公开(公告)号：ZA8404161B

公开(公告)日：1985-02-27

申请号：ZA8404161

申请日：1984-06-04

Applicant: ENERGY CONVERSION DEVICES INC

Inventor： KEEM JOHN EDWARD ,  OVSHINSKY STANFORD ROBERT ,  FLESSA STEPHEN ALAN ,  WOOD JAMES LESLIE ,  HART KEITH LAVERNE ,  SZTABA LENNARD

IPC: G01N23/00 ,  C23C14/46 ,  C23C14/48 ,  G02B5/28 ,  G21K1/06 ,  H01J ,  H05G

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/067

公开(公告)号：WO2015039705A1

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：PCT/EP2013/069689

申请日：2013-09-23

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： GÖHNERMEIER, Aksel ,  VON BLANCKENHAGEN, Gisela

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061

Abstract: A multilayer mirror for reflecting extreme ultraviolet (EUV) radiation, the mirror comprises a substrate and a stack of layers formed on the substrate. The stack of layers comprises layers comprising a low index material and a high index material, the low index material having a lower real part of the refractive index than the high index material at a given operating wavelength λ. The mirror provides a first peak of reflectivity of 20% or more at a first wavelength λ 1 in a first wavelength band extending from 6 nm to 7 nm and a second peak of reflectivity of 20% or more at a second wavelength λ 2 in a second wavelength band extending from 12.5 nm to 15 nm.

Abstract translation: 一种用于反射极紫外（EUV）辐射的多层反射镜，该反射镜包括基底和在基底上形成的一叠层。 层叠层包括包含低折射率材料和高折射率材料的层，低折射率材料在给定的工作波长λ下具有比高折射率材料更低的实部折射率。 反射镜在从第一波长λ1延伸到6nm至7nm的第一波长λ1处提供20％以上的反射率的第一峰值，而在第二波长处的第二波长λ2处提供20％以上的反射率的第二峰值 带从12.5nm延伸到15nm。

公开(公告)号：WO2012013751A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：PCT/EP2011/063002

申请日：2011-07-28

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ASML NETHERLANDS B.V. ,  BAER, Norman ,  LOERING, Ulrich ,  NATT, Oliver ,  WITTICH, Gero ,  LAUFER, Timo ,  KUERZ, Peter ,  LIMBACH, Guido ,  HEMBACHER, Stefan ,  WALTER, Holger ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  HAUF, Markus ,  STICKEL, Franz-Josef ,  VAN SCHOOT, Jan

Inventor： BAER, Norman ,  LOERING, Ulrich ,  NATT, Oliver ,  WITTICH, Gero ,  LAUFER, Timo ,  KUERZ, Peter ,  LIMBACH, Guido ,  HEMBACHER, Stefan ,  WALTER, Holger ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  HAUF, Markus ,  STICKEL, Franz-Josef ,  VAN SCHOOT, Jan

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light. The lens further comprises support means for passively or actively supporting at least one optical element which is controlled to a temperature by a first tempering means. The support means comprising a temperature sensitive element, wherein the temperature sensitive element is controlled to a constant or to a predefined temperature by a second tempering element which is arranged between the temperature sensitive element and the first tempering element.

Abstract translation: EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV灯的曝光强度。 透镜还包括用于被动或主动地支撑由第一回火装置控制到温度的至少一个光学元件的支撑装置。 所述支撑装置包括温度敏感元件，其中所述温度敏感元件通过布置在所述温度敏感元件和所述第一回火元件之间的第二回火元件被控制到恒定或预定温度。

公开(公告)号：WO2011152437A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：PCT/JP2011/062559

申请日：2011-05-25

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  KUBO, Wataru ,  OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  MIYATA, Hirokatsu

Inventor： KUBO, Wataru ,  OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  MIYATA, Hirokatsu

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B05D5/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  H01J2235/168

Abstract: Provided is an X-ray mirror, a method of producing the X-rat mirror, and an X-ray apparatus. The X-ray mirror comprises: a substrate; and an X-ray reflecting structure formed of multiple regions present on the substrate, in which the X-ray reflecting structure comprises a mesostructured film that has the multiple regions having different structural periods in a normal direction of the substrate. Thus, there can be reduced the absorption loss of an X-ray of the mirror that reflects X-rays having different energies.

Abstract translation: 本发明提供一种X射线镜，X射线镜的制造方法以及X射线装置。 X射线镜包括：基片; 以及由存在于基板上的多个区域形成的X射线反射结构，其中，X射线反射结构包括具有在基板的法线方向上具有不同结构周期的多个区域的介孔结构膜。 因此，可以减少反射具有不同能量的X射线的反射镜的X射线的吸收损失。

公开(公告)号：WO2011039061A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：PCT/EP2010/063694

申请日：2010-09-17

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  DOCHNAHL, Axel ,  VON BLANCKENHAGEN, Gisela

Inventor： EHM, Dirk, Heinrich ,  DOCHNAHL, Axel ,  VON BLANCKENHAGEN, Gisela

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0825 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

Abstract: In order to reduce the adverse influence of contamination composed of silicon dioxide, hydrocarbons and/or metals within an EUV lithography apparatus on the reflectivity, a reflective optical element (50) for the extreme ultraviolet wavelength range having a reflective surface (59) is proposed, wherein the multilayer coating of the reflective surface (59) has a topmost layer (56) composed of a fluoride. The contaminations mentioned, which deposit on the reflective optical element (50) during the operation of the EUV lithography apparatus, are converted into volatile compounds by the addition of at least one of the substances mentioned hereinafter: atomic hydrogen, molecular hydrogen, perfluorinated alkanes such as e.g. tetrafluoromethane, oxygen, nitrogen and/or helium.

Abstract translation: 为了减少由EUV光刻设备内的二氧化硅，碳氢化合物和/或金属构成的污染物对反射率的不利影响，提出了一种具有反射表面（59）的用于极紫外波长范围的反射光学元件（50） ，其中所述反射表面（59）的多层涂层具有由氟化物构成的最顶层（56）。 在EUV光刻设备的操作期间沉积在反射光学元件（50）上的污染物通过添加至少一种以下提及的物质转化为挥发性化合物：原子氢，分子氢，全氟化烷烃 例如 四氟甲烷，氧，氮和/或氦。

公开(公告)号：WO2010034385A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/EP2009/006194

申请日：2009-08-26

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  SOER, Wouter, Anthon ,  YAKUNIN, Andrei, Mikhailovich ,  JAK, Martin, Jacobus, Johan ,  MATHEW, Denny ,  KETTELARIJ, Hendrik, Jan ,  VAN DEN HEUVEL, Fredericus, Christiaan ,  KUIJPERS, Petrus, Elizabeth, Maria

Inventor： SOER, Wouter, Anthon ,  YAKUNIN, Andrei, Mikhailovich ,  JAK, Martin, Jacobus, Johan ,  MATHEW, Denny ,  KETTELARIJ, Hendrik, Jan ,  VAN DEN HEUVEL, Fredericus, Christiaan ,  KUIJPERS, Petrus, Elizabeth, Maria

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/7095 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/208 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/061

Abstract: A transmissive spectral purity filter (100) is configured to transmit extreme ultraviolet radiation. The spectral purity filter (102F) includes a filter part (100) having a plurality of apertures (104) configured to transmit extreme ultraviolet radiation and to suppress transmission of a second type of radiation. Each aperture (104) has been manufactured by an anisotropic etching process.

Abstract translation: 透射光谱纯度滤光器（100）被配置为透射极紫外辐射。 光谱纯度滤光器（102F）包括具有多个孔（104）的过滤器部分（100），其配置成透射极紫外辐射并抑制第二类型辐射的透射。 已经通过各向异性蚀刻工艺制造了每个孔（104）。

公开(公告)号：WO2009085094A2

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/US2008/013416

申请日：2008-12-05

Applicant: CYMER, INC. ,  BOWERING, Norbert, R. ,  BYKANOV, Alexander, N. ,  KHODYKIN, Oleh, V. ,  FOMENKOV, Igor, V

Inventor： BOWERING, Norbert, R. ,  BYKANOV, Alexander, N. ,  KHODYKIN, Oleh, V. ,  FOMENKOV, Igor, V

IPC: G01J1/42 ,  C23C16/22

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G01J1/429 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70975 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: A method is disclosed for in-situ monitoring of an EUV mirror to determine a degree of optical degradation. The method may comprise the steps / acts of irradiating at least a portion of the mirror with light having a wavelength outside the EUV spectrum, measuring at least a portion of the light after the light has reflected from the mirror, and using the measurement and a pre-determined relationship between mirror degradation and light reflectivity to estimate a degree of multi-layer mirror degradation. Also disclosed is a method for preparing a near-normal incidence, EUV mirror which may comprise the steps / acts of providing a metallic substrate, diamond turning a surface of the substrate, depositing at least one intermediate material overlying the surface using a physical vapor deposition technique, and depositing a multi-layer mirror coating overlying the intermediate material.

Abstract translation: 公开了一种用于EUV反射镜的原位监测以确定光学降解程度的方法。 该方法可以包括用具有波长在EUV谱以外的波长的光照射反射镜的至少一部分的步骤/动作，在光已经从反射镜反射之后测量光的至少一部分，并且使用该测量和 镜面退化和光反射率之间的预定关系，以估计多层镜面退化的程度。 还公开了一种用于制备近似法线入射的EUV反射镜的方法，该反射镜可以包括提供金属基底的步骤/动作，转动基底的表面的金刚石，使用物理气相沉积沉积覆盖表面的至少一种中间材料 技术，并沉积覆盖中间材料的多层镜面涂层。

公开(公告)号：WO2009024669A2

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：PCT/FR2008/000946

申请日：2008-07-02

Applicant: XENOCS SA ,  HOGHOJ, Peter ,  BOULEE, Pascal ,  NTOVA, Paraskevi ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  BOULEE, Pascal ,  NTOVA, Paraskevi ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: H01J35/10 ,  H01J35/14 ,  H01J35/02 ,  H01J37/00 ,  H05G1/02 ,  G21K1/00 ,  G01N23/00 ,  G01B15/00

CPC classification number: H01J35/10 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/14 ,  H01J35/20

Abstract: La présente invention concerne le domaine de l'instrumentation analytique par rayons X (RX). Elle concerne plus précisément un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons X à haute énergie, typiquement supérieure à 4 keV, pour des applications analytiques par rayons X.

Abstract translation: 本发明涉及X射线分析仪器（RX），更准确地说，一种用于提供通常高于4keV的高能X射线束用于X射线分析应用的装置。

公开(公告)号：WO2008000437A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：PCT/EP2007/005640

申请日：2007-06-26

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SHARILOO, Nadyeh

IPC: G02B27/32 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G02B27/32 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70591 ,  G21K2201/061

Abstract: Zur präzisen Charakterisierung von reflektiven optischen Elementen (1) für den extremen ultravioletten und weichen Röntgenwellenlängenbereich wird vorgeschlagen, auf seiner reflektiven Fläche (2) mindestens zwei Markierungen (Ma, Mb, Mφ), insbesondere im optisch genutzten Bereich (3) aufzubringen und deren Position zu vermessen, bevor das reflektive optische Element (1 ) in eine Reflektometer eingebaut wird und die Reflektivität und ggf. auch Sekundärstrahlung des reflektiven optischen Elements (1 ) gemessen werden.

Abstract translation: 为反射光学元件（1）用于极紫外和软X射线波长范围的精确表征，提出了关于它的反射面（2）的至少两个标记（MA，MB，MF），适用于特别是在光学使用区域（3），它的位置 反射光学元件之前测量（1）被结合到反射和反射率和可能还有反射光学元件（1）的次级辐射进行测量。

公开(公告)号：WO2007090364A2

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：PCT/DE2007000126

申请日：2007-01-24

Applicant: FRAUNHOFER GES FORSCHUNG ,  FEIGL THORSTEN ,  BERNOIT NICOLAS ,  YULIN SERGIY ,  KAISER NOBERT

Inventor： FEIGL THORSTEN ,  BERNOIT NICOLAS ,  YULIN SERGIY ,  KAISER NOBERT

IPC: G02B6/08 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: In a multilayer mirror (6) for EUV radiation, which contains a layer sequence (7), arranged on a substrate (3), of a multiplicity of layer pairs (5) of in each case a first layer (1) composed of a first material and a second layer (2), applied thereon, composed of a second material, the first layers (1) and the second layers (2), according to the invention, each have a thickness of more than 2 nm, and the first material or the second material is a silicon boride or a molybdenum nitride.

Abstract translation: 在用于EUV辐射，其在衬底上布置成一个多层反射镜（6）（3）的层（7）从层的对（5）各由第一材料制成的第一层（1）中的多重性和施加在其上 根据本发明的第二材料的第二层（2），第一层（1）和第二层（2）各自具有大于2nm的厚度，并且第一材料或第二材料是硼化硅或 氮化钼。