公开(公告)号：KR100574966B1

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：KR1020040004419

申请日：2004-01-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍 ,  최성운

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F1/34 ,  G03F1/26 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50

Abstract: 포토마스크 및 이를 이용한 투과율 및 위상 조절 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 포토마스크는, 투명 기판과, 상기 투명 기판의 전면에 형성되어 패턴 형성을 위한 투광부를 정의하는 차광 패턴과, 상기 투명 기판의 배면에 형성되어 빛을 회절시키는 복수의 격자를 포함하고, 상기 복수의 격자는 이진 격자로 되어 있고, 상기 각 격자는 빛의 위상 및 투과율을 조절하는 등배비 및 배치 방향을 갖는다.
포토마스크, 투과율, 위상

公开(公告)号：KR100555531B1

公开(公告)日：2006-03-03

申请号：KR1020030084715

申请日：2003-11-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김순호 ,  최성운 ,  문성용 ,  박진홍

IPC: G02F1/13

Abstract: 다양한 광학 시스템에 적합화된 광학 장치 및 이의 제조 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 광학 장치는 전면과 후면을 구비하며 조명에 대해 투명한 기판 및 기판의 매질 내부에 형성되어 기판의 후면에 입사되어 기판을 투과하는 조명의 강도, 형상 및/또는 성분을 조절하는 회절 어레이를 포함한다. 본 발명에 따른 광학 장치는 조명의 강도 또는 조명의 형상을 능동적으로 조절할 수 있다.
광학 요소, 조명 강도 분포, 경사입사 조명, 펨토 초 레이저

公开(公告)号：KR1019990066595A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980002655

申请日：1998-01-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 마스크 검사 장치 및 그의 마스크 검사 방법에 관한 것으로, 광원, 빔 분리기들, 디텍터들, 폴러라이저들을 사용해 마스크 기판 및 마스크 패턴상의 결함을 검출하는 마스크 검사 장치를 사용한 마스크 검사 방법에 있어서, 상기 빔 분리기를 사용하여 상기 광원에서 발생된 빔을 제 1 빔 및 제 2 빔으로 분리시킨다. 상기 제 1 폴러라이저와 제 2 폴러라이저를 사용하여 각각 상기 제 1 빔과 상기 제 2 빔의 극성을 변화시킨다. 상기 제 1 빔을 마스크 패턴에 입사시키고, 상기 제 1 렌즈를 통해 집광된 제 2 빔을 마스크 기판에 입사시킨다. 상기 제 1 렌즈와 제 2 렌즈를 사용하여 마스크 패턴으로부터 반사된 상기 제 1 빔과 마스크 기판을 투과한 상기 제 2 빔을 집광한다. 상기 제 3 폴러라이저를 사용하여 상기 제 1 렌즈를 통해 집광된 상기 제 1 빔만을 통과시킨다. 상기 제 1 디텍터와 제 2 디텍터를 사용하여 각각 상기 제 1 빔과 상기 제 2 빔을 판독한다. 이와같은 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법에 의해서 마스크 패턴과 마스크 기판상의 결함을 한 번의 검사로 각각 검출하여 종래의 마스크 검사로 소요되는 경비와 시간을 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR100200734B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960045127

申请日：1996-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍 ,  유영훈

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/95607

Abstract: 에어리얼 이미지 측정 장치 및 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 에어리얼 이미지 측정 장치는 포토마스크상의 결함에 따른 영향을 검증하기 위하여, 광원으로부터 상기 포토마스크를 투과한 투과광에 의거하여 형성된 에어리얼 이미지를 측정하는 것으로서, 광원으로부터의 빛을 상기 포토마스크의 크롬 패턴이 형성된 표면에 조사하여 반사광을 형성시키는 반사 시스템을 포함한다.

公开(公告)号：KR1019980026620A

公开(公告)日：1998-07-15

申请号：KR1019960045127

申请日：1996-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍 ,  유영훈

IPC: H01L21/66

Abstract: 에어리얼 이미지 측정 장치 및 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 에어리얼 이미지 측정 장치는 포토마스크상의 결함에 따른 영향을 검증하기 위하여, 광원으로부터 상기 포토마스크를 투과한 투과광에 의거하여 형성된 에어리얼 이미지를 측정하는 것으로서, 광원으로부터의 빛을 상기 포토마스크의 크롬 패턴이 형성된 표면에 조사하여 반사광을 형성시키는 반사 시스템을 포함한다.

公开(公告)号：KR1019980012195A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019960031183

申请日：1996-07-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍

IPC: H01L21/66

公开(公告)号：KR101555230B1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：KR1020090006772

申请日：2009-01-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이정훈 ,  여정호 ,  박주온 ,  김인성 ,  구두훈 ,  박진홍 ,  박창민

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C43/003 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 향상된패턴분산도를가지는미세패턴의형성방법에있어서, 기판상에광경화성코팅막을형성한다. 패턴크기에관하여제1 분산도를갖는복수개의제1 패턴들을제1 면에구비하고적어도일부에광 감쇠부재를포함하는템플레이트의제1 면을광경화성코팅막에접촉시킨다. 템플레이트를통해광경화성코팅막에빛을조사하여제1 패턴들로부터전사되고제1 분산도보다낮은제2 분산도를갖는제2 패턴들을구비하는경화된코팅막을형성한다음, 템플레이트를경화된코팅막으로부터분리한다. 나노임프린트공정에사용되는템플레이트의패턴분산도를광 감쇠부재를통해보정함으로써패턴분산도가개선된미세패턴을제조할수 있다.

公开(公告)号：KR101443221B1

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：KR1020080005855

申请日：2008-01-18

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 우상옥 ,  정석윤 ,  권권택 ,  한탁돈 ,  박우찬 ,  정우남 ,  박진홍 ,  박정수

IPC: G06T1/20 ,  G06T15/00

CPC classification number: G06T15/405

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 렌더링 장치 및 방법은, 깊이 버퍼에 저장된 압축된 블록들 중에서 프래그먼트에 대응된 블록을, 그 프래그먼트에 대응되어 미리 마련된 빈도 정보를 고려하여 독취하고, 독취된 블록을 복원하고 복원된 블록을 고려하여 그 프래그먼트에 대한 깊이 검사를 수행한다.
깊이 검사, 깊이 버퍼, 렌더링부, 대역폭

公开(公告)号：KR1020100087788A

公开(公告)日：2010-08-06

申请号：KR1020090006772

申请日：2009-01-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이정훈 ,  여정호 ,  박주온 ,  김인성 ,  구두훈 ,  박진홍 ,  박창민

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C43/003 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  B29C59/022

Abstract: PURPOSE: A method for forming a micro pattern using a nano imprint lithography is provided to form the micro pattern with improved distribution by correcting the degree of dispersion of a pattern size of a template. CONSTITUTION: A light attenuation member is partially formed on a template(S20). A photo curable layer is formed on the lower side of a substrate(S30). The template is arranged on the substrate with the photo curable layer(S40). The template is contacted with the photo curable coating layer(S50). The photo curable layer is cured by radiating light to the photo curable coating layer through the template(S60). The template is separated from the substrate with the cured coating layer(S70).

Abstract translation: 目的：提供使用纳米压印光刻形成微图案的方法，以通过校正模板图案尺寸的分散程度来形成具有改进分布的微图案。 构成：在模板上部分地形成光衰减构件（S20）。 在基板的下侧形成光固化层（S30）。 模板通过光固化层布置在基板上（S40）。 模板与光固化涂层接触（S50）。 光固化层通过模板将光照射到光固化涂层而固化（S60）。 用固化涂层将模板与基材分离（S70）。

公开(公告)号：KR100813256B1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：KR1020060057126

申请日：2006-06-23

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 정석윤 ,  김일산 ,  박진홍 ,  한탁돈

IPC: G06F13/14 ,  G06F13/366

CPC classification number: G06F13/364

Abstract: 버스 중재 장치 및 방법이 개시된다. 하나 이상의 슬레이브가 연결된 버스의 사용을 요구하는 복수의 마스터의 상기 버스에의 접근을 중재하는 본 발명에 의한 버스 중재 장치는, 상기 버스의 사용을 동시에 요구한 복수의 상기 마스터에게 상기 버스의 사용을 허가하는 복수의 버스 허가신호를 출력하는 버스사용 허가부와, 각각은 상기 버스 허가신호에 응답하여 상기 마스터로부터 입력되며 상기 슬레이브의 동작을 지시하는 복수의 동작 지시신호 중, 미리 설정된 근사도를 갖는 일정 개수의 상기 동작 지시신호를 선택하는 동시처리가능신호 선택부 및 상기 선택된 동작 지시신호를 상기 버스를 통해 상기 슬레이브에 동시에 전송하는 동작 지시부를 포함하는 것이 바람직하다.