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公开(公告)号：CN107870519A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710888351.4
申请日：2017-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C323/37 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/20 , C07D409/10 , C07J31/006 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0274 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/70341
Abstract: 本发明为锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法。在使用特定结构的锍盐作为PAG时，抑制了酸扩散。在通过光刻法加工时，包括所述锍盐的抗蚀剂组合物形成具有改进的光刻性质(包括EL、MEF和LWR)的图案。
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公开(公告)号：CN107793337A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710771096.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
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公开(公告)号：CN107703716A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201710668353.2
申请日：2017-08-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料和图案形成方法。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度且LWR、CDU小的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。抗蚀剂材料，其包含基础聚合物和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1-1)表示的锍盐或者由下述式(1-2)表示的碘鎓盐。
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公开(公告)号：CN101666976B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN200910140185.5
申请日：2009-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/114
Abstract: 本发明是一种化学增幅型正型光阻组合物，其是化学增幅型光阻组合物，含有基质聚合物、含磺酸盐阴离子的锍盐、碱性成分及有机溶剂，作为主要成分；该基质聚合物是，含有1种或2种以上以下述通式(1)等表示的单体单元，且该聚合物的羟基的一部分是被缩醛基保护的碱不溶性聚合物，且在通过酸催化剂而被脱去保护后，会成为碱可溶性聚合物。通过光阻来进行的微影技术，需要有非常高的经时稳定性。又，必须能够得到不依存于基板的良好的图案轮廓或高解像度。依照本发明，能够提供一种可同时解决这些课题的化学增幅型正型光阻组合物及使用此种组合物的光阻图案的形成方法、以及空白光掩模的制造方法，
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公开(公告)号：CN101923288B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201010289418.0
申请日：2010-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045
Abstract: 一种聚合物，包含高比例的含芳环结构单元，且侧链上含芳香磺酸锍盐，该聚合物用于形成化学放大正性光致抗蚀剂组合物，该组合物对于形成具有高抗蚀性的抗蚀图案是有效的。所述聚合物克服了在用于聚合和纯化的溶剂中以及抗蚀剂溶剂中的溶解问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101666976A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200910140185.5
申请日：2009-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/114
Abstract: 本发明是一种化学增幅型正型光阻组合物，其是化学增幅型光阻组合物，含有基质聚合物、含磺酸盐阴离子的锍盐、碱性成分及有机溶剂，作为主要成分；该基质聚合物是，含有1种或2种以上以所述通式(1)等表示的单体单元，且该聚合物的羟基的一部分是被缩醛基保护的碱不溶性聚合物，且在通过酸催化剂而被脱去保护后，会成为碱可溶性聚合物。通过光阻来进行的微影技术，需要有非常高的经时稳定性。又，必须能够得到不依存于基板的良好的图案轮廓或高解像度。依照本发明，能够提供一种可同时解决这些课题的化学增幅型正型光阻组合物及使用此种组合物的光阻图案的形成方法、以及空白光掩模的制造方法。
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公开(公告)号：CN120059017A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202411710771.X
申请日：2024-11-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , G03F7/20 , C08F220/38 , C08F212/32 , C08F220/30 , C08F220/58 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F220/22 , C08F220/18 , C08F220/40 , C08F218/12 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种聚合物，使用在化学增幅抗蚀剂组成物中，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优异，而且于微细图案形成时抗图案崩塌、蚀刻耐性也优良。并提供含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种聚合物，含有下式(a)表示的重复单元、及来自含有具有聚合性基团及经碘原子取代的芳香环结构的氟磺酸阴离子的鎓盐化合物且因曝光产生酸的重复单元。
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公开(公告)号：CN118938599A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410567595.2
申请日：2024-05-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨度及LWR优良的抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂组成物，包含下式(1)表示的锡化合物及有机溶剂，#imgabs0#式中，R1A～R10A及R1B～R10B各自独立地为碳数1～20的烃基，R11～R14各自独立地为氢原子或碳数1～20的烃基，La1及La2各自独立地为连接基团。
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公开(公告)号：CN117986229A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202311428632.3
申请日：2023-10-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D279/22 , C07D339/08 , C07D409/12 , C07C69/96 , C07C69/753 , C07C69/76 , C07C69/63 , C07C271/28 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用此抗蚀剂材料的图案形成方法。下式(1)表示的锍盐、及包含该锍盐的抗蚀剂材料。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117736128A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311209276.6
申请日：2023-09-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , C08F212/14 , C08F220/22 , C08F220/18 , C08F220/20 , G03F1/56 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C25/18 , C07C17/00 , C07D333/76 , C07D307/93
Abstract: 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、EL、LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成时图案崩塌耐性仍强且蚀刻耐性亦优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐型单体，以及提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐型单体，以下式(a1)或(a2)表示。#imgabs0#
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