간섭계에서 대상에 의해 반사/산란되고 투과되는 빔의 공액직교 필드의 공동 측정 장치 및 방법
    52.
    发明公开
    간섭계에서 대상에 의해 반사/산란되고 투과되는 빔의 공액직교 필드의 공동 측정 장치 및 방법 无效
    用于干涉测量的对象的反射/散射和透射的区域的相关联的测量的测量装置和方法

    公开(公告)号:KR1020050114611A

    公开(公告)日:2005-12-06

    申请号:KR1020057013857

    申请日:2004-01-27

    Inventor: 힐헨리알렌

    Abstract: An interferometery system (110) for making interferometric measurements of an object, the system including: a beam generation module (124) which during operation delivers an output beam that includes a first beam at a first frequency and a second beam at a second frequency that is different from the first frequency, the first and second beams within the output beam being coextensive, the beam generation module including a beam conditioner (122) which during operation introduces a sequence of different shifts in a selected parameter of each of the first and second beams, the selected parameter selected from a group consisting of phase and frequency; a detector assembly having a detector element (170); and an interferometer constructed to receive the output beam at least a part of which represents a first measurement beam at the first frequency and a second measurement beam at the second frequency, the interferometer further constructed to image both the first and second measurement beams onto a selected spot on the object (160) to produce therefrom corresponding first and second return measurement beams, and to then simultaneously image the first and second return measurement beams onto said detector element (170).

    Abstract translation: 一种用于对物体进行干涉测量的干涉仪系统(110),所述系统包括:光束产生模块(124),其在操作期间传送包括第一频率的第一光束和第二频率的第二光束的输出光束, 与第一频率不同的是,输出光束内的第一和第二光束是共同延伸的,光束产生模块包括光束调节器(122),其在操作期间引入第一和第二光束中每一个的选定参数中的不同偏移序列 所述参数选自由相位和频率组成的组; 具有检测器元件(170)的检测器组件; 以及干涉仪,其被构造为接收输出光束,所述输出光束的至少一部分表示第一频率处的第一测量光束和在第二频率处的第二测量光束,所述干涉仪还被构造成将所述第一和第二测量光束成像到所选择的 (160)上产生相应的第一和第二返回测量光束,然后将第一和第二返回测量光束同时成像到所述检测器元件(170)上。

    변환주파수를 기반으로 하는 간섭방법
    53.
    发明公开
    변환주파수를 기반으로 하는 간섭방법 无效
    基于转换频率的干扰方法

    公开(公告)号:KR1020040103913A

    公开(公告)日:2004-12-09

    申请号:KR1020047010961

    申请日:2003-01-23

    CPC classification number: G01B9/0201 G01B9/02004 G01B9/02079

    Abstract: 본 발명은 주파수 및 위상각 예를 들면 레이저 드리프트(Drift)에 기인하는 공칭적으로 고정된 레이저를 이용하는 간섭방법에 관한 것이다. 간섭패턴은 주기적으로 목적물의 위상시프트 보다 더 높은 주파수에서 주기적으로 샘플링된다. 파장은 상관관계 알고리즘을 이용한 샘플된 패턴으로부터 복원된다. 상기 위상각은 n-버켓 알고리즘을 이용하여 결정된다. 모든 복잡한 정보는 다중파장에서 결정된 후에 목적물의 표면은 종래의 간섭 기술을 이용하여 계산된다. 따라서 레이저 드리프트는 일반적으로 네거티브 속성이지만 포지티브하게 이용된다.

    延伸範圍成像 EXTENDED RANGE IMAGING
    55.
    发明专利
    延伸範圍成像 EXTENDED RANGE IMAGING 审中-公开
    延伸范围成像 EXTENDED RANGE IMAGING

    公开(公告)号:TW201034626A

    公开(公告)日:2010-10-01

    申请号:TW098124643

    申请日:2009-07-21

    IPC: A61B

    Abstract: 本發明提出一種影像器,其可提供對應於一樣本中之不同深度的分離影像。按照本發明之一些實施例,一影像器可包含一光源;一採樣臂,其從該光源接收光,引導該光到一樣本以及捕獲從該樣本返回之光;一調變源,其提供對應於該樣本中之不同成像深度之不同調變;一偵測器系統,其用於接收從具有該等不同調變之該樣本捕獲之該光;及一處理器,其從該偵測器系統接收信號,並且分離與該樣本中之該等不同影像深度相對應的複數個影像。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提出一种影像器,其可提供对应于一样本中之不同深度的分离影像。按照本发明之一些实施例,一影像器可包含一光源;一采样臂,其从该光源接收光,引导该光到一样本以及捕获从该样本返回之光;一调制源,其提供对应于该样本中之不同成像深度之不同调制;一侦测器系统,其用于接收从具有该等不同调制之该样本捕获之该光;及一处理器,其从该侦测器系统接收信号,并且分离与该样本中之该等不同影像深度相对应的复数个影像。

    低一致性掃描干涉之掃描誤差修正 SCAN ERROR CORRECTION IN LOW COHERENCE SCANNING INTERFEROMETRY
    57.
    发明专利
    低一致性掃描干涉之掃描誤差修正 SCAN ERROR CORRECTION IN LOW COHERENCE SCANNING INTERFEROMETRY 审中-公开
    低一致性扫描干涉之扫描误差修正 SCAN ERROR CORRECTION IN LOW COHERENCE SCANNING INTERFEROMETRY

    公开(公告)号:TW201037267A

    公开(公告)日:2010-10-16

    申请号:TW098140066

    申请日:2009-11-25

    IPC: G01B

    Abstract: 本發明提供一種裝置,包括:一寬頻帶掃描干涉系統,包括複數干涉儀光學組件,用以結合來自於一待測物的測試光和來自於一參考物的參考光,而在一偵測器中形成一干涉圖案,其中上述測試光和參考光來自於一共用光源,上述寬頻帶掃描干涉系統更包括一掃瞄平台,用以掃描介於上述測試光和參考光之間之從上述共用光源至上述偵測器的一光程差,以及包括上述偵測器之一偵測器系統,用以紀錄一系列之光程差增量之每一者的干涉圖案,其中每一個上述光程差增量的頻率定義一畫框頻率;上述干涉儀光學組件更用以產生至少二個監測干涉訊號,當掃描上述光程差時,上述監測干涉訊號之每一者表示上述光程差的變化,其中上述偵測系統更用以紀錄上述監測干涉訊號;以及一電子處理器,電性耦接於上述偵測系統和掃瞄平台,用以決定大於上述畫框頻率的頻率時上述光程差增量對擾動靈敏度的資訊。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种设备,包括:一宽带带扫描干涉系统,包括复数干涉仪光学组件,用以结合来自于一待测物的测试光和来自于一参考物的参考光,而在一侦测器中形成一干涉图案,其中上述测试光和参考光来自于一共享光源,上述宽带带扫描干涉系统更包括一扫瞄平台,用以扫描介于上述测试光和参考光之间之从上述共享光源至上述侦测器的一光程差,以及包括上述侦测器之一侦测器系统,用以纪录一系列之光程差增量之每一者的干涉图案,其中每一个上述光程差增量的频率定义一画框频率;上述干涉仪光学组件更用以产生至少二个监测干涉信号,当扫描上述光程差时,上述监测干涉信号之每一者表示上述光程差的变化,其中上述侦测系统更用以纪录上述监测干涉信号;以及一电子处理器,电性耦接于上述侦测系统和扫瞄平台,用以决定大于上述画框频率的频率时上述光程差增量对扰动灵敏度的信息。

    基於輔助電磁場之引入之一階散射測量疊加之新方法
    58.
    发明专利
    基於輔助電磁場之引入之一階散射測量疊加之新方法 审中-公开
    基于辅助电磁场之引入之一阶散射测量叠加之新方法

    公开(公告)号:TW201710799A

    公开(公告)日:2017-03-16

    申请号:TW104144070

    申请日:2015-12-28

    CPC classification number: G01B11/272 G01B9/0201 G01N21/4788 G03F7/70633

    Abstract: 本發明提供計量量測方法及工具,其藉由一固定的照明源照明一固定的繞射目標;量測由一零階繞射信號及一一階繞射信號之一總和組成之一信號;維持該繞射目標及該照明源固定的同時,針對該零階繞射信號與該一階繞射信號之間的複數個關係重複該量測;及自該等量測總和導出該一階繞射信號。照明可係同調的且可在光瞳平面中量測,或照明可係不同調的且可在場平面中量測,在任一情況下,量測該零繞射階與該一繞射階之部分疊加。照明可係環形且該繞射目標可係帶有具有不同節距以分離該等疊加區域之週期性結構之一個一單元SCOL目標。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供计量量测方法及工具,其借由一固定的照明源照明一固定的绕射目标;量测由一零阶绕射信号及一一阶绕射信号之一总和组成之一信号;维持该绕射目标及该照明源固定的同时,针对该零阶绕射信号与该一阶绕射信号之间的复数个关系重复该量测;及自该等量测总和导出该一阶绕射信号。照明可系同调的且可在光瞳平面中量测,或照明可系不同调的且可在场平面中量测,在任一情况下,量测该零绕射阶与该一绕射阶之部分叠加。照明可系环形且该绕射目标可系带有具有不同节距以分离该等叠加区域之周期性结构之一个一单元SCOL目标。

    相位移干涉術之方法與系統 PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY METHOD AND SYSTEM
    59.
    发明专利
    相位移干涉術之方法與系統 PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY METHOD AND SYSTEM 有权
    相位移干涉术之方法与系统 PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY METHOD AND SYSTEM

    公开(公告)号:TWI269022B

    公开(公告)日:2006-12-21

    申请号:TW091135414

    申请日:2002-12-06

    IPC: G01B

    Abstract: 一種干涉術之方法包括:i)藉由將反射自複數表面之一光波前之不同部位結合,形成一光學干涉影像;ii)隨著改變上述光波前特性,其引起具有不同光路徑分離之複數表面對提供不同的上述干涉訊號,記錄上述光學干涉影像之不同位置的一干涉訊號;iii)對於至少一上述位置轉換該干涉訊號,以便於光譜座標上,對應於該等複數表面對之每一對,產生具有一峰值的一光譜;以及iv)鑑別對應於該等複數表面對之一被選擇對的該峰值之光譜座標。

    Abstract in simplified Chinese: 一种干涉术之方法包括:i)借由将反射自复数表面之一光波前之不同部位结合,形成一光学干涉影像;ii)随着改变上述光波前特性,其引起具有不同光路径分离之复数表面对提供不同的上述干涉信号,记录上述光学干涉影像之不同位置的一干涉信号;iii)对于至少一上述位置转换该干涉信号,以便于光谱座标上,对应于该等复数表面对之每一对,产生具有一峰值的一光谱;以及iv)鉴别对应于该等复数表面对之一被选择对的该峰值之光谱座标。

    KR20210031310A - High precision 3D measurement device and method thereof

    公开(公告)号:KR20210031310A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:KR1020190113096A

    申请日:2019-09-11

    Abstract: 본 발명의 일면에 의하면, 측정대상물(O)에 대하여 제1 패턴(P1)을 측정대상물(O)의 상면에 평행한 제1 방향(X)으로 제공하기 위한 위상 발생부(10); 위상 발생부(10)로부터 제공되는 제1 패턴(P1)을 측정대상물(O)에 대하여 수직한 제2 방향(Y)으로 광경로를 변경하며, 측정대상물(O)로부터 제1 패턴(P1)이 반사되어 변형된 제2 패턴(P2)을 측정대상물(O)의 상면에 수직한 제3 방향(-Y)으로 진행하도록 하기 위한 광경로 변환부(20); 및 측정대상물(O)로부터 반사되어 광경로 변환부(20)를 투과한 제2 패턴(P2)의 영상이 입력되도록 하기 위한 영상 입력부(30)를 포함하는 촛점심도 개선을 통한 고해상도의 3차원 검사장치가 제공된다.

Patent Agency Ranking