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公开(公告)号：KR101902402B1
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：KR1020120035558
申请日：2012-04-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , H01L21/28
CPC classification number: H01L21/308 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , H01L21/76802 , H01L21/76816 , H01L21/76897 , H01L27/10855 , H01L27/10885 , H01L27/10888
Abstract: 미세패턴형성방법및 이를이용한반도체장치의제조방법이제공된다. 상기미세패턴형성방법은기판상에피식각막을형성하고, 상기피식각막상에제1 마스크패턴을형성하고, 상기제1 마스크패턴에이온주입을하여제2 마스크패턴을형성하고, 상기제2 마스크패턴을이용하여상기피식각막을식각하는것을포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170028674A
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020150125603
申请日：2015-09-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본발명의반사형마스크용펠리클은중앙영역및 상기중앙영역을둘러싸는주변영역을포함하는펠리클바디와, 상기펠리클바디의상기주변영역상에형성된차광패턴; 상기차광패턴상에형성된그레이팅패턴과, 상기펠리클바디의상기주변영역의하부에위치하여상기펠리클바디를지지하는펠리클프레임을포함한다.
Abstract translation: 一种防护薄膜组件，包括防护薄膜组件，遮光图案，光栅图案和防护薄膜框架。 防护薄膜组件包括中心区域和周边区域，其中周边区域围绕中心区域。 遮光图案形成在防护薄膜组件本体的周边区域上; 光栅图案形成在遮光图案上，防护薄膜组件框架位于防护薄膜组件本体的周边区域的下方，防护薄膜组件框架被构造成支撑防护薄膜组件体。
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公开(公告)号：KR1020120047600A
公开(公告)日：2012-05-14
申请号：KR1020100109259
申请日：2010-11-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/32139 , H01L21/0332 , H01L21/28273 , H01L21/3081 , H01L21/76224 , H01L27/11521 , H01L21/0273 , G03F7/2022 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A method for forming a fine pattern and a method of fabricating a semiconductor device are provided to prevent photoresist from being broken by using a photoresist pattern having a low aspect ratio. CONSTITUTION: A intermediate material layer(130) less than 20nm thick is formed on a first hard mask material layer(120). A photoresist pattern(142a) is formed on the intermediate material layer. The intermediate material layer is etched by using a photoresist pattern as an etching mask. The first hard mask material layer is etched by using an intermediate pattern as the etching mask. A semiconductor substrate(110) is etched by using the first hard mask pattern as the etching mask.
Abstract translation: 目的：提供一种形成精细图案的方法和制造半导体器件的方法，以通过使用具有低纵横比的光致抗蚀剂图案来防止光致抗蚀剂破裂。 构成：在第一硬掩模材料层（120）上形成小于20nm厚的中间材料层（130）。 在中间材料层上形成光致抗蚀剂图案（142a）。 通过使用光致抗蚀剂图案作为蚀刻掩模蚀刻中间材料层。 通过使用中间图案作为蚀刻掩模来蚀刻第一硬掩模材料层。 通过使用第一硬掩模图案作为蚀刻掩模蚀刻半导体衬底（110）。
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公开(公告)号：KR1020110132127A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：KR1020100051965
申请日：2010-06-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/76898 , G03F7/70391 , H01L21/0275 , G03F7/2022
Abstract: PURPOSE: An exposure apparatus and an exposure method using the same are provided to arrange various shapes of patterns on a wafer with a low cost, thereby providing an advantageous method for mass production. CONSTITUTION: A photo mask(40) comprises a substrate(41) and a plurality of light sources(42) attached on the substrate. The substrate is comprised of a glass substrates including quartz. The multiple light sources respectively include a light emitting diode or laser diode. The laser diode uses stimulated emission and constructive interference phenomena. The size of the substrate in which the multiple light sources are arranged is determined according to a condition of an exposure system.
Abstract translation: 目的：提供一种曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法，以便以低成本在晶圆上布置各种形状的图案，从而提供有利的批量生产方法。 构成：光掩模（40）包括衬底（41）和附着在衬底上的多个光源（42）。 基板由包括石英的玻璃基板组成。 多个光源分别包括发光二极管或激光二极管。 激光二极管使用受激发射和建设性干扰现象。 根据曝光系统的条件确定布置多个光源的基板的尺寸。
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公开(公告)号：KR1020070034238A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：KR1020050088688
申请日：2005-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 광기록 매체의 표면 위에 형성되는 커버층의 두께를 균일하게 할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 양호한 실시예에 따른 광기록 매체의 커버층 형성 방법은, 광기록 매체의 상면에 광폴리머 수지를 토출하는 단계; 평평한 표면을 갖는 가압 플레이트로 상기 광폴리머 수지를 가압하는 동시에 상기 광기록 매체를 회전시킴으로써, 상기 광폴리머 수지를 상기 광기록 매체 상에 균일한 두께로 분포시키는 단계; 상기 광폴리머 수지를 경화시켜 상기 광기록 매체 상에 커버층을 형성하는 단계; 및 상기 가압 플레이트를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使在光学记录介质的表面上形成的覆盖层的厚度均匀的方法。 根据本发明的优选实施方式的形成光学记录介质的覆盖层的方法包括以下步骤：将光聚合物树脂喷射在光学记录介质的上表面上; 用具有平坦表面的压板压制光聚合物树脂并旋转光记录介质，从而将光聚合物树脂分布在光记录介质上的厚度均匀; 固化光聚合物树脂以在光记录介质上形成覆盖层; 并分离压力板。
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Patent Agency Ranking6.发明授权1회 기록 영역과 반복 기록 영역을 가지는 정보 저장매체및 정보 저장매체에 데이터를 기록/재생하는 방법 有权具有一次写入记录区域的信息存储介质和用于在信息存储介质上记录和/或再现数据的可写入区域和方法
公开(公告)号：KR100694066B1
公开(公告)日：2007-03-12
申请号：KR1020040094924
申请日：2004-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 1회 기록 영역과 반복 기록 영역을 가지는 정보 저장매체 및 정보 저장매체에 데이터를 기록/재생하는 방법이 개시되어 있다.
이 개시된 정보 저장매체는, 기판; 상기 기판 상부에 구비되어 비초해상 파워의 빔의 조사에 의해 반복 기록이 가능한 기록층이 되거나 초해상 파워의 빔의 조사에 의해 초해상층이 되는 하이브리드층; 상기 하이브리드층 상부에 구비되어 초해상 파워의 빔이 맺히는 부분에서 열적 반응이 일어나 마크가 형성되는 초해상 기록층;을 포함하여 빔의 파워에 따라 가변적인 1회 기록형 영역과 반복 기록형 영역을 가지는 것을 특징으로 한다.
상기 구성에 의해 사용자가 1회 기록형 영역과 반복 기록형 영역을 선택하여 편리하게 사용할 수 있다.-
7.发明公开1회 기록 영역과 반복 기록 영역을 가지는 정보 저장매체및 정보 저장매체에 데이터를 기록/재생하는 방법 有权具有写入记录区和写入记录区的信息存储介质和用于在信息存储介质上记录和/或再现数据的方法
公开(公告)号：KR1020060055777A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：KR1020040094924
申请日：2004-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 1회 기록 영역과 반복 기록 영역을 가지는 정보 저장매체 및 정보 저장매체에 데이터를 기록/재생하는 방법이 개시되어 있다.
이 개시된 정보 저장매체는, 기판; 상기 기판 상부에 구비되어 비초해상 파워의 빔의 조사에 의해 반복 기록이 가능한 기록층이 되거나 초해상 파워의 빔의 조사에 의해 초해상층이 되는 하이브리드층; 상기 하이브리드층 상부에 구비되어 초해상 파워의 빔이 맺히는 부분에서 열적 반응이 일어나 마크가 형성되는 초해상 기록층;을 포함하여 빔의 파워에 따라 가변적인 1회 기록형 영역과 반복 기록형 영역을 가지는 것을 특징으로 한다.
상기 구성에 의해 사용자가 1회 기록형 영역과 반복 기록형 영역을 선택하여 편리하게 사용할 수 있다.-
公开(公告)号：KR100565071B1
公开(公告)日：2006-03-30
申请号：KR1020040041863
申请日：2004-06-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G11B7/26
Abstract: 정보가 기록되지 않는 림(rim) 영역을 줄여 정보기록 영역을 확장 하면서도 사출 성형시의 외주부 전사성, 스핀 코팅시의 두께 균일도 확보 및 외주 마스크 영역을 확보할 수 있도록 된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법이 개시되어 있다.
이 개시된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법은 마스터 글래스를 준비하고, 이 마스터 글래스 상에 제1포토레지스트막을 도포하는 단계와; 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의해 제거될 수 있도록, 제1포토레지스트막을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성하는 단계와; 제1포토레지스트막 상에 제2포토레지스트막을 도포하는 단계와; 제2포토레지스트막 상의 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고, 현상하여 제2포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와; 노광 및 현상에 의해, 제2포토레지스트막의 림 영역에 대응되는 부분을 제거하는 단계와; 제1포토레지스트막을 현상하여, 림 영역에 대응되는 마스터 글래스의 일 면이 노출되도록 하는 단계와; 상기한 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020050116713A
公开(公告)日：2005-12-13
申请号：KR1020040041863
申请日：2004-06-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G11B7/26
Abstract: 정보가 기록되지 않는 림(rim) 영역을 줄여 정보기록 영역을 확장 하면서도 사출 성형시의 외주부 전사성, 스핀 코팅시의 두께 균일도 확보 및 외주 마스크 영역을 확보할 수 있도록 된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법이 개시되어 있다.
이 개시된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법은 마스터 글래스를 준비하고, 이 마스터 글래스 상에 제1포토레지스트막을 도포하는 단계와; 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의해 제거될 수 있도록, 제1포토레지스트막을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성하는 단계와; 제1포토레지스트막 상에 제2포토레지스트막을 도포하는 단계와; 제2포토레지스트막 상의 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고, 현상하여 제2포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와; 노광 및 현상에 의해, 제2포토레지스트막의 림 영역에 대응되는 부분을 제거하는 단계와; 제1포토레지스트막을 현상하여, 림 영역에 대응되는 마스터 글래스의 일 면이 노출되도록 하는 단계와; 상기한 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020050110083A
公开(公告)日：2005-11-22
申请号：KR1020040034905
申请日：2004-05-17
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G11B7/24 , G11B7/243 , G11B7/257 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , G11B2007/24324
Abstract: 정보 기록 및/또는 재생기기로부터 입사되는 광빔의 분해능 이하 크기의 기록 마크나 피트를 재생할 수 있도록 된 초해상 정보 저장매체 및 그 정보 기록 및/또는 재생기기가 개시되어 있다.
개시된 정보 저장매체는, 기판; 및 이 기판 상에, 초해상 재료와 이 초해상 재료보다 높은 융점을 갖는 고융점 재료를 함유하는 적어도 하나의 초해상 재생층;을 포함한다.
개시된 정보 저장매체에 따르면, 기본적인 초해상 재료가 용융되더라도 고융점 재료가 이 용융 상태의 초해상 재료의 이동을 억제하므로, 반복 재생시 신호의 열화가 억제된다.
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