公开(公告)号：CN101243360A

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200680029692.6

申请日：2006-05-26

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： S·贝德 ,  W·辛格 ,  K·-H·舒斯特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0892 ,  B82Y10/00 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70958

Abstract: 一种适合于微光刻投影曝光机的投影物镜，其用于将该投影物镜的物平面(OP)中提供的图案成像到该投影物镜的像平面(IP)上，其具有多个光学元件，其对于该投影物镜的工作波长处的辐射是透明的。至少一个光学元件(LOE1，LOE2)是由在工作波长处折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。

公开(公告)号：CN101126907A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200710152722.9

申请日：2007-08-14

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： D·克拉默 ,  J·劳夫

IPC: G03F7/20 ,  G02B1/02 ,  G02B5/30

CPC classification number: G03F7/70966 ,  G02B13/143

Abstract: 本发明涉及一种微光刻投影曝光设备的投影物镜，用来将位于物平面的掩模图像投影至位于像平面的光敏涂层上，其中所述投影透镜具有光轴(OA)。为了能在使用高折射的结晶材料的同时限制本征双折射的消极影响，依据本发明一方面的投影透镜包括至少一个透镜(143、255、360、470)，所述至少一个透镜具有至少一个弯曲的透镜表面，并由以相互邻接关系彼此跟随的方式排列的至少四个本征双折射材料的透镜元件(143a－143d、255a－255d、360a－360d、470a－470d)按照沿着光轴(OA)组合而成，其中，所述四个透镜元件由两对透镜元件组成，其中两对具有彼此不同的晶体切向，并且其中每对中的透镜元件都具有相同的晶体切向并相对于彼此围绕光轴(OA)以旋转偏移进行排列。

公开(公告)号：CN101073021A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200580042032.7

申请日：2005-12-08

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： W·克劳斯 ,  M·托特泽克 ,  W·米勒-里斯曼

IPC: G02B1/02 ,  C04B35/443 ,  G03F7/20

CPC classification number: C04B35/443 ,  C04B35/053 ,  C04B35/44 ,  C04B35/6455 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/9646 ,  G02B1/02 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70958

Abstract: 一种适于在显微光刻投影曝光装置的物镜中使用的传输光学元件(33，37)由多晶材料(100)组成，其中多晶材料(100)具有立方晶体结构的微晶(102)，并且这些微晶(102)的平均微晶尺寸至少是(0.5)微米和至多是(100)微米。

公开(公告)号：CN101013269A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200710008372.9

申请日：2007-01-29

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： E·R·卢普斯特拉 ,  A·F·P·恩格伦 ,  B·A·J·卢蒂克休斯 ,  M·J·A·鲁宾格 ,  J·M·A·哈詹伯格 ,  L·C·乔里特斯马 ,  J·W·德克勒克 ,  B·格尤帕特 ,  P·沙普 ,  A·A·范比泽科姆 ,  P·F·W·M·曼迪杰斯 ,  F·索格 ,  P·多弗尔

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70933

Abstract: 一种光刻装置，在其投影系统的光瞳平面中具有更换光学元件的组件。该光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以与中间掩模标准规定的物理尺寸一致，例如具有大体上等于5、6或9英寸的侧边。

公开(公告)号：CN1965259A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200580018858.X

申请日：2005-04-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： A·埃普勒

IPC: G02B17/08 ,  G02B17/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0804 ,  G02B17/0808 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0816 ,  G02B17/0836 ,  G02B17/0844 ,  G02B17/0848 ,  G02B17/086 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面内的离轴有效物场成像至布置在所述投影物镜的像面内的离轴有效像场上，其包括：光轴；有效物场，完全位于所述光轴外部，沿第一方向具有长度A并沿与所述第一方向垂直的第二方向具有宽度B，使得包围所述有效物场的尺寸最小的圆形区域根据(I)定义所述有效物场的半径REOF；圆形设计物场，以所述光轴为中心，具有设计物场半径RDOF，其中所述投影物镜在径向坐标小于RDOF的区域内基本上得到图像像差校正，且其中所述投影物镜在径向坐标大于RDOF的区域没有得到完全校正。下述条件：RDOF＝γREOF且1≤γ＜1.4得以满足。采用紧凑设计可实现非常高的像侧数值孔径NA＞1。优选使用弓形有效物场。

公开(公告)号：CN1879062A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200480033300.4

申请日：2004-09-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： J·克勒 ,  J·旺勒 ,  M·布洛特萨克 ,  W·辛格 ,  D·费奥卡 ,  M·毛尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/702

Abstract: 一种微光刻投影曝光系统的照明系统，用于以来自原始光源(11)的光照明一个照度场。所说照明系统具有一个光分配装置(25)，光分配装置用于接收来自原始光源的光并且从这个光产生两维的强度分布，所说两维的强度分布可以在照明系统的光瞳成形表面(31)内可变地设置。光分配装置具有至少一个光调制装置(20)，光调制装置(20)具有由可单独控制的各个元件(21)的一个两维阵列，以改变在光调制装置上入射的光的角度分布。所说的装置允许可变的设置完全不同的照明模式而不需要更换光学部件。

公开(公告)号：CN1873539A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610079853.4

申请日：2002-08-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： H·-J·曼 ,  W·乌尔里希

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G02B17/0652 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70233

Abstract: 物镜(1)具有：第一部分物镜(3)，其将第一场平面(7)投影到中间图像(11)上且包括具有第一中央镜孔径(15)的第一凸面镜(13)和具有第二中央镜孔径(19)的第二凹面镜(17)，所述第一镜(13)具有距所述第二镜(17)的第一轴上间距，且所述第二镜(17)具有距所述中间图像(11)的第二轴上间距，以及第一轴上间距与第二轴上间距的比率具有在0.95至1.05、尤其是在0.98至1.02之间的值；以及第二部分物镜(5)，其将所述中间图像(11)投影到第二场平面(9)上且包括具有第三中央镜孔径(23)的第三凹面镜(21)和具有第四中央镜孔径(27)的第四凹面镜(25)，所述第三镜(21)具有距第二场平面(9)的第三轴上间距ZM3－IM，所述第三轴上间距与第二场平面(9)内的数值孔径NA以及与第三镜(21)的直径DuM3具有下述关系：(I)，所述物镜(1)具有Petzval半径，所述半径的绝对值大于所述第一场平面(7)距所述第二场平面(9)的轴上间距。

公开(公告)号：CN1516819A

公开(公告)日：2004-07-28

申请号：CN02812100.7

申请日：2002-08-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： H·-J·曼 ,  W·乌尔里希

IPC: G02B17/08 ,  G02B17/06

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G02B17/0652 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70233

Abstract: 物镜(1)具有：第一部分物镜(3)，其将第一场平面(7)投影到中间图像(11)上且包括具有第一中央镜孔径(15)的第一凸面镜(13)和具有第二中央镜孔径(19)的第二凹面镜(17)，所述第一镜(13)具有距所述第二镜(17)的第一轴上间距，且所述第二镜(17)具有距所述中间图像(11)的第二轴上间距，以及第一轴上间距与第二轴上间距的比率具有在0.95至1.05、尤其是在0.98至1.02之间的值；以及第二部分物镜(5)，其将所述中间图像(11)投影到第二场平面(9)上且包括具有第三中央镜孔径(23)的第三凹面镜(21)和具有第四中央镜孔径(27)的第四凹面镜(25)，所述第三镜(21)具有距第二场平面(9)的第三轴上间距ZM3－IM，所述第三轴上间距与第二场平面(9)内的数值孔径NA以及与第三镜(21)的直径DuM3具有下述关系：(I)，所述物镜(1)具有Petzval半径，所述半径的绝对值大于所述第一场平面(7)距所述第二场平面(9)的轴上间距。

公开(公告)号：CN101946212A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200880127355.X

申请日：2008-12-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 迈克尔·莱 ,  马库斯·德冈瑟 ,  迈克尔·帕特拉 ,  约翰尼斯·万格勒 ,  曼弗雷德·莫尔 ,  达米安·菲奥尔卡 ,  冈杜拉·韦斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B5/09 ,  G02B26/105 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70583

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备，包括用来照明物平面中的物场的数个物场点的照明光学部件。就该物场的每一物场点而言，该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳，其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值(angle value)，且其中该照明光学部件包括多镜阵列(38)，其包括用来调整与该这些物场点相关的出射光瞳中强度分布的多个镜(38s)。该照明光学部件进一步包含至少一光学系统(33a；33b；33c；3d；400；822；903；1010；1103；1203)以用来时间上稳定该多镜阵列(38)的照明，使得对于每一物场点，相关出射光瞳中的强度分布偏离了相关出射光瞳中的期望强度分布，在形心角值sin(β)上就相关出射光瞳的该最大边缘角值sin(γ)而言偏离了小于2％、和/或在椭圆率上偏离了小于2％、和/或在极平衡上偏离了小于2％。

公开(公告)号：CN101946211A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200880127115.X

申请日：2008-12-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 简·霍恩 ,  克里斯琴·肯普特 ,  沃尔夫冈·法洛特-伯格哈特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116

Abstract: 微光刻投射曝光设备的照明系统表现了布置为多镜阵列且能够经由至少一个驱动器倾斜的镜。此外，照明系统表现了用于该镜的驱动电子装置，该驱动电子装置表现了具有第一分辨率的粗数模转换器(68)、具有第二分辨率的精数模转换器(70)，以及加法器(72)，第二分辨率高于第一分辨率，通过两个数模转换器(68、70)输出的输出量能够利用该加法器(72)相加以产生总量。该总量至少能够间接施加于该镜的至少一个驱动器。