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公开(公告)号：CN111793054B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202010256383.4
申请日：2020-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D319/06 , C07D321/06 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07D333/48 , C07D307/00 , C07D317/18 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。
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公开(公告)号：CN109426080B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN112824382A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN119841753A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411434889.4
申请日：2024-10-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07C25/18 , C07C309/12 , C07C309/75 , C07C309/73 , G03F7/004 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体，其在化学增幅抗蚀剂组成物中使用，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度(EL)、LWR、CDU、焦点深度(DOF)等光刻性能优异，同时于微细图案形成时抗图案崩塌、蚀刻耐性也优良。本发明并提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(a)表示的鎓盐型单体。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119613298A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411270307.3
申请日：2024-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C309/42 , C07C381/12 , C07D307/93 , C07D493/18 , C07D327/04 , C07D495/18 , C07D513/18 , C07D275/06 , C07D491/18 , C07D327/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓盐，以下式(A)表示。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119371289A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202410988827.1
申请日：2024-07-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C33/34 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/24 , C07C35/21 , C07C33/36 , C07C43/168 , C07C69/16 , C08F212/14 , C08F232/08 , G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，及一种抗蚀剂图案形成方法，该化学增幅负型抗蚀剂组成物会提升图案形成时的分辨率，且可以获得LER、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案。本发明的解决手段是下式(A1)表示的单体、包含来自该单体的重复单元的聚合物、及包含含有该聚合物的基础聚合物的化学增幅负型抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119179234A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202410782549.4
申请日：2024-06-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可获得改善图案形成时的分辨度，且LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：(A)由下式(A)表示的鎓盐构成的光酸产生剂，及(B)基础聚合物，含有含下式(B1)表示的重复单元的聚合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118938604A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410573460.7
申请日：2024-05-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨度、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：(A)淬灭剂，含有下式(A)表示的鎓盐，及(B)基础聚合物，含有含下式(B1)表示的重复单元的聚合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118938600A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410567911.6
申请日：2024-05-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨度、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)包含下式(A)表示的鎓盐的淬灭剂，及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117886728A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311326718.5
申请日：2023-10-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C381/12 , C07C309/73 , C07C309/71 , C07C309/66 , C07C309/65 , C07D333/76 , C07D333/54 , C07D327/06 , C07C211/63 , C07C25/18 , C07C309/12 , C07D327/08 , G03F7/004 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、且EL、LWR等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐，以及提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是以下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#
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