公开(公告)号：CN1102505A

公开(公告)日：1995-05-10

申请号：CN94104922.1

申请日：1994-03-25

Applicant: 东京电子株式会社 ,  东京电子九州株式会社

Inventor： 长谷部圭藏 ,  藤本昭浩 ,  稻田博一 ,  饭野洋行 ,  北村晋治 ,  出口雅敏 ,  南部光宽

IPC: H01L21/30 ,  H01L21/31 ,  H01L21/312 ,  G03F7/16 ,  B05D1/00 ,  G03C1/74

CPC classification number: B05C11/08 ,  G03F7/162

Abstract: 一种形成涂膜的装置，其中包括：支撑一个面向上的基片，并使该基片围绕垂直轴旋转的旋转夹盘，供应涂覆液溶剂到基片上的第一喷嘴，和向基片中心部位供应涂覆溶液的第二喷嘴。第一和第二喷嘴由喷头支撑着，使支撑的喷嘴在基片上方滴加位置和偏置基片的等待位置之间移动。靠旋转夹盘的旋转，使溶剂和涂覆溶液沿基片的表面扩散。

公开(公告)号：CN1059967C

公开(公告)日：2000-12-27

申请号：CN94104922.1

申请日：1994-03-25

Applicant: 东京电子株式会社 ,  东京电子九州株式会社

Inventor： 长谷部圭藏 ,  藤本昭浩 ,  稻田博一 ,  饭野洋行 ,  北村晋治 ,  出口雅敏 ,  南部光宽

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/312 ,  B05C5/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  G03F7/162

Abstract: 一种形成涂膜的装置，其中包括：支撑一个面向上的基片，并使该基片围绕垂直轴旋转的旋转夹盘，供应涂覆液溶剂到基片上的第一喷嘴，和向基片中心部位供应涂覆溶液的第二喷嘴。第一和第二喷嘴由喷头支撑着，使支撑的喷嘴在基片上方滴加位置和偏置基片的等待位置之间移动。靠旋转夹盘的旋转，使溶剂和涂覆溶液沿基片的表面扩散。