Quartz glass crucible and method for the production thereof
    61.
    发明申请
    Quartz glass crucible and method for the production thereof 有权
    石英玻璃坩埚及其生产方法

    公开(公告)号:US20050178319A1

    公开(公告)日:2005-08-18

    申请号:US10512114

    申请日:2003-04-03

    Abstract: A known quartz glass crucible for crystal pulling consists of a crucible wall, having an outer layer which is provided in an external area thereof with a crystallisation promoter which results in crystallisation of quartz glass, forming cristobalite when the quartz glass crucible is heated according to specified use in crystal pulling. The aim of the invention is to provide a quartz glass crucible which has a long service life. As a result, the crystallisation promoter contains, in addition to a silicon, a first component which acts as a reticulating agent in quartz glass and a second component which is free of alkali metals and which acts as an agent forming separating points in quartz glass. The above mentioned components are contained and incorporated into a doping area (8) of the outer layer (6) having a layer thickness of more than 0.2 mm.

    Abstract translation: 已知的用于晶体拉制的石英玻璃坩埚由坩埚壁组成,外壁具有结晶促进剂,结晶促进剂导致石英玻璃结晶,当石英玻璃坩埚根据规定加热时形成方英石 用于水晶拉。 本发明的目的是提供一种使用寿命长的石英玻璃坩埚。 结果,除了硅之外,结晶促进剂还含有在石英玻璃中充当网状剂的第一组分和不含碱金属的第二组分,其作为在石英玻璃中形成分离点的试剂。 上述组分被包含并且结合到层厚度大于0.2mm的外层(6)的掺杂区域(8)中。

    熔融石英ガラスおよびその製造方法
    69.
    发明申请
    熔融石英ガラスおよびその製造方法 审中-公开
    熔融石英玻璃及其制造方法

    公开(公告)号:WO2008032698A1

    公开(公告)日:2008-03-20

    申请号:PCT/JP2007/067639

    申请日:2007-09-11

    Abstract:  波長245nmの紫外光に対する厚さ10mmでの内部透過率が95%以上であり、OH含有量が5ppm以下、Li,Na,K,Mg,Ca,Cuの含有量が各々0.1ppm未満である熔融石英ガラス。好ましくは、この熔融石英ガラスの1215°Cにおける粘性率は10 11.5 Pa・s以上であり、また、1050°Cで大気中に24時間放置時の、表面からの深さが20μmを超え、100μmまでの領域におけるCuイオンの拡散係数が1×10 -10 cm 2 /sec以下である。この熔融石英ガラスは、原料シリカ粉をクリストバライト化し、次いで、非還元性雰囲気中で熔融することにより製造される。この熔融石英ガラスは、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性が高く、金属不純物の拡散速度が小さいという特性を有し、各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材などとして好適である。

    Abstract translation: 包含5ppm以下的OH和Li,Na,K,Mg,Ca和Cu的熔融石英玻璃,其含量小于0.1ppm,表现出内部透射率,以10mm的厚度测量, 相对于245nm波长的紫外线辐射,为95%以上。 优选地,熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为11.5Pa·s以上,并且显示Cu离子扩散系数,其在超过20μm至100nm的范围内测量 当在1050℃的大气中放置24小时时,其表面深度为10埃-10 -2厘米2 /秒以下。 该熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末转化为方英石,然后在非还原性气氛中将其熔融而制得。 该熔融石英玻璃具有紫外线,可见光和红外线的透射率高,高纯度,耐热性高,金属杂质扩散速度低的特性,因此适用于 各种光学材料,半导体制造用构件,液晶制造用构件等。

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