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公开(公告)号：CN1184627C
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN00129639.6
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
CPC classification number: G11B7/24 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D3/0406 , G11B7/26
Abstract: 一种信息记录媒体的制造方法，其在主板(202)上，具有可记录信息的记录层(204)，在使形成有色素记录层(204)的主板(202)高速旋转的同时，使空气流过，进行干燥的场合，在使上述主板(202)高速旋转的装置顶部的开口部(422)上，设置在中心部具有圆形的开口部(512)的盖(504)，用于使清洁的空气进入的进气口变窄。
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公开(公告)号：CN1434442A
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN02155976.7
申请日：2002-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/263 , B05C11/08 , B29C2035/0827 , B29D17/005 , B29L2017/005 , G11B7/253 , G11B7/26 , G11B7/266
Abstract: 本发明提供了一种制造光盘的方法，通过该方法，光传输层能够在不需要附加盖体的情况下均匀地旋转涂覆。制备心轴夹具，该心轴夹具有中心轴，并由不粘性物质形成。将树脂排出到心轴夹具的表面上。将基片放置在该树脂上，并使该基片的记录层对着心轴夹具，并使该基片旋转，以便形成光传输层。使涂覆有光传输层的基片与心轴夹具分离。因此，树脂并不排出到基片的中心，而是环绕该基片的中心。因此不需要附加的盖体，从而使光盘的制造过程简化。还有，通过利用由不粘性更好的物质来形成心轴夹具和模型基质，能够使基片的整个表面均匀涂覆有光传输层。
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公开(公告)号：CN1106231C
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：CN98810748.1
申请日：1998-10-17
Applicant: ACR洁净室自动控制技术有限公司
CPC classification number: B05C11/08
Abstract: 用于在显示屏玻璃泡体(11)的曲面(12)上涂覆液体涂布介质薄层的装置(10)，设有一个可被旋转驱动的转台(20)，其上无相对转动地固定着用于待涂覆物件(11)的容纳座(30)；设有一个不可旋转地被固定的工作箱(50)，它包围着容纳座(30)及转台(20)；建议，在喷雾环(60)与工作箱(50)的顶部件(51)间设置一个第一环形间隙，该容纳座(30)设置了一个抽吸锥(32)，在抽吸锥与工作箱(50)的外壁间形成一个第二环形间隙(37)，在其里侧形成一个减压腔室(36)；一个层流(A)指向喷雾环(60)、或工作箱(50)的上侧，并且工作箱(50)的底(54)与一个抽吸件(B)相连。
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公开(公告)号：CN1093783C
公开(公告)日：2002-11-06
申请号：CN97190338.7
申请日：1997-02-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: B05B7/0884 , B05B7/02 , B05B7/025 , B05C5/02 , B05C5/0208 , B05C5/0254 , B05C5/027 , B05C11/08 , H01J9/227
Abstract: 液体喷涂喷嘴(4，4a，124)带有第一模块(41)，其具有沿其纵向延伸的内部液体存储单元(43)和在液体存储单元(43)底部沿纵向形成的包含许多小孔44的内部喷射单元，并带有第二模块(42)，其具有规定在第一模块外部沿纵向延伸的气体存储单元(46)的内部空间和在内部空间底部沿纵向形成的外部喷射单元，该外部喷射单元包括许多小孔(48)并形成从外部环绕从小孔(44)向下喷出的直线状或幕状液流的气流，在压缩液体的消耗量和喷涂不均匀性的产生的同时，在短时间内制成薄的涂膜。
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公开(公告)号：CN1336677A
公开(公告)日：2002-02-20
申请号：CN01121720.0
申请日：1997-02-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: B05B7/0884 , B05B7/02 , B05B7/025 , B05C5/02 , B05C5/0208 , B05C5/0254 , B05C5/027 , B05C11/08 , H01J9/227
Abstract: 液体喷涂喷嘴(4,4a,124)带有第一模块(41),其具有沿其纵向延伸的内部液体存储单元(43)和在液体存储单元(43)底部沿纵向形成的包含许多小孔44的内部喷射单元,并带有第二模块(42),其具有规定在第一模块外部沿纵向延伸的气体存储单元(46)的内部空间和在内部空间底部沿纵向形成的外部喷射单元,该外部喷射单元包括许多小孔(48)并形成从外部环绕从小孔(44)向下喷出的直线状或幕状液流的气流,在压缩液体的消耗量和喷涂不均匀性的产生的同时,在短时间内制成薄的涂膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1336257A
公开(公告)日：2002-02-20
申请号：CN01121719.7
申请日：1997-02-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: B05B7/0884 , B05B7/02 , B05B7/025 , B05C5/02 , B05C5/0208 , B05C5/0254 , B05C5/027 , B05C11/08 , H01J9/227
Abstract: 液体喷涂喷嘴(4,4a,124)带有第一模块(41),其具有沿其纵向延伸的内部液体存储单元(43)和在液体存储单元(43)底部沿纵向形成的包含许多小孔44的内部喷射单元,并带有第二模块(42),其具有规定在第一模块外部沿纵向延伸的气体存储单元(46)的内部空间和在内部空间底部沿纵向形成的外部喷射单元,该外部喷射单元包括许多小孔(48)并形成从外部环绕从小孔(44)向下喷出的直线状或幕状液流的气流,在压缩液体的消耗量和喷涂不均匀性的产生的同时,在短时间内制成薄的涂膜。
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公开(公告)号：CN1292548A
公开(公告)日：2001-04-25
申请号：CN00129639.6
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
CPC classification number: G11B7/24 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D3/0406 , G11B7/26
Abstract: 一种信息记录媒体的制造方法,其在主板(202)上,具有可记录信息的记录层(204),在使形成有色素记录层(204)的主板(202)高速旋转的同时,使空气流进,进行干燥的场合,在使上述主板(202)高速旋转的装置顶部的开口部(422)上,设置在中心部具有圆形的开口部(512)的盖(504),用于使清洁的空气进入的进气口变窄。
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公开(公告)号：CN1278194A
公开(公告)日：2000-12-27
申请号：CN98810748.1
申请日：1998-10-17
Applicant: ACR洁净室自动控制技术有限公司
CPC classification number: B05C11/08
Abstract: 用于在显示屏玻璃泡体(11)的曲面(12)上涂覆液体涂布介质薄层的装置(10),设有一个可被旋转驱动的转台(20),其上无相对转动地固定着用于待涂覆物件(11)的容纳座(30);设有一个不可旋转地被固定的工作箱(50),它包围着容纳座(30)及转台(20):建议,在喷雾环(60)与工作箱(50)的顶部件(51)间设置一个第一环形间隙,该容纳座(30)设置了一个抽吸锥(32),在抽吸维与工作箱(50)的外壁间形成一个第二环形间隙(37),在其里侧形成一个减压腔室(36);一个层流(A)指向喷雾环(60)。或工作箱(50)的上侧,并且工作箱(50)的底(54)与一个抽吸件(B)相连。
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公开(公告)号：CN1059967C
公开(公告)日：2000-12-27
申请号：CN94104922.1
申请日：1994-03-25
Applicant: 东京电子株式会社 , 东京电子九州株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/312 , B05C5/02
Abstract: 一种形成涂膜的装置，其中包括：支撑一个面向上的基片，并使该基片围绕垂直轴旋转的旋转夹盘，供应涂覆液溶剂到基片上的第一喷嘴，和向基片中心部位供应涂覆溶液的第二喷嘴。第一和第二喷嘴由喷头支撑着，使支撑的喷嘴在基片上方滴加位置和偏置基片的等待位置之间移动。靠旋转夹盘的旋转，使溶剂和涂覆溶液沿基片的表面扩散。
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公开(公告)号：CN1248058A
公开(公告)日：2000-03-22
申请号：CN99119540.X
申请日：1999-09-02
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 与那霸真哉
Abstract: 在具有8英寸或更大直径晶片上通过旋转涂布工艺涂布厚度为5500埃或更薄的抗蚀剂膜。在晶片以500至1200转/每分钟的速度旋转时,向晶片滴下预定量的抗蚀剂,当抗蚀剂在晶片的整个表面扩散时,停止下滴抗蚀剂。晶片的旋转速度提高到晶片的预定的旋转速度,该预定的旋转速度是由控制抗蚀剂膜厚度的晶片预定旋转速度的关联而确定的,并使晶片以该速度旋转1至5秒钟。然后使晶片以低于预定转速的速度旋转15秒钟或更长时间。
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