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公开(公告)号：CN115803683A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202180048994.2
申请日：2021-07-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、及能够通过电子器件的制造方法形成CDU优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂A及酸分解性树脂B，其中，关于上述树脂A和上述树脂B，具有酸分解性基团的重复单元的摩尔基准的含有率的差的绝对值为5～20摩尔％，酸分解性基团的结构相同，质量基准的含有率的比为10/90～90/10，重均分子量的差的绝对值为100～5000，分子量分布的差的绝对值为0.05以上。
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公开(公告)号：CN114207526A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080054129.4
申请日：2020-08-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成抑制灵敏度降低且对基板的密合性(特别是干燥状态下的密合性)优异的感光化射线性或感放射线性膜的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增大的树脂、(B)光产酸剂、(P)氧化胺及(D)酸扩散控制剂(其中，相当于氧化胺的除外)，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述氧化胺(P)的含量为0.01ppm以上且1000ppm以下，上述酸扩散控制剂(D)相对于上述氧化胺(P)的质量比率大于1且为10000以下。
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公开(公告)号：CN108431690A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201680076122.6
申请日：2016-11-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜及图案形成方法、以及使用了这些的电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：玻璃化转变温度为155℃以上的树脂(A)；玻璃化转变温度为150℃以下的化合物(B)；及溶剂(C)，其中，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分含量为20质量％以上，由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂图案的软化点为130℃以上且170℃以下，当由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成例如具有1μm以上的厚度的厚膜抗蚀剂膜形成图案时，能够高层次地兼备优异的分辨率和优异的曝光宽容度，并且抑制蚀刻时可产生的抗蚀剂图案的侧壁上的粗糙度。
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公开(公告)号：CN108351592A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680062519.X
申请日：2016-11-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 吉野文博
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了该感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上，且使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，并通过波长200～300nm的光来对膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光时，能够形成灵敏度优异，并且具有优异的剖面形状的图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104330957B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201410602459.9
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/12
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN103562795B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201280010692.7
申请日：2012-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 一种图案形成方法，其含有(i)藉由感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜的步骤，所述树脂组成物含有(P)具有(a)由特定式表示的重复单元的树脂，以及(B)能够在用光化射线或放射线照射后产生有机酸的化合物；(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)藉由使用含有机溶剂的显影剂使膜显影以形成负型图案的步骤。
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公开(公告)号：CN104823109A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201380061591.7
申请日：2013-11-15
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/038 , C08F212/08 , C08F216/10 , C08F216/165 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/1825 , C08F2220/283 , C08F2220/285 , C08L33/06 , G03F7/0397 , G03F7/325
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用其的图案形成方法、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的曝光宽容度(EL)及线宽粗糙度(LWR)优异，进而阶差基板上的间隙图案的显影性优异，尤其适于利用有机溶剂显影的负型图案形成方法，其中也适于KrF曝光。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，该树脂(A)含有芳香族基及(i)具有因酸的作用发生分解而产生极性基的基团的重复单元，也可含有(ii)具有酚性羟基以外的极性基的重复单元，并且相对于树脂(A)中的所有重复单元，上述(i)及(ii)的重复单元的合计量为51mol％以上。
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公开(公告)号：CN114303098B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202080060658.5
申请日：2020-08-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：(A)通过酸的作用而极性增大的树脂；(B)光产酸剂；及阴离子(P)，其为选自由NO3‑、SO42‑、Cl‑及Br‑组成的组中的1种以上的阴离子，其中，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述阴离子(P)的含量为0.01ppb以上且100ppm以下。
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公开(公告)号：CN114945868A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202180009570.5
申请日：2021-02-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C317/04 , C07C381/12 , C08F12/22 , C08F20/26 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物，所述图案形成方法包括：(i)由特定的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜厚700nm以上的感光化射线性或感放射线性膜的工序；(ii)向上述感光化射线性或感放射线性膜照射波长200nm以下的光化射线或放射线的工序；及(iii)使用显影液对被照射上述波长200nm以下的光化射线或放射线的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序。
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