透明导电性薄膜
    61.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106062888B

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN201580011395.8

    申请日:2015-11-27

    Abstract: [课题]实现一种即使为了提高耐擦伤性而包含干式光学调整层,透明导电层也具有适当的蚀刻速度的透明导电性薄膜。[解决方法]在透明的薄膜基材(11)的主表面依次层叠有光学调整层(12)和透明导电层(13)的透明导电性薄膜(10)。光学调整层(12)包含含有无机氧化物的干式光学调整层。透明导电层(13)包含含有铟的金属氧化物。透明导电层(13)为结晶质,且至少具有对应于(400)面、(440)面的X射线衍射峰,将(400)面的X射线衍射峰强度设为I400、将(440)面的X射线衍射峰强度设为I440时,X射线衍射峰强度之比I440/I400为1.0~2.2的范围。

    透光性导电薄膜和调光薄膜

    公开(公告)号:CN108352217B

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201680065213.X

    申请日:2016-11-08

    Abstract: 一种透光性导电薄膜,其具备透光性基材和非晶质透光性导电层,在将非晶质透光性导电层的载流子密度设为Xa×1019(/cm3)且将霍尔迁移率设为Ya(cm2/V·s)、将对非晶质透光性导电层进行加热处理后的被加热透光性导电层的载流子密度设为Xc×1019(/cm3)且将霍尔迁移率设为Yc(cm2/V·s)、将移动距离L设为{(Xc‑Xa)2+(Yc‑Ya)2}1/2时,满足下述(1)~(3)的条件,(1)Xa≤Xc、(2)Ya≥Yc、(3)前述移动距离L为1.0以上且45.0以下。

    带保护薄膜的光学薄膜
    63.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110954975A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201910912523.6

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 本发明提供带保护薄膜的光学薄膜。带保护薄膜的光学薄膜(100)包含:光学薄膜(10),其在最表面具有防污层(4);以及表面保护薄膜(70),其临时附着于光学薄膜的防污层。防污层的水接触角为100°以上。保护薄膜在薄膜基材(7)上具备粘合剂层(8)。光学薄膜的防污层与表面保护薄膜的粘合剂层的粘接力不足0.07N/50mm。粘合剂层的厚度优选为16μm以上。

    透明导电性薄膜及触摸面板

    公开(公告)号:CN109313963A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780035711.4

    申请日:2017-06-02

    Abstract: 提供具有优异的耐湿热性的透明导电性薄膜及具备该透明导电性薄膜的触摸面板。一种透明导电性薄膜,其在透明树脂薄膜上依次具有固化树脂层、透明导电膜,前述固化树脂层的厚度为100nm以下,前述透明导电膜进行了图案化,在温度85℃、湿度85%的气氛下放置240小时前后的前述透明导电膜的表面电阻值的变化率为1.5以下。

    触摸传感器
    66.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109196452A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201780033500.7

    申请日:2017-05-30

    Abstract: 本发明提供一种与以往相比实现了全光线透过率和雾度的改善、由构件减少带来的薄型化以及低成本化的触摸传感器。触摸传感器(10)具有压电传感器(11)和静电电容传感器(12)。压电传感器(11)具有由第1基材膜(14)和具有压电性的涂层(15)构成的第1层叠体即压电膜(16)、形成于压电膜(16)的一面的第1透明电极(17)以及形成于压电膜(16)的另一面的第2透明电极(18)。静电电容传感器(12)具有在第2基材膜(19)的一面形成了第3透明电极(20)而成的第2层叠体(21)、在第3基材膜(22)的一面形成了第4透明电极(23)而成的第3层叠体(24)以及将第2层叠体(21)和第3层叠体(24)粘接的透明填充层(25)。

    溅射装置
    69.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104294223B

    公开(公告)日:2018-07-20

    申请号:CN201410339809.7

    申请日:2014-07-16

    Abstract: 本申请的发明提供一种溅射装置,为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形,该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。

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