公开(公告)号：KR102214614B1

公开(公告)日：2021-02-10

申请号：KR1020180157873

申请日：2018-12-10

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 임성갑 ,  최준환 ,  이민석 ,  장원태

IPC: C23C16/452 ,  C23C16/44 ,  C23C16/448 ,  C23C16/56

Abstract: 본발명은챔버내부에서표면에고분자박막이증착된입자를챔버외부에서냉각시켜다시챔버로주입하는과정을반복하여입자의고분자두께를결정하는입자표면코팅을위한개시제를이용한화학기상증착시스템및 그방법에관한것으로, 챔버상부에위치하며, 챔버의내부로입자(particle)를주입하는입자주입부, 챔버중앙에위치하며, 상기챔버의내부로단량체(Monomer) 및개시제(initiator)를주입하는전구체주입부, 챔버하부에위치하며, 상기입자주입부에의해주입되어중력에의해하락하면서표면에고분자박막이증착된입자를회수하는입자회수부및 상기입자회수부를통해챔버의외부로회수된상기표면에고분자박막이증착된입자를냉각시키는입자냉각부를포함한다.

公开(公告)号：KR102208610B1

公开(公告)日：2021-01-28

申请号：KR1020180154870

申请日：2018-12-05

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 임성갑 ,  문희연 ,  정기훈 ,  곽무진

IPC: C09J133/10 ,  C08F2/48 ,  B05D1/00

Abstract: 본발명은개시제를사용하는화학기상증착방법(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD), 광개시화학기상증착방법(Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; PiCVD) 및 UV를이용하여광개시반응및 열개시반응을동시에사용하는화학기상증착방법(Thermal and Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; TPiCVD)을이용하여기판상에중합되는공중합체에의해공중합체점착제를형성하는방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR102123550B1

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：KR1020180128190

申请日：2018-10-25

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 전상용 ,  최민석 ,  임성갑 ,  이대엽 ,  유승정 ,  최윤정

IPC: C12N5/095 ,  G01N33/50

公开(公告)号：KR102076705B1

公开(公告)日：2020-02-12

申请号：KR1020180010181

申请日：2018-01-26

Applicant: 한국과학기술원 ,  한국화학연구원

Inventor： 임성갑 ,  이영일 ,  김봉준 ,  서장원 ,  전남중 ,  양태열

IPC: H01L51/44 ,  H01L21/02 ,  H01L51/00 ,  H01L31/0256

公开(公告)号：KR101969115B1

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：KR1020160179100

申请日：2016-12-26

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 임성갑 ,  이은정 ,  조영학 ,  최고로 ,  유승정

IPC: C12M1/00 ,  C12N5/00 ,  C08L33/06 ,  C23C16/44 ,  C23C16/30

公开(公告)号：KR101932763B1

公开(公告)日：2018-12-26

申请号：KR1020170036080

申请日：2017-03-22

Applicant: 한국과학기술원 ,  램 리서치 코퍼레이션

Inventor： 조병진 ,  임성갑 ,  윤성준 ,  박관용 ,  윤형석알렉산더

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/324

Abstract: 본 발명은 다공성 물질의 표면에 존재하는 기공을 화학 기상 증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD) 법으로 고분자박막을 형성하여 실링하는 방법 및 그로부터 유발되는 절연상수의 증가를 최소화 하는 기법을 제공하는 것이다.

公开(公告)号：KR101894904B1

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：KR1020160072244

申请日：2016-06-10

Applicant: 한국과학기술원 ,  램 리서치 코퍼레이션

Inventor： 조병진 ,  임성갑 ,  윤성준 ,  박관용 ,  윤형석알렉산더

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/28 ,  H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/76879 ,  H01L21/76883

Abstract: 본발명은개시제를이용한화학기상증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD) 방법을이용하여다공성절연물질표면의열린기공을실링하는새로운방법에관한것이다. 본발명에따른실링방법은매우얇은두께의고분자박막을플라즈마처리를하지않고, 용매없이기상증착방식을통해형성할 수있으므로플라즈마와화학용액에취약한절연물질의특성저하를최소화할 수있다.

公开(公告)号：KR1020180085218A

公开(公告)日：2018-07-26

申请号：KR1020170008630

申请日：2017-01-18

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 임성갑 ,  김도흥 ,  곽무진 ,  유재범 ,  문희연

IPC: C09J5/00 ,  C09J5/08 ,  C09J133/10 ,  C09J11/06 ,  C09J7/00

CPC classification number: C09J5/00 ,  C09J5/08 ,  C09J7/00 ,  C09J11/06 ,  C09J133/10

Abstract: 접착박막및 이를이용한기판의접착방법에관한것으로, 보다상세하게는글리시딜메타크릴레이트(glycidyl methacrylate, GMA) 및디메틸아미노에틸메타크릴레이트(dimethyl amino ethyl methacrylate, DMAEMA)로구성되는공중합체를포함하고, 다양한기판에적용가능하며아주얇지만강하고빠르게가교되는접착박막및 이를이용한기판의접착방법에관한것이다. 본발명에따른접착박막은기상에서증착하고낮은온도에서이루어지기때문에기존액상공정에비해기판에손상이전혀없고, 종이, 섬유및 분리막과같은기계적화학적충격에약한다양한기판위에고분자박막을증착하는데에유용하게사용될수 있으며, 기상에서증착하기때문에액상증착에서발생하는표면에너지차이또는구성물질에의해섞이지않는단량체들이균일하게공중합체로제조되는것을확인하였다. 또한, 짧은시간내에접착이가능하고, 고온에서의열 안정성및 아세톤, 톨루엔, DMF, THF, 강산성, 강염기성용액에서도화학적으로안정한것을확인하였으며, 라텍스, PEN 등다양한유연성기판에서성공적으로접착이가능하고접착한후에도유연성에영향을미치지않는것을확인할수 있었다.

公开(公告)号：KR101765817B1

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：KR1020140113360

申请日：2014-08-28

Applicant: 주식회사 엘지화학 ,  한국과학기술원

Inventor： 한성재 ,  송헌식 ,  임성갑 ,  유영민 ,  박관용 ,  김봉태

IPC: H01M2/16 ,  H01M2/14 ,  H01M10/0568 ,  H01M10/0569 ,  C08J5/22

Abstract: 본발명은다공성폴리올레핀필름의표층피브릴에고분자코팅층이형성되어고온안전성이확보되되, 전해질이원활하게이동할수 있도록소정범위의평균직경을갖는기공이형성되어있는이차전지용세퍼레이터및 그의제조방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明是形成在多孔聚烯烃膜的高温安全性背面的原纤维的表面层上的聚合物涂层，所述电解质被上形成平均二次电池用隔膜，其直径的孔在预定的范围平滑地移动，并且制造hwakbodoe的方法 会的。

公开(公告)号：KR101760699B1

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：KR1020150147588

申请日：2015-10-22

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 임성갑 ,  전상용 ,  백지응 ,  유승윤 ,  최민석 ,  이학래

IPC: C12M3/00 ,  C12N5/0793 ,  C23C16/00

CPC classification number: C12M25/06 ,  C12M25/02 ,  C23C16/00

Abstract: 본발명은기능성고분자박막이코팅되어있는신경세포배양용플랫폼및 그용도에관한것으로, 더욱자세하게는개시제를이용한화학기상증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을활용하여, 기판위에제1박막을코팅하고, 그위에양전하를가지는생체모방형(biomimetic) 제2박막을적층하여제조된신경세포배양용플랫폼, 또는개시제를이용한화학기상증착을활용하여, 기판위에양전하를가지는단층의생체모방형박막을코팅하여제조된신경세포배양용플랫폼및 이를이용한신경세포배양방법에관한것이다. 본발명에따른신경세포배양용플랫폼의제조방법으로다양한종류의기판에세포적합성기능을가지는생체모방형박막을효과적으로증착하여신경세포배양용플랫폼을개발할수 있을것이다. 특히본 발명의신경세포배양용플랫폼을이용할경우, 배양이어려운신경세포의성장촉진및 안정적장기배양이가능하므로신경세포관련질병연구및 기초연구에이바지할수 있을것이다.