Abstract:
금속산화박막 패턴형성용 코팅제 및 나노임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성방법에 관한 것으로서, 경화시간을 단축시키고 임프린트를 가능하게 하는 최적의 코팅제를 사용하는 것으로, 본 발명의 일 구현예에 따른 지르코닐 2-에틸헥사노에이트(Zirconyl 2-ethylhexanoate) 및 지르코늄 카복시 에틸 아크릴레이트 (Zirconium caboxyethyl acrylate)로 이루어진 산화지르코늄 전구체, 개시제, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제 및 이를 이용한 나노 임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성 방법이 제공된다.
Abstract:
A method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: forming a first photonic crystal layer having a photonic crystal structure with a nano-structure pattern on a substrate; forming a second photonic crystal layer having the photonic crystal structure with the nano-structure pattern on the first photonic crystal layer; and forming a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer sequentially on the second photonic crystal layer.
Abstract:
본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치는 기판, 기판 위에 위치하는 입자층, 입자층 위에 위치하는 제1 전극, 제1 전극 위에 형성되어 있는 발광층, 발광층 위에 형성되어 있는 제2 전극을 포함하고, 입자층은 복수의 입자 부재, 입자 부재 사이를 채우는 채움 부재를 포함하고, 입자 부재와 채움 부재는 서로 다른 굴절율을 가진다.
Abstract:
본 발명은 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치는 기판 상에 증착되는 레지스트를 패터닝하는 임프린트 장치에 있어서, 일부가 분리가능한 형태로 마련되어 개폐 가능하게 마련되는 하나의 챔버; 진공상태가 되도록 상기 챔버 내부의 공기를 배출시키는 진공형성부; 임프린팅 스탬프를 상기 레지스트로부터 상측으로 이격되도록 거치하되, 임프린팅 작업시에는 상기 임프린팅 스탬프가 상기 레지스트 측으로 자유낙하 하도록 거치해제하는 거치부; 상기 챔버의 내부에 배치되며, 진공 상태의 상기 챔버 내에서 상기 기판을 상측으로 가압하고, 상기 레지스트가 상기 임프린팅 스탬프의 패턴 내로 충진될 수 있도록 상기 레지스트가 증착된 기판을 상하로 이동시키는 승강부;를 포함하며, 상기 승강부가 상측으로 소정 간격 이동하여 상기 기판을 상기 임프린팅 스탬프에 근접시킨 뒤, 상기 거치부가 상기 임프린팅 스탬프를 거치해제하여 상기 임프린팅 스탬프를 상기 레지스트 상에 안착시키는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 진공상태에서 캐비티가 형성되는 현상없이 고품질의 나노 임프린팅 공정이 가능한 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치가 제공된다.
Abstract:
Disclosed are a device for manufacturing a colloid photonic crystal film and a method of manufacturing a colloid photonic crystal film using the same. The device for manufacturing a colloid photonic crystal film according to one embodiment of the present invention includes a housing having an open upper portion; a substrate mounting frame disposed in the housing; and a height adjusting part coupled with the substrate mounting frame to adjust the height of the substrate mounting frame.
Abstract:
나노 임프린트용 스탬프의 제조 방법에 관한 것으로서, 이 방법은 나노미터 스케일의 미세 패턴이 형성된 고분자 층을 갖는 기재를 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표현되는 모노머 또는 폴리머로 처리하는 공정을 포함한다. [화학식 1] ABD [화학식 2] AD 상기 화학식 1 또는 화학식 2에서, A는 플루오로카본기 또는 하이드로카본기이고, B는 하이드로카본기 또는 Si(R 1 ) 2 -O-[Si(R 1 ) 2 -O-] n -Si(R 1 ) 2 -R 2 (여기서, R 1 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, R 2 는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이고, n은 1 내지 100의 정수임)이고, D는 아크릴레이트기, 메타아크릴레이트기, 비닐 에테르기, 아민기(NR 3 2 , 여기에서 R 3 는 H, CH 3 또는 C 6 H 5 임), 에폭시기, 글리시딜기, 글리시딜 에테르기, 이소시아네이트기(NCO), 에스테르기(COOR 4 , 여기에서, R 4 는 H 또는 CH 3 임), 또는 티올기(SH)이다.
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting display and a manufacturing method thereof are provided to improve brightness and prevent reflection by decreasing a total reflection phenomenon using an intermediate layer or an air layer. CONSTITUTION: A metal oxide pattern layer(20) including a base layer(21) and a light crystal structure(22) is formed on a substrate(10). A filling layer(30) is formed on the metal oxide pattern layer. A transparent first electrode layer(40) is formed on the filling layer. An organic light emitting layer(50) is formed on the first electrode layer. A second electrode layer(60) made of metal is formed on the organic light emitting layer.
Abstract:
본 발명은 선폭이 100nm 이하인 나노선 패턴을 대면적으로 용이하게 형성할 수 있는 나노선 패턴 형성 방법과, 이를 이용한 선 편광자 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노선 패턴 형성 방법은, 결정질 기판을 고온 열처리하여 자발적으로 볼록부와 오목부를 포함하는 기초 나노선 패턴을 형성하는 제1 단계와, 기초 나노선 패턴 위에 제1 블록과 제2 블록이 결합된 블록 공중합체를 도포 후 열처리하여 라멜라 구조의 제1 블록과 제2 블록을 나누어 정렬시키는 제2 단계와, 제1 블록과 제2 블록 중 어느 하나를 제거하여 나노선 패턴을 형성하는 제3 단계를 포함한다. 제2 단계에서 분리된 제1 블록의 높이와 제2 블록의 높이는 기초 나노선 패턴의 볼록부 높이보다 크다. 나노선, 결정질, 사파이어, 실리콘, 라멜라, 블록공중합체, 자기조립