掩模的掩模层的方法，所述衬底 将该层转移到金属膜上，并且通过干法蚀刻除去未被掩模层覆盖的金属膜的部分，以用金属线图案化金属膜。
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公开(公告)号：KR101716851B1
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：KR1020150163401
申请日：2015-11-20
Abstract: 용액재료를이용한미세패턴제조방법에서, 베이스기판상에친수성막및 소수성막을포함하는제1 층을형성한다. 베이스몰드상에제1 패턴을형성하여임프린팅몰드를제작한다. 상기제1 패턴을포함한임프린팅몰드로상기제1 층을패터닝한다. 상기패터닝으로제2 패턴이형성된상기기판상에용액을도포한다. 상기도포된용액을건조한다.
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