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    Verfahren und Vorrichtung zur Korpuskularbestrahlung
    65.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Korpuskularbestrahlung 失效
    为Korpuskularbestrahlung方法和装置。

    公开(公告)号：EP0028585A1

    公开(公告)日：1981-05-13

    申请号：EP80810330.3

    申请日：1980-10-31

    Applicant: Jenoptik Jena G.m.b.H. ,  VEB Carl Zeiss Jena

    Inventor： Hahn, Eberhard, Dr.

    IPC: H01J37/00 ,  H01J3/00 ,  H01L21/26

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/31777

    Abstract: Es werden ein Verfahren und eine Vorrichtung offenbart, die beliebige Muster ohne Verzögerungszeit und mit hoher Genauigkeit auf ein Target abzubilden gestatten. Dazu wird dem Korpuskularstrahlbenbündel ein zusätzliches über seinen gesamten Querschnitt partiell differenziertes elektromagnetisches Feld aufgeprägt, das das Korpuskularstrahlenbündel hinsichtlich seiner Intensität strukturiert. Als Mittel zur Erzeugung eines in sich strukturierten Feldes dienen linien-oder flächenförmig ausgebildete Elektrodenraster, von denen jede Elektrode eine unterschiedliche Ladung erhalten kann und die das jeweilige Strahlenbündel reflektierend oder streifend beeinflussen.

    Abstract translation: 中，公开的方法和装置来映射图案而没有任何时间延迟且高精度地到目标允许。 为了这个目的，印象在Korpuskularstrahlbenbündel一个附加在其整个横截面部分地分化的电磁场，该电磁场结构Korpuskularstrahlenbündel在其强度方面。 作为用于生成结构化的场的装置是在线或面状的栅格电极，每个电极可以接收不同的电荷和对光线反射或漫游服务的相应波束的影响。

    DISPLAY TUBE AND DISPLAY DEVICE
    66.
    发明申请
    DISPLAY TUBE AND DISPLAY DEVICE 审中-公开
    显示管和显示设备

    公开(公告)号：WO02097844A3

    公开(公告)日：2003-05-22

    申请号：PCT/IB0201948

    申请日：2002-05-30

    Applicant: KONINKL PHILIPS ELECTRONICS NV ,  VAN DER VAART NIJS C ,  VAN DER POEL WILLIBRORDUS A J ,  DAMEN DANIEL M

    Inventor： VAN DER VAART NIJS C ,  VAN DER POEL WILLIBRORDUS A J ,  DAMEN DANIEL M

    IPC: H01J29/04 ,  H01J3/00 ,  H01J3/02 ,  H01J29/02 ,  H01J29/46 ,  H01J29/48 ,  H01J29/51 ,  H01J29/52

    CPC classification number: H01J29/481 ,  H01J29/023 ,  H01J29/488 ,  H01J29/51 ,  H01J2229/4824

    Abstract: A display tube comprises an electron source (10), a module (20) provided with a guidance cavity (25R, 25G, 25B) for guiding electrons emitted by the electron source (10) to an exit aperture (27R, 27G, 27B) of the guidance cavity (25R, 25G, 25B) and beam-shaping means (30) for forming an electron beam (EBR, EBG, EBB) from guided electrons leaving the exit aperture (27R, 27G, 27B). The electron beam (EBR, EBG, EBB) travels towards a display screen (3). The beam-shaping means (30) are arranged to change a direction in which the electron beam (EBR, EBG, EBB) leaves the guidance cavity (25R, 25G, 25B) in accordance with a predetermined application. For example, the electron beam (EBR, EBG, EBB) is deflected to realize gun pitch modulation in the electron gun of a cathode ray tube. As the electron beam is deflected near the exit aperture (27R, 27G, 27B), spot errors are reduced and the display tube has a relatively high image quality.

    Abstract translation: 显示管包括电子源（10），设置有用于将由电子源（10）发射的电子引导到出射孔（27R，27G，27B）的引导腔（25R，25G，25B）的模块（20） （25R，25G，25B）和用于从离开出口孔（27R，27G，27B）的引导电子形成电子束（EBR，EBG，EBB）的光束整形装置（30）。 电子束（EBR，EBG，EBB）向显示屏（3）行进。 光束整形装置（30）被布置为根据预定应用改变电子束（EBR，EBG，EBB）离开引导腔（25R，25G，25B）的方向。 例如，电子束（EBR，EBG，EBB）被偏转以在阴极射线管的电子枪中实现枪间距调制。 当电子束在出射孔（27R，27G，27B）附近偏转时，斑点误差减小，显像管具有较高的图像质量。

    METHOD AND SYSTEM FOR ENERGY CONVERSION USING A SCREENED-FREE-ELECTRON SOURCE
    67.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR ENERGY CONVERSION USING A SCREENED-FREE-ELECTRON SOURCE 审中-公开
    使用无屏幕电子源进行能量转换的方法和系统

    公开(公告)号：WO02080216A9

    公开(公告)日：2003-02-13

    申请号：PCT/US0209395

    申请日：2002-03-26

    Applicant: NELSON LAWRENCE

    Inventor： NELSON LAWRENCE

    IPC: F24J3/00 ,  G01Q60/00 ,  G21K1/00 ,  H01J3/00 ,  H02N11/00 ,  H01J7/24

    CPC classification number: F24J3/00 ,  G21H1/02 ,  G21K1/00 ,  H01J3/00 ,  H02N11/002

    Abstract: A method and device for providing power to a load (11) are disclosed. A beam of free electrons is directed from a free-electron source, such as an electron gun (4, 15), into an enclosing conductive surface (2, 12). The free-electron source includes a cathode, which is maintained at a negative voltage with respect to the enclosing conductive surface. A region around the free-electron source is maintained in a vacuum (14). The system is configured to switch over a time period between two configurations. In the first configuration, the enclosing conductive surface (2, 12) is isolated from a ground (17). In the second configuration, the enclosing conductive surface (2, 12) is in electrical communication with the ground (17). Capacitive energy is discharged from the enclosing conductive surface (2, 12) when in the second configuration with an electrical circuit arrangement (8-10) and provided to the load (11).

    Abstract translation: 公开了一种向负载（11）提供电力的方法和装置。 自由电子束从诸如电子枪（4,15）的自由电子源引导到封闭的导电表面（2,12）中。 自由电子源包括阴极，其相对于封闭的导电表面保持在负电压。 在自由电子源周围的区域保持在真空中（14）。 系统配置为在两个配置之间切换一段时间。 在第一构造中，封闭的导电表面（2,12）与地（17）隔离。 在第二构造中，封闭的导电表面（2,12）与地面（17）电连通。 当具有电路布置（8-10）的第二配置中并且提供给负载（11）时，电容性能量从封闭的导电表面（2,12）中排出。

    ELECTRON IMPACT ION SOURCE
    68.
    发明申请
    ELECTRON IMPACT ION SOURCE 审中-公开
    电子轰击离子源

    公开(公告)号：WO01027964A2

    公开(公告)日：2001-04-19

    申请号：PCT/DE2000/003525

    申请日：2000-10-06

    IPC: G01N27/62 ,  G21K1/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/04 ,  H01J27/18 ,  H01J27/20 ,  H01J37/08 ,  H05H3/02 ,  H01J3/00

    CPC classification number: H01J27/18

    Abstract: The invention relates to an electron impact ion source for the generation of multiply- or maximally-charged ions, which comprises an electron gun with a cathode and anode for creation and acceleration of electrons, a device for axial-symmetric focusing of the electron beam, a means for introducing ionisable substances into an ion trap located in the region of the axial-symmetric focussed electron beam, which may be opened and closed, a device for destroying the electrons after passing through the ion trap, and a device for generating a vacuum around the axial-symmetric focussed electron beam and the ion trap within said beam. Said electron impact ion source is further characterised by the device for axial-symmetric focussing of the electron beam comprising at least two opposing, radially magnetised ring structures (2), whereby each of the ring structures (2) encloses the electron beam and both opposed radially magnetised rings (2) are linked by magnetic conductors (7, 9) to form a unified magnetic body. The invention is further characterised by the closed magnetic field passing through the ion residence zone in the ion trap, the cathode having a very high emmissivity of with a small cathode diameter and an applicable vacuum of from 10 to 10 Torr in the ion residence zone during operation of the electron impact ion source.

    Abstract translation: 本发明涉及一种电子碰撞离子源，用于产生多个或高度带电的离子，其包括具有阴极和阳极的电子枪，用于创建和电子的加速，用于轴向对称聚焦的电子束的装置，用于以可打开和关闭的离子阱将可离子化的物质 在轴向对称聚焦电子束的区域中，用于通过所述离子阱通道后的电子的破坏，以及用于创建所述轴对称地聚焦电子束周围的真空和其中的离子阱，其特征在于，轴向对称的装置中的电子束的聚焦从 至少两个相对径向磁化的环结构（2），并且每个环结构（2）的包含所述电子束，所述两个相对径向磁化圈（2），以 由磁导线的单个磁体系统（7,9）连接，其特征在于，所述上闭磁场穿透在离子阱中的离子的占用区域中，阴极具有> / =非常高的发射率; 25 A / <2>具有小阴极直径厘米，和10 <-7> 10 <-11>乇中的离子的占用区中的真空可在电子碰撞离子源的操作期间被调整。

    一种离子阱系统
    69.
    发明申请
    一种离子阱系统 审中-公开

    公开(公告)号：WO2020135086A1

    公开(公告)日：2020-07-02

    申请号：PCT/CN2019/124956

    申请日：2019-12-12

    Applicant: 华为技术有限公司

    Inventor： 沈杨超 ,  李政宇 ,  苏长征

    IPC: H01J3/00

    Abstract: 一种离子阱系统，包括激光调控模块（11），用于将光束分为P个第一光束和Q个第二光束，P个第一光束中的N个第一光束分别传输至N个离子（121），Q个第二光束中的M个第二光束分别传输至M个监测单元（122）；M个监测单元（122）用于分别检测M个第二光束，并分别获得M个第二光束的空间强度分布信息，反馈控制模块（13）用于接收M个第二光束的空间强度分布信息，根据M个第二光束的空间强度分布信息确定N个第一控制信号，并将N个第一控制信号传输至激光调控模块（11），其中，N个第一控制信号与N个第一光束一一对应，第一控制信号用于控制激光调控模块（11）将对应的第一光束与离子（121）对准。如此，有助于提高第一光束与对应离子（121）的对准度，从而提高对离子（121）进行量子态操控的保真度。

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