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1.发明专利
公开(公告)号：KR102224035B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020190031572A
申请日：2019-03-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/545
Abstract: 본 발명은 개시제와 플라스마를 같이 이용하여 고분자 박막을 증착하는 시스템 및 방법에 관한 것으로, 플라스마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition; PECVD)부에서 전극에 의해 세기가 조절된 플라스마와 개시제를 사용하는 화학 기상 증착(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD)부로 주입되는 개시제를 이용하여 기판 상에 iPECVD 고분자 박막(Polymer thin film)을 증착하는 메인 챔버를 포함한다.
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2.发明专利
公开(公告)号：KR20210034465A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020200038184A
申请日：2020-03-30
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/448 , C08F220/18 , C08F230/08 , C23C16/453
CPC classification number: C23C16/448 , C08F220/18 , C08F230/08 , C23C16/4488 , C23C16/453
Abstract: 본 발명은 신축성 및 절연 특성을 가지는 고분자 박막 및 이를 형성하는 방법에 관한 것으로, 아크릴레이트(acrylate) 계열의 단량체와 바이닐기 그룹(vinyl group)의 단량체를 이용한 공중합체 조성에 따라 신축성(stretchability) 및 절연 특성을 가지는 고분자 박막 형성 단계를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2023008638A1
公开(公告)日：2023-02-02
申请号：PCT/KR2021/011337
申请日：2021-08-25
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 사용자의 움직임에 따라 발목의 2축 강성을 보조하는 발목 보조 장치에 관한 것으로, 상세하게는 사용자 발목의 움직임을 유도하는 근육 상에 배치되는 하나 이상의 구동 모듈;을 포함하고, 상기 구동 모듈은, 사용자의 발목 움직임에 따라 신축 변형되는 실리콘 고무 및 상기 실리콘 고무의 신축 변형을 감지하는 인장 센서를 포함하는, 직렬로 연결된 적어도 2개의 탄성 구동부; 상기 적어도 2개의 탄성 구동부 사이에 형성되어 상기 적어도 2개의 탄성 구동부를 연결하는, 연결 부재; 및 상기 인장 센서의 신호에 따라 상기 연결 부재의 움직임을 고정 또는 고정 해제하여 상기 구동 모듈의 강성을 조절하는 강성 조절부;를 포함하는, 발목 보조 장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2018194220A1
公开(公告)日：2018-10-25
申请号：PCT/KR2017/008697
申请日：2017-08-10
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/44 , C23C16/448 , H01L29/49
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/448 , H01L29/49
Abstract: 본 발명은 개시제를 이용한 화학기상증착법(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을 이용하고 높은 유전상수를 나타내는 사이아나이드(cyanide) 또는 히드록시(hydroxyl) 작용기를 가진 단량체를 디비닐에테르 작용기를 가진 가교제를 이용해 가교하여 절연막의 절연특성을 증가시킬 수 있으며, 20~100nm의 매우 얇은 두께에서도 매우 작은 누설전류만 나타내 유기반도체뿐만 아니라 산화물반도체를 이용한 TFT에 적용하여 낮은 구동전압을 가진 고성능 TFT를 제작할 수 있다.
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公开(公告)号：KR102214614B1
公开(公告)日：2021-02-10
申请号：KR1020180157873
申请日：2018-12-10
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/452 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/56
Abstract: 본발명은챔버내부에서표면에고분자박막이증착된입자를챔버외부에서냉각시켜다시챔버로주입하는과정을반복하여입자의고분자두께를결정하는입자표면코팅을위한개시제를이용한화학기상증착시스템및 그방법에관한것으로, 챔버상부에위치하며, 챔버의내부로입자(particle)를주입하는입자주입부, 챔버중앙에위치하며, 상기챔버의내부로단량체(Monomer) 및개시제(initiator)를주입하는전구체주입부, 챔버하부에위치하며, 상기입자주입부에의해주입되어중력에의해하락하면서표면에고분자박막이증착된입자를회수하는입자회수부및 상기입자회수부를통해챔버의외부로회수된상기표면에고분자박막이증착된입자를냉각시키는입자냉각부를포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102224035B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020190031572
申请日：2019-03-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/54
Abstract: 본발명은개시제와플라스마를같이이용하여고분자박막을증착하는시스템및 방법에관한것으로, 플라스마강화화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition; PECVD)부에서전극에의해세기가조절된플라스마와개시제를사용하는화학기상증착(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD)부로주입되는개시제를이용하여기판상에 iPECVD 고분자박막(Polymer thin film)을증착하는메인챔버를포함한다.
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公开(公告)号：KR101927370B1
公开(公告)日：2018-12-10
申请号：KR1020160168804
申请日：2016-12-12
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 화학기상증착법을 이용하여 개시제, 무극성 단량체 및 전자주게 그룹을 포함하는 단량체를 중합시켜 공중합체를 형성하고 공중합체가 형성된 기판 상에 무극성 중합체로 표면처리함으로써 유기 박막 트랜지스터용 절연막을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 공중합체의 조성에 따라서 고분자 절연막의 표면이 아닌 내부 전하농도 및 유기 박막 트랜지스터의 문턱전압을 조절할 수 있다. 또한, 개시제, 무극성 단량체 및 큰 전기음성도를 가진 그룹을 포함하는 단량체를 중합시켜 공중합체를 형성하여 유기 박막 트랜지스터의 동작 안정성을 향상시킬 수 있다. 두 공중합체 모두 매우 얇은 두께에서도 우수한 절연특성을 나타내어 저전압 구동 소자를 위한 게이트 절연막으로 적합한 유기 박막 트랜지스터용 절연체 박막의 제조방법에 관한 것이다.
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