公开(公告)号：EP2909596A4

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：EP13846577

申请日：2013-10-18

Applicant: PICARRO INC

Inventor： RELLA CHRIS W ,  CROSSON ERIC R ,  TAN SZE MENG

IPC: G01M3/04 ,  F17D5/02 ,  G01M3/20 ,  G01M3/38 ,  G01N21/03 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/39

CPC classification number: G01M3/20 ,  G01M3/38 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/39 ,  G01N2021/0314 ,  G01N2201/025

公开(公告)号：EP2891174A4

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：EP13833578

申请日：2013-09-02

Applicant: SEMICONDUCTOR TECH & INSTR INC

Inventor： LIN JING

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/681 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  B25J15/0658 ,  B25J15/0666 ,  G01B11/27 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/025 ,  H01L21/67144 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68757 ,  Y10T29/49826

Abstract: A wafer table structure providing a single wafer table surface suitable for handling both wafers and film frames includes a base tray having a set of compartments formed therein by way of a set of ridges formed in or on an interior base tray surface; a hardenable fluid permeable compartment material disposed within the set of base tray compartments; and a set of openings formed in the base tray interior surface by which the hardened compartment material is exposable to negative or positive pressures. The base tray includes a first ceramic material (e.g., porcelain), and the hardenable compartment material includes a second ceramic material. The base tray and the compartment material are simultaneously machinable by way of a standard machining process to thereby planarize exposed outer surfaces of the base tray and the hardened compartment material at an essentially identical rate for forming a highly or ultra-planar wafer table surface.

公开(公告)号：EP2820399A4

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：EP13754914

申请日：2013-02-28

Applicant: SMART APPLIC LTD

Inventor： ZINN MICHAEL TREVOR ,  WOODS QUINTON ENCOMBE ,  BUYS PETRUS HENDRIK

IPC: G01N21/954 ,  E04G23/00 ,  F23J13/00 ,  F23J99/00 ,  G03B37/00

CPC classification number: G01N21/954 ,  E04G23/008 ,  F23J13/00 ,  F23J99/00 ,  F23J2213/60 ,  G01C19/00 ,  G01N2201/023 ,  G01N2201/025 ,  G01N2201/062 ,  G03B37/005

Abstract: The invention relates to an inspection and repair module for an internal side wall of a vertically erected structure, with the module including a carrier for supporting at least one data recording mechanism and being securable to a hoist, and for an inspection and repair module for an internal wall of a conduit with the module including propulsion means comprising a set of driven tracked wheels controllable by a controller carried by the carrier and configured to provide, within a conduit, longitudinal forward and reverse motion.

公开(公告)号：EP2909598A1

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：EP13847836.7

申请日：2013-10-18

Applicant: Picarro, Inc.

Inventor： RELLA, Chris, W. ,  CROSSON, Eric, R. ,  WOELK, Michael, R. ,  TAN, Sze, Meng

IPC: G01M3/04 ,  F17D5/02 ,  G06F17/18

CPC classification number: G01M3/20 ,  G01N21/3504 ,  G01N33/0004 ,  G01N2201/025

Abstract: Improved gas leak detection from moving platforms is provided. Automatic horizontal spatial scale analysis can be performed in order to distinguish a leak from background levels of the measured gas. Source identification can be provided by using isotopic ratios and/or chemical tracers to distinguish gas leaks from other sources of the measured gas. Multi-point measurements combined with spatial analysis of the multi-point measurement results can provide leak source distance estimates. These methods can be practiced individually or in any combination.

公开(公告)号：EP2909596A1

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：EP13846577.8

申请日：2013-10-18

Applicant: Picarro, Inc.

Inventor： RELLA, Chris, W. ,  CROSSON, Eric, R. ,  TAN, Sze, Meng

IPC: G01M3/04 ,  F17D5/02

CPC classification number: G01M3/20 ,  G01M3/38 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/39 ,  G01N2021/0314 ,  G01N2201/025

Abstract: Improved gas leak detection from moving platforms is provided. Automatic horizontal spatial scale analysis can be performed in order to distinguish a leak from background levels of the measured gas. Source identification can be provided by using isotopic ratios and/or chemical tracers to distinguish gas leaks from other sources of the measured gas. Multi-point measurements combined with spatial analysis of the multi point measurement results can provide leak source distance estimates. These methods can be practiced individually or in any combination.

公开(公告)号：EP1750129B1

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：EP06022907.7

申请日：2002-02-06

Applicant: Massachusetts Institute of Technology

Inventor： Harper, James Douglas ,  Mathews, Richard Hart ,  Johnson, Bernadette ,  Petrovick, Martha Susan ,  Rundell, Ann ,  Nargi, Frances Ellen ,  Stephens, Timothy ,  Mendenhall, Linda Marie ,  Hollis, Mark Alexander ,  Young, Albert M. ,  Rider, Todd Harrison ,  Schwoebel, Eric David ,  Vian, Trina Rae

IPC: C12Q1/04

CPC classification number: G01N33/554 ,  G01N15/0205 ,  G01N21/07 ,  G01N21/64 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/75 ,  G01N21/76 ,  G01N33/54373 ,  G01N33/54393 ,  G01N33/56983 ,  G01N33/582 ,  G01N2021/6439 ,  G01N2201/025 ,  G01N2201/061 ,  Y10S435/808 ,  Y10S436/805

公开(公告)号：JP6363605B2

公开(公告)日：2018-07-25

申请号：JP2015529760

申请日：2013-09-02

Applicant: セミコンダクター テクノロジーズ アンド インストゥルメンツ ピーティーイー リミテッド

Inventor： ジン・リン

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/681 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  B25J15/0658 ,  B25J15/0666 ,  G01B11/27 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/025 ,  H01L21/67144 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68757 ,  Y10T29/49826

公开(公告)号：JP6294324B2

公开(公告)日：2018-03-14

申请号：JP2015529759

申请日：2013-09-02

Applicant: セミコンダクター テクノロジーズ アンド インストゥルメンツ ピーティーイー リミテッド

Inventor： ジャン・ピン・ジン ,  レン・キーム・リー

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/681 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  B25J15/0658 ,  B25J15/0666 ,  G01B11/27 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/025 ,  H01L21/67144 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68757 ,  Y10T29/49826

公开(公告)号：JP2015528643A

公开(公告)日：2015-09-28

申请号：JP2015529759

申请日：2013-09-02

Applicant: セミコンダクター テクノロジーズ アンド インストゥルメンツ ピーティーイー リミテッド ,  セミコンダクター テクノロジーズ アンド インストゥルメンツ ピーティーイー リミテッド

Inventor： ジャン・ピン・ジン ,  レン・キーム・リー

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/681 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  B25J15/0658 ,  B25J15/0666 ,  G01B11/27 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/025 ,  H01L21/67144 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68757 ,  Y10T29/49826

Abstract: ウェハー及びフィルムフレームの両方をハンドリングすることに適する単一のウェハーテーブル表面を提供するウェハーテーブル構造は、内部ベーストレイ面に又はこの上に形成されたリッジのセットによりそこに形成されたコンパートメントのセットを有するベーストレイ;ベーストレイコンパートメントのセット内に配置された硬化可能な流体浸透性コンパートメント材料;及びベーストレイ内面に形成された開口のセットにして、これにより、硬化されたコンパートメント材料が負又は正の圧力に晒される、開口のセットを含む。ベーストレイが、第1セラミック材料(例えば、磁器)を含み、また硬化可能なコンパートメント材料が第2セラミック材料を含む。ベーストレイ及びコンパートメント材料が、標準の機械加工工程により同時に機械加工され、非常に又は超平坦なウェハーテーブル表面を形成するため実質的に同一の速度でベーストレイ及び硬化されたコンパートメント材料の露出した外面が平坦化される。

公开(公告)号：US20240248046A1

公开(公告)日：2024-07-25

申请号：US18405546

申请日：2024-01-05

Applicant: Applied Materials, Inc.

Inventor： Keith Wells ,  Ron Naftali ,  Elad Eizner ,  Tal Kuzniz ,  Chi-Ming Tsai

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/8806 ,  G01N2021/8835 ,  G01N2021/8848 ,  G01N2201/025 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/06146 ,  G01N2201/0691 ,  G01N2201/0697

Abstract: Implementations disclosed describe, among other things, a system and a method of using a wafer inspection system that includes a plurality of inspection heads configured to concurrently inspect a separate region of a plurality of regions of a wafer. Each inspection head includes an illumination subsystem to illuminate a corresponding region of the wafer, a collection subsystem to collect a portion of light reflected/scattered from the corresponding region of the wafer. Each inspection head further includes a light detection subsystem to detect the collected light and generate one or more signals representative of a state of the corresponding region of the wafer. The wafer inspection system further includes a processing device configured to determine, using the one or more signals received from each of the inspection heads, the quality of the wafer.