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公开(公告)号：CN104583866B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201380045257.2
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D411/04 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，其含有由式(1)表示的化合物：其中R1表示多环芳族基团或多环杂环芳族基团，R2表示(n+2)价的饱和的烃基，R3表示(m+2)价的饱和的烃基，R4和R5各自独立地表示取代基，Q表示含有杂原子的连接基团，m和n各自独立地表示0至12的整数，当n为2以上时，多个R4可以是相同的或不同的，多个R4可以相互连接与R2一起形成非芳族环，当m为2以上时，多个R5可以是相同的或不同的，且多个R5可以相互连接与R3一起形成非芳族环，且X‑表示非亲核阴离子。
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公开(公告)号：CN107407887A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680017158.7
申请日：2016-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , C09D133/04 , G03F7/32 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。
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公开(公告)号：CN107407886A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680016941.1
申请日：2016-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/095 , H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/185 , C08F2220/1858 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C09D133/066 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、通过上述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含上述图案形成方法的电子器件的制造方法，并且通过上述上层膜形成用组合物以高级别兼顾DOF、EL及液残留缺陷性能，所述图案形成方法具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，利用上层膜形成用组合物而在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案，所述图案形成方法中，上层膜形成用组合物含有ClogP值为2.85以上的具有重复单元(a)的树脂及ClogP为1.30以下的化合物(b)，上层膜相对于水的后退接触角为70度以上。
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公开(公告)号：CN106716257A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580052713.5
申请日：2015-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后，在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105051610A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015210.6
申请日：2014-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可减少残渣缺陷、且使用有机系显影液进行显影的图案形成方法，用于其的有机溶剂显影用的感光化射线性或感放射线性树脂组合物及其制造方法，电子元件的制造方法及电子元件，上述图案形成方法包括如下步骤：(1)使用过滤器对含有(A)因酸的作用导致极性增大而对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、及(C1)溶剂的树脂溶液进行过滤；(2)制备含有利用所述步骤(1)中的滤液所获得的所述树脂(A)、及与所述溶剂(C1)不同的(C2)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物；(3)使用过滤器对所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进行过滤；(4)使用通过所述步骤(3)获得的滤液形成膜；(5)对所述膜进行曝光；以及(6)使用包含有机溶剂的显影液进行显影而形成负型的图案；且所述溶剂(C1)的溶解参数(SPC1)与所述显影液的溶解参数(SPDEV)的差的绝对值(|SPC1-SPDEV|)为1.00(cal/cm3)1/2以下。
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公开(公告)号：CN105051607A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015627.2
申请日：2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN103025831B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201180035943.2
申请日：2011-06-30
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , C07D207/34 , C07F1/005 , C07F3/003 , C07F9/005 , C07F15/065 , C09B57/10 , C09B67/0033 , C09B67/0034 , C09B69/105 , G02B5/223
Abstract: 本发明提供染料化合物、彩色固化组成物、彩色滤光片及其制造方法、固态影像传感器及液晶显示元件。所述染料化合物具有由下式(5)表示的部分结构：其中在式(5)中，染料表示染料结构；G1表示NR或氧原子；G2表示空间参数-Es′值等于或大于1.5的单价取代基；p表示1至8的整数；当p等于或大于2时，两个或多于两个由p表示的结构可彼此相同或不同；且R表示氢原子或单价取代基。
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公开(公告)号：CN103589193A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201310488011.4
申请日：2010-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09B69/10 , C09B57/10 , C08F2/50 , C08F20/02 , C08F20/34 , C08F20/38 , C08F20/56 , C08F20/60 , C08F220/36 , C08F220/60 , C09K11/06 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/038 , H01L27/14 , H01L51/50 , H05B33/12
CPC classification number: C08F2/50 , C08F220/36 , C08F220/60 , C09B23/04 , C09B57/10 , C09B69/108 , C09K11/06 , C09K2211/1408 , C09K2211/188 , G02B5/22 , G02F1/133516 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/105 , H01L27/322 , H05B33/12
Abstract: 本发明公开了着色可固化组合物，彩色抗蚀剂，彩色滤光片及其制备方法，以及具有所述彩色滤光片的固态图像传感器和图像显示装置。本发明的着色可固化组合物包含：(A)着色剂多聚体，所述着色剂多聚体包含可聚合基团和衍生自偶氮着色剂或二吡咯甲川着色剂中的至少一种的基团；和(B)可聚合化合物。
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公开(公告)号：CN102575108A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080046028.9
申请日：2010-10-07
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09D11/101 , C09B57/10 , C09B69/109 , C09D11/322 , G03F7/0007 , G03F7/105 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种着色可固化组合物，所述着色可固化组合物包含二吡咯甲川化合物，所述二吡咯甲川化合物具有其中将可聚合基团和羧基引入到同一分子中的结构，并且提供一种抗蚀剂液体，一种喷墨打印用墨，一种滤色器，一种制备滤色器的方法，一种固态图像传感器，一种液晶显示器，一种有机EL显示器，一种图像显示装置和一种着色剂化合物。
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