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公开(公告)号：KR1020110140059A
公开(公告)日：2011-12-30
申请号：KR1020100060249
申请日：2010-06-24
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B29C33/424 , B29C33/38 , B29C59/022 , B29C2033/426 , B29K2909/02
Abstract: PURPOSE: A nano imprinting stamp and a manufacturing method thereof are provided to compensate a leveling misalignment to a resin mold layer if the leveling of a stamp substrate breaks about a base substrate. CONSTITUTION: A manufacturing method of a nano imprinting stamp comprises the following steps. The micro patterns of nanometer scale are formed in the single-side of a base substrate. The UV-curable resin is spread on the micro patterns and is pressed with a stamp substrate(15). The stamp substrate is laminated on the base substrate. A resin mold layer(16) having micro patterns and an opposite shape are formed in the single-side of the stamp substrate. The stamp substrate in which the resin mold layer is fixed is separated from the base substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种纳米压印印模及其制造方法，用于补偿印模基板的平整度在基底基板周围断裂时对树脂模层的流平偏移。 构成：纳米印记印模的制造方法包括以下步骤。 纳米尺度的微图案形成在基底的单面。 将紫外线固化树脂涂布在微图案上，并用印模基板（15）压制。 印模基板层叠在基底基板上。 在印模基板的单面形成具有微图案和相反形状的树脂模制层（16）。 固定树脂模层的印模基板与基底基板分离。
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公开(公告)号：KR101061554B1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：KR1020090011089
申请日：2009-02-11
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/336 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 갭 센서는 보다 용이하게 제조할 수 있도록 소스 전극과, 드레인 전극과, 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극을 연결하는 채널, 및 상기 채널과 이격되어 인접하게 배치된 게이트 전극을 포함하고, 상기 소스 전극, 상기 드레인 전극, 상기 채널, 및 상기 게이트 전극은 동일한 타입의 물질로 도핑된 실리콘층으로 이루어진다.
본 발명의 일 실시예에 따른 나노 갭 바이오 센서의 제조 방법은 기판 상에 실리콘층을 도포하는 실리콘층 형성 단계와, 상기 실리콘층 상에 레지스트층을 도포하는 레지스트층 형성 단계와, 상기 레지스트층에 패턴을 형성하는 레지스트층 패터닝 단계와, 상기 실리콘층을 에칭하여 나노 갭을 형성하는 실리콘층 패터닝 단계와, 상기 레지스트층을 제거하는 레지스트층 제거 단계와, 상기 실리콘에 전체적으로 불순물을 도핑하는 불순물 도핑 단계, 및 검출 대상 물질과 반응하는 수용기를 상기 나노 갭에 위치시키는 수용기 부착 단계를 포함한다.
나노 갭, 센서, 도핑, 전극Abstract translation: 根据本发明实施例的纳米间隙传感器包括源电极，漏电极，连接源电极和漏电极的沟道以及与沟道分开布置的栅极， 其中源电极，漏电极，沟道和栅电极由掺杂有相同类型材料的硅层构成。
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公开(公告)号：KR101059973B1
公开(公告)日：2011-08-26
申请号：KR1020090060308
申请日：2009-07-02
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 고가의 장비를 사용하지 않고도 100nm 이하 폭의 미세 패턴을 형성할 수 있는 미세 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 미세 패턴 형성 방법은, 기판 위에 열가소성 고분자 수지로 서로간 제1 간격을 유지하는 고분자 패턴을 형성하는 단계와, 고분자 패턴을 가열하여 제1 간격보다 작은 제2 간격을 유지하는 고분자 몰드를 형성하는 단계와, 기판과 고분자 몰드 위로 패턴 대상물을 도포하는 단계와, 고분자 몰드를 리프트-오프시켜 제2 거리와 동일 폭을 가지는 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
패턴, 열가소성, 고분자, 몰드, 도포, 증착, 스퍼터링, 리프트오프Abstract translation: 本发明涉及形成精细图案的方法，该精细图案能够在不使用昂贵的设备的情况下形成宽度为100nm或更小的精细图案。 对于本发明的精细图案形成方法，以及形成其保持彼此在基板上的热塑性聚合物树脂之间的第一距离的聚合物图案，通过加热聚合物模式的聚合物模具，以保持小的第二时间间隔比所述第一距离 将图案物体施加到基底和聚合物模具上;以及剥离聚合物模具以形成具有与第二距离相同的宽度的精细图案。
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公开(公告)号：KR101049218B1
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：KR1020080095580
申请日：2008-09-29
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 미세 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 기판 준비 단계와, 상기 기판 상에 폴리머층을 도포하는 폴리머층 형성 단계와, 상기 폴리머층을 미세 패턴이 형성된 스탬프를 이용하여 가압하는 스탬프 가압 단계와, 상기 스탬프에 적용된 가압력을 제거하는 가압력 제거 단계와, 상기 폴리머층을 경화시키는 폴리머층 경화 단계, 및 상기 스탬프를 상기 폴리머층에서 분리시키는 스탬프 분리 단계를 포함한다.
이와 같이 본 발명에 따르면 스탬프에 적용된 가압력을 제거하고 스탬프를 복원시킴으로써 정밀한 미세 패턴을 정확하게 형성할 수 있다.
미세 패턴, 가압력, 스탬프, 폴리머층-
公开(公告)号：KR1020110003080A
公开(公告)日：2011-01-11
申请号：KR1020090060681
申请日：2009-07-03
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L51/5262 , H01L51/56
Abstract: PURPOSE: An organic light emitting diode and a manufacturing method thereof are provided to improve the light extraction efficiency of the guided light by forming the metal nano pattern which is filled with the nano metal colloid on a area near the organic light emitting layer. CONSTITUTION: A resin thin film layer(150) is formed on a substrate(110). A nano pattern of alternating a nano post and a nano hole is formed on the top of the resin thin film. The nano metal colloid(160) is filled within the nano hole. The filled nano metal colloid is frozen. A positive electrode(120) is formed on the resin thin film layer.
Abstract translation: 目的：提供一种有机发光二极管及其制造方法，通过在有机发光层附近的区域形成填充有纳米金属胶体的金属纳米图案来提高导光的光提取效率。 构成：在基板（110）上形成树脂薄膜层（150）。 在树脂薄膜的顶部形成有交替纳米柱和纳米孔的纳米图案。 纳米金属胶体（160）填充在纳米孔内。 填充的纳米金属胶体被冷冻。 在树脂薄膜层上形成正极（120）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101000120B1
公开(公告)日：2010-12-10
申请号：KR1020080068648
申请日：2008-07-15
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 광추출 향상을 위한 나노 패턴을 불규칙하게 형성함으로써, 규칙적인 나노 패턴 표면에서 전반사에 의해 영상 번짐 현상이 일어나는 문제점을 개선한 불규칙 나노 패턴을 가지는 디스플레이 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.
이를 위한, 본 발명의 불규칙 나노 패턴을 가지는 디스플레이 소자는, 제 1 전극과 제 2 전극 및 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 형성되며 발광물질을 포함하여 이루어지는 발광부를 포함하는 유기발광 소자에 있어서, 상기 제 1 전극의 일면에 형성되며 불규칙한 나노 구조를 가지는 광결정 패턴을 포함한다.
불규칙 나노 패턴, 디스플레이, 유기발광, 광결정-
公开(公告)号：KR100988647B1
公开(公告)日：2010-10-18
申请号：KR1020080094233
申请日：2008-09-25
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명에 따른 미세 패턴 형성 임프린팅 방법은 대면적 미세 패턴을 용이하게 형성할 수 있도록 기판 상에 레진을 토출하는 레진 토출 단계와, 상기 기판 상에 미세 패턴이 형성된 스탬프를 위치시키는 스탬프 설치 단계와, 가압장치를 이용하여 상기 스탬프의 미세 패턴에 레진을 충진하는 스탬프 가압 단계, 및 상기 레진을 경화시키는 레진 경화 단계를 포함하며, 상기 가압장치는 복수개의 가압유닛들을 포함하고, 상기 스탬프 가압 단계는 상기 스탬프의 중앙에 배치된 가압유닛부터 외측에 배치된 가압유닛까지 순차적으로 상기 스탬프를 가압한다.
미세 패턴, 가압력, 스탬프, 가압유닛-
公开(公告)号：KR100978366B1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020090051029
申请日：2009-06-09
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , H01L21/308
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C59/022 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a stamp for nano imprinting is provided to use a polymer nanoparticle for producing a nanopattern using the difference of the solubility coefficient. CONSTITUTION: A manufacturing method of a stamp for nano imprinting comprises the following steps: laminating a polymer nanoparticle(111), a polymer matrix(121), and a mixed solution(130) on a substrate(140)(a); removing a solvent form the mixed solution to form a thin film(150)(b); etching the polymer matrix to expose the polymer nanoparitcle(c); dissolving the exposed nanoparitcle to form a nanopattern(153)(d); and laminating a metal material on the nanopattern to make the stamp(160) for nano imprinting(e).
Abstract translation: 目的：提供纳米压印用印模的制造方法，使用聚合物纳米粒子制造纳米图案，使用溶解度系数的差异。 构成：用于纳米压印的印模的制造方法包括以下步骤：在基材（140）（a）上层压聚合物纳米颗粒（111），聚合物基质（121）和混合溶液（130）; 从所述混合溶液中除去溶剂以形成薄膜（150）（b）; 蚀刻聚合物基质以暴露聚合物纳米颗粒（c）; 溶解暴露的纳米颗粒以形成纳米图案（153）（d）; 以及将纳米图案上的金属材料层压以制造用于纳米压印的印模（160）（e）。
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公开(公告)号：KR1020100091751A
公开(公告)日：2010-08-19
申请号：KR1020090011089
申请日：2009-02-11
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/336 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: Since being included of the horizontal nanogap in which nanogap between the gate electrode and sensor and the manufacturing method thereof silver channel having nanogap are horizontally separated, the collapse phenomenon of nanogap can be prevented. CONSTITUTION: The nano gap sensor comprises the source electrode(182), the drain electrode(184), and channel and gate electrodes. Channel interlinks the source electrode and drain electrode. The gate electrode is arranged to be separated with channel and be contiguous. It is included of the source electrode, drain electrode, and the silicon layer. The silicon layer channel and gate electrode are doped to the same material of type.
Abstract translation: 目的：由于在栅电极和传感器之间的纳米间隙的水平纳米凹槽被包括，并且具有纳米凹槽的银通道的制造方法被水平分离，所以可以防止纳米隙的崩溃现象。 构成：纳米间隙传感器包括源电极（182），漏电极（184）以及沟道和栅电极。 通道将源电极和漏电极互连。 栅电极被布置为与通道分离并且是连续的。 它包括在源电极，漏电极和硅层中。 硅层沟道和栅电极被掺杂成相同的类型的材料。
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公开(公告)号：KR1020100043952A
公开(公告)日：2010-04-29
申请号：KR1020080103221
申请日：2008-10-21
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L31/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an organic photovoltaic device is provided to stably form a 6,6-phenyl-C_x butyric acid methyl ester(PCBM) on a pol-3-hexythiophene(P3HT) by successively coating a photoactive layer with the P3HT and an electron accepting layer with the PCBM and subsequently patterning the photoactive layer and the electron accepting layer through a pressurization process. CONSTITUTION: A first electrode material(20) is coated on a substrate(10). An photoactive layer(40) is coated on the first electrode material. An electron accepting layer(50) is coated on the photoactive layer. The upper side and the lower side of the substrate and the electron accepting layer are pressurized using a mold(60). A second electrode material is coated on the electron accepting layer.
Abstract translation: 目的：提供一种制造有机光伏器件的方法，通过连续地在P3HT上涂覆光活性层，在聚-3-氧噻吩（P3HT）上稳定地形成6,6-苯基-C_x丁酸甲酯（PCBM）， 具有PCBM的电子接受层，然后通过加压工艺对光敏层和电子接受层进行图案化。 构成：将第一电极材料（20）涂覆在基底（10）上。 光敏层（40）涂覆在第一电极材料上。 电子受体层（50）涂覆在光敏层上。 使用模具（60）对基板的上侧和下侧以及电子接受层进行加压。 第二电极材料涂覆在电子接受层上。
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