-
公开(公告)号：WO2023003108A1
公开(公告)日：2023-01-26
申请号：PCT/KR2021/020225
申请日：2021-12-29
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명의 실시예는, 내부 공간에 혼합액이 수용 가능하도록 'U'자로 형성되되, 하면부와 측면부를 포함하고, 상기 혼합액이 수용되는 수용부가 형성되는 캐스트부와, 상기 하면부의 적어도 일부분의 영역으로부터 돌출 형성되는 적어도 하나 이상의 돌출 필라를 포함하는 하는 피부 부착 박막의 제조를 위한 성형몰드를 제공한다.
-
公开(公告)号：WO2023003107A1
公开(公告)日：2023-01-26
申请号：PCT/KR2021/020224
申请日：2021-12-29
Applicant: 한국기계연구원 , 씨알에스큐브 아메리카, 인크.
Abstract: 본 발명의 실시예는, 베이스 박막으로부터 적어도 하나 이상의 미세 구조 체가 돌출형성된 구조체 박막을 준비하는 박막 준비단계와, 상기 구조체 박막 중 상기 베이스 박막 영역을 제외한 상기 미세 구조체에 기능성 혼합체를 도포하는 혼 합체 도포단계를 포함하며, 상기 혼합체 도포단계에서 상기 기능성 혼합체는 적어 도 하나 이상의 상기 미세 구조체 중 일부 미세 구조체의 불특정 영역에 불규칙하게 코팅되는 것을 특징으로 하는 기능성 혼합체가 코팅된 피부 부착 박막 제조방법을 제공한다.
-
-
公开(公告)号：KR101930421B1
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：KR1020170059454
申请日：2017-05-12
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 대면적 제작 및 롤 스탬프를 이용한 연속 공정이 가능하며, 굴절광학소자에서 구현할 수 없는 여러가지 종류의 광학기능을 구현할 수 있는 나노마이크로기반 회절광학소자 및 이의 형성방법에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 투명기판과, 형성하고자 하는 홀로그램 패턴에 대응되도록 상기 투명기판 상부에 형성되어 있는 기능층과, 상기 투명기판과 상기 기능층 사이에 배치되는 산화물층을 포함하며, 상기 기능층 하면은 원형 또는 모서리가 곡면을 가지는 다각형 또는 이들의 집합체 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 나노마이크로기반 회절광학소자를 제공한다.-
公开(公告)号：KR102098324B1
公开(公告)日：2020-04-08
申请号：KR1020180088491
申请日：2018-07-30
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L31/0352 , H01L31/0224 , H01L31/0328 , G02B5/02
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020180066308A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：KR1020160165806
申请日：2016-12-07
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은대면적제작및 롤스탬프를이용한연속공정이가능하며, 식각공정을거치지않고메타표면을구현할수 있는전사공정을이용한플라즈모닉메타표면제작방법에관한것이다. 이를위해, 본발명은형성하고자하는기능층의패턴에대응되도록일면에나노구조체가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계; 그리고상기일면에액상물질의도포또는이방성진공증착을통해상기기능층을형성하는기능층형성단계;를포함하며, 상기기능층이증착된상기스탬프는플라즈모닉메타표면으로구현되는것을특징으로하는플라즈모닉메타표면제작방법을제공한다.
-
公开(公告)号：KR101729683B1
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020150131007
申请日：2015-09-16
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 선격자편광자의제조방법은, 일면에나노구조체를가지는스탬프를준비하고상기일면에이방성진공증착으로마스크층을형성하는단계와, 기판위에금속막을형성하는단계와, 마스크층가운데나노구조체상부의마스크층을금속막위로전사하는단계와, 금속막가운데마스크층으로덮이지않은부위를건식식각으로제거하여금속막을금속선들로패터닝하는단계를포함한다.
Abstract translation: 制造线栅偏振器中，制备戳与在一侧上的纳米结构，和相位，并且在形成在形成在沉积在表面上的各向异性真空的掩模层的金属膜的纳米结构顶部上的掩模的掩模层的方法，所述衬底 将该层转移到金属膜上，并且通过干法蚀刻除去未被掩模层覆盖的金属膜的部分，以用金属线图案化金属膜。
-
公开(公告)号：KR1020180125109A
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：KR1020170059454
申请日：2017-05-12
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은대면적제작및 롤스탬프를이용한연속공정이가능하며, 굴절광학소자에서구현할수 없는여러가지종류의광학기능을구현할수 있는나노마이크로기반회절광학소자및 이의형성방법에관한것이다. 이를위해, 본발명은투명기판과, 형성하고자하는홀로그램패턴에대응되도록상기투명기판상부에형성되어있는기능층과, 상기투명기판과상기기능층사이에배치되는산화물층을포함하며, 상기기능층하면은원형또는모서리가곡면을가지는다각형또는이들의집합체형상으로형성되어있는것을특징으로하는나노마이크로기반회절광학소자를제공한다.
-
公开(公告)号：KR101880078B1
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：KR1020160165806
申请日：2016-12-07
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은대면적제작및 롤스탬프를이용한연속공정이가능하며, 식각공정을거치지않고메타표면을구현할수 있는전사공정을이용한플라즈모닉메타표면제작방법에관한것이다. 이를위해, 본발명은형성하고자하는기능층의패턴에대응되도록일면에나노구조체가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계; 그리고상기일면에액상물질의도포또는이방성진공증착을통해상기기능층을형성하는기능층형성단계;를포함하며, 상기기능층이증착된상기스탬프는플라즈모닉메타표면으로구현되는것을특징으로하는플라즈모닉메타표면제작방법을제공한다.
-
公开(公告)号：KR1020170033106A
公开(公告)日：2017-03-24
申请号：KR1020150131007
申请日：2015-09-16
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 선격자편광자의제조방법은, 일면에나노구조체를가지는스탬프를준비하고상기일면에이방성진공증착으로마스크층을형성하는단계와, 기판위에금속막을형성하는단계와, 마스크층가운데나노구조체상부의마스크층을금속막위로전사하는단계와, 금속막가운데마스크층으로덮이지않은부위를건식식각으로제거하여금속막을금속선들로패터닝하는단계를포함한다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.022 seconds)
