나노 임프린트용 스탬프 제작방법
    61.
    发明授权
    나노 임프린트용 스탬프 제작방법 有权
    制备纳米印花印花的方法

    公开(公告)号:KR100978366B1

    公开(公告)日:2010-08-26

    申请号:KR1020090051029

    申请日:2009-06-09

    CPC classification number: G03F7/0002 B29C59/022 B82Y10/00 B82Y40/00

    Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a stamp for nano imprinting is provided to use a polymer nanoparticle for producing a nanopattern using the difference of the solubility coefficient. CONSTITUTION: A manufacturing method of a stamp for nano imprinting comprises the following steps: laminating a polymer nanoparticle(111), a polymer matrix(121), and a mixed solution(130) on a substrate(140)(a); removing a solvent form the mixed solution to form a thin film(150)(b); etching the polymer matrix to expose the polymer nanoparitcle(c); dissolving the exposed nanoparitcle to form a nanopattern(153)(d); and laminating a metal material on the nanopattern to make the stamp(160) for nano imprinting(e).

    Abstract translation: 目的:提供纳米压印用印模的制造方法,使用聚合物纳米粒子制造纳米图案,使用溶解度系数的差异。 构成:用于纳米压印的印模的制造方法包括以下步骤:在基材(140)(a)上层压聚合物纳米颗粒(111),聚合物基质(121)和混合溶液(130); 从所述混合溶液中除去溶剂以形成薄膜(150)(b); 蚀刻聚合物基质以暴露聚合物纳米颗粒(c); 溶解暴露的纳米颗粒以形成纳米图案(153)(d); 以及将纳米图案上的金属材料层压以制造用于纳米压印的印模(160)(e)。

    나노 갭을 갖는 센서 및 이의 제조 방법
    62.
    发明公开
    나노 갭을 갖는 센서 및 이의 제조 방법 有权
    具有纳米隙的传感器及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020100091751A

    公开(公告)日:2010-08-19

    申请号:KR1020090011089

    申请日:2009-02-11

    Abstract: PURPOSE: Since being included of the horizontal nanogap in which nanogap between the gate electrode and sensor and the manufacturing method thereof silver channel having nanogap are horizontally separated, the collapse phenomenon of nanogap can be prevented. CONSTITUTION: The nano gap sensor comprises the source electrode(182), the drain electrode(184), and channel and gate electrodes. Channel interlinks the source electrode and drain electrode. The gate electrode is arranged to be separated with channel and be contiguous. It is included of the source electrode, drain electrode, and the silicon layer. The silicon layer channel and gate electrode are doped to the same material of type.

    Abstract translation: 目的:由于在栅电极和传感器之间的纳米间隙的水平纳米凹槽被包括,并且具有纳米凹槽的银通道的制造方法被水平分离,所以可以防止纳米隙的崩溃现象。 构成:纳米间隙传感器包括源电极(182),漏电极(184)以及沟道和栅电极。 通道将源电极和漏电极互连。 栅电极被布置为与通道分离并且是连续的。 它包括在源电极,漏电极和硅层中。 硅层沟道和栅电极被掺杂成相同的类型的材料。

    유기 광기전력장치 제조 방법
    63.
    发明公开
    유기 광기전력장치 제조 방법 有权
    制造有机光伏器件的方法

    公开(公告)号:KR1020100043952A

    公开(公告)日:2010-04-29

    申请号:KR1020080103221

    申请日:2008-10-21

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an organic photovoltaic device is provided to stably form a 6,6-phenyl-C_x butyric acid methyl ester(PCBM) on a pol-3-hexythiophene(P3HT) by successively coating a photoactive layer with the P3HT and an electron accepting layer with the PCBM and subsequently patterning the photoactive layer and the electron accepting layer through a pressurization process. CONSTITUTION: A first electrode material(20) is coated on a substrate(10). An photoactive layer(40) is coated on the first electrode material. An electron accepting layer(50) is coated on the photoactive layer. The upper side and the lower side of the substrate and the electron accepting layer are pressurized using a mold(60). A second electrode material is coated on the electron accepting layer.

    Abstract translation: 目的:提供一种制造有机光伏器件的方法,通过连续地在P3HT上涂覆光活性层,在聚-3-氧噻吩(P3HT)上稳定地形成6,6-苯基-C_x丁酸甲酯(PCBM), 具有PCBM的电子接受层,然后通过加压工艺对光敏层和电子接受层进行图案化。 构成:将第一电极材料(20)涂覆在基底(10)上。 光敏层(40)涂覆在第一电极材料上。 电子受体层(50)涂覆在光敏层上。 使用模具(60)对基板的上侧和下侧以及电子接受层进行加压。 第二电极材料涂覆在电子接受层上。

    나노 갭을 갖는 바이오 센서의 제조 방법
    64.
    发明公开
    나노 갭을 갖는 바이오 센서의 제조 방법 无效
    具有纳米GAP的生物传感器的制造方法

    公开(公告)号:KR1020100027456A

    公开(公告)日:2010-03-11

    申请号:KR1020080086389

    申请日:2008-09-02

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a biosensor having a nano-gap is provided to form pattern having different materials at three sides and simplify manufacturing process. CONSTITUTION: A method for manufacturing a biosensor comprises: a step of forming a semiconductor layer for applying the semiconductor layer on a substrate; a step of forming a metal layer for applying the metal layer on the semiconductor layer; a step of forming a resist layer for applying the resist layer on the metal layer; a step of multi-stage patterning to form pattern containing a first protrusion and second protrusion; a step of etching; and a step of dopping the silicon layer with impurities.

    Abstract translation: 目的:提供一种制造具有纳米间隙的生物传感器的方法,以在三面形成具有不同材料的图案,并简化制造工艺。 构成:生物传感器的制造方法,包括:在基板上形成用于将半导体层涂敷的半导体层的工序; 在所述半导体层上形成用于施加所述金属层的金属层的工序; 形成用于在金属层上施加抗蚀剂层的抗蚀剂层的步骤; 多级图案化以形成包含第一突起和第二突起的图案的步骤; 蚀刻步骤 以及用杂质掺杂硅层的步骤。

    투명기판 및 이의 제조 방법
    65.
    发明授权
    투명기판 및 이의 제조 방법 有权
    투명기판및이의제조방법

    公开(公告)号:KR100928330B1

    公开(公告)日:2009-11-26

    申请号:KR1020080040865

    申请日:2008-04-30

    Abstract: PURPOSE: A transparent substrate and a manufacturing method thereof are provided to prevent the reflection of emitted light by forming a anti-reflection nano patterns at both sides of a main substrate. CONSTITUTION: A transparent substrate(200) comprises a main substrate(210) which is faced with a light source. The main substrate comprises the first surface facing the light source and the second surface facing the first surface. Nano-patterns(213,215) for preventing the reflection of light are arranged on the first and second surfaces and consist of a plurality of protrusions. The nano patterns have a pitch of 20 to 500nm. An ITO(Indium Tin Oxide) substrate(230) is attached to the first side of the substrate.

    Abstract translation: 目的:提供透明基板及其制造方法,以通过在主基板的两侧形成抗反射纳米图案来防止发射光的反射。 构造:透明基板(200)包括面对光源的主基板(210)。 主基板包括面向光源的第一表面和面向第一表面的第二表面。 用于防止光反射的纳米图案(213,215)布置在第一和第二表面上并且由多个突起组成。 纳米图案的间距为20至500nm。 ITO(氧化铟锡)衬底(230)附着到衬底的第一侧。

    다이아몬드상 카본 박막을 이용한 미세 임프린트리소그래피용 스탬프 및 그 제조방법
    68.
    发明公开
    다이아몬드상 카본 박막을 이용한 미세 임프린트리소그래피용 스탬프 및 그 제조방법 失效
    使用类金刚石碳薄膜的精细压印光刻的印章及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020070042309A

    公开(公告)日:2007-04-23

    申请号:KR1020050098080

    申请日:2005-10-18

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y10/00 B82Y40/00

    Abstract: 본 발명은 미세 임프린트 리소그래피 공정 기술에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 UV 미세임프린트 리소그래피 공정기술이나, 가열방식의 미세임프린트 리소그래피 공정기술에 사용되는 스탬프와 이 스탬프의 제조방법에 관한 것이다.
    본 발명의 스탬프 제조방법은, 기판 위에 다이아몬드상 카본(DLC, diamond-like carbon) 박막을 증착하는 단계와, 상기 다이아몬드상 카본 박막 위에 레지스트를 도포하는 단계와, 상기 레지스트를 패터닝하는 단계와, 상기 패터닝된 레지스트를 보호막으로 하여 상기 다이아몬드상 카본 박막을 에칭하는 단계, 및 상기 레지스트를 제거하는 단계를 포함한다.
    미세임프린트 리소그래피, 다이아몬드상 카본필름, 친수성, 소수성

    Abstract translation: 本发明涉及一种印章和UV压印光刻工艺技术或精细,精细加热方法压印光刻工艺技术涉及制造用于图章在更具体地,微压印光刻工艺技术的方法。

    마이크로웨이브를 이용한 패턴형성방법
    69.
    发明授权
    마이크로웨이브를 이용한 패턴형성방법 有权
    使用微波的方法

    公开(公告)号:KR101334920B1

    公开(公告)日:2013-11-29

    申请号:KR1020110034330

    申请日:2011-04-13

    Abstract: 본 발명에 의한 마이크로웨이브를 이용한 패턴형성방법은 기판에 유기물 전구체용액을 코팅하여 코팅층을 형성하는 코팅단계; 제 1패턴이 형성된 몰드로 상기 코팅층을 가압하여 제 2패턴을 형성하는 가압단계; 상기 몰드를 상기 코팅층으로부터 제거하는 몰드제거단계; 및 상기 제 2패턴이 형성된 코팅층에 마이크로웨이브를 10초 이상 내지 1분 미만 동안 조사하는 조사단계;를 포함하여 이루어지며, 상기 유기물 전구체 용액은, 고분자 전구체 또는 금속-유기물 전구체 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 고분자 전구체는 고분자수지에 열경화성 개시제가 결합되어 이루어지며, 상기 금속-유기물 전구체는 금속에 리간드가 결합하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
    본 발명에 의하면, 마이크로웨이브와 이에 최적화된 유기물 전구체용액을 이용함으로써, 종래와 달리, 레지스트없이 직접 패터닝이 가능하여, 공정이 단축되고 경제성을 향상시킬 수 있으며, 종래와 달리, 마이크로웨이브를 최적의 주파수와 파장으로 조사하고,이에 최적화된 유기물 전구체용액을 사용함으로써, 종래보다 최대 3000배가량 빠르게 경화-소성처리할 수 있어, 효율적인 장점이 있다.

    그래핀 패턴 형성방법
    70.
    发明授权
    그래핀 패턴 형성방법 有权
    形成石墨图案的方法

    公开(公告)号:KR101332635B1

    公开(公告)日:2013-11-25

    申请号:KR1020100071510

    申请日:2010-07-23

    Abstract: 본 발명은 그래핀 패턴 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 그래핀 패턴 형성방법은 기판의 상측에 금속층을 적층하는 금속층 적층단계; 상기 금속층은 내부로 함몰되는 함몰영역과 상기 함몰영역보다 외부로 돌출되는 돌출영역을 포함하도록 상기 금속층의 일부를 제거하는 금속층 제거단계; 상기 금속층의 외면에 이산화규소(SiO
    2 ) 또는 이산화티타늄(TiO
    2 )인 산화층을 도포하는 산화층 도포단계; 상기 돌출영역의 상면에 적층된 산화층을 제거함으로써 상기 돌출영역을 외부에 노출시키는 돌출영역 노출단계; 화학기상증착법(CVD)를 이용하여 그래핀을 상기 돌출영역의 상면에 선택적으로 증착하는 그래핀 증착단계; 상기 남아있는 산화층을 제거하는 산화층 제거단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
    이에 의하여, 작은 선폭을 가지는 패턴의 그래핀을 대면적에 증착할 수 있는 그래핀 패턴 형성방법이 제공된다.

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