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公开(公告)号：JPWO2016159329A1
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：JP2017510241
申请日：2016-03-31
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L53/00 , C08F8/00 , C08F297/02 , C08J5/18 , H01L21/027
CPC classification number: C08F297/02 , C08J5/18 , C08L53/00 , H01L21/027
Abstract: 本発明のパターン形成用組成物は、自己組織化により相分離構造を形成するブロック共重合体、及び溶媒を含有するパターン形成用組成物であって、上記ブロック共重合体が、置換又は非置換のスチレン単位からなる第1ブロックと、(メタ)アクリル酸エステル単位からなる第2ブロックと、主鎖の少なくとも一方の末端に結合する第1基とを有し、上記第1基が、主鎖側結合手にメチル基を結合させたときにClogPが−1以上3以下の化合物を形成する1価の基であることを特徴とする。上記第1基が末端停止剤によって形成されるとよく、この場合、上記末端停止剤のClogPとしては、−1.5以上4.0以下が好ましい。上記第1基の主鎖側結合手にメチル基を結合させたときに形成する化合物のClogPとしては、2.5以下が好ましい。上記第1基の炭素数としては、1以上20以下が好ましい。上記第1基のヘテロ原子数としては、1以上5以下が好ましい。
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公开(公告)号：JP2017173420A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016056981
申请日：2016-03-22
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】250nm以下の波長を有するEUV光等をパターン露光光として用いた場合において優れた感度を発揮することが可能な感放射線性組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体と、露光により250nmを超える波長を有する第1放射線を吸収する増感体を発生する増感体前駆体と、金属含有化合物と、溶媒とを含有し、上記増感体前駆体が、下記(a)及び(b)成分の少なくとも一方を含む感放射線性組成物である。(a)250nm以下の波長を有する第2放射線を照射し上記第1放射線を照射しない場合に酸と上記増感体とを発生する感放射線性酸−増感体発生体 (b)上記第2放射線を照射し上記第1放射線を放射しない場合に上記増感体を発生する感放射線性増感体発生体 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6202000B2
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：JP2014536861
申请日：2013-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C309/65 , C07C381/12 , C07C309/66 , C08F20/16 , G03F7/004
CPC classification number: C07C309/65 , C07C309/66 , C07C381/12 , C07D307/79 , C07D307/91 , C07D333/76 , C08F20/16 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C07C2602/42
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公开(公告)号：JP2017054047A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015178977
申请日：2015-09-10
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】感度及びナノエッジラフネス性能に優れる感放射線性樹脂組成物及びこの感放射線性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸の作用により現像液への溶解性が変化する第1成分、放射線の作用により酸を発生する第2成分、及び式(1)で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、Ar 1 は、炭素数6〜20の(m+1)価の芳香族炭化水素基である。Ar 2 は、炭素数6〜20の(n+1)価の芳香族炭化水素基である。R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、スルファニル基、アミノ基又は炭素数1〜20の1価の有機基である。1のR 1 とAr 2 の芳香族炭化水素基の芳香環を構成する炭素原子とが互いに合わせられ、R 1 が有する−O−、−S−、−NR’−又は炭素数1〜10の有機基を介して環を形成していてもよい。R 3 は、酸の作用により解離する基である。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016192448A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2015070408
申请日：2015-03-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , C08F297/00 , H01L21/027
CPC classification number: C08F293/00 , C09D153/00 , H01L21/3081
Abstract: 【課題】ピッチが微細であり欠陥の少ない規則配列構造を有する自己組織化膜を形成でき、ひいては微細かつ良好な形状のパターンを形成することができるパターン形成用組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、自己組織化により相分離構造を形成するブロック共重合体、及び溶媒を含有するパターン形成用組成物であって、上記ブロック共重合体が、ケイ素原子を含む第1繰り返し単位からなる第1ブロックと、ケイ素原子を含まない第2繰り返し単位からなる第2ブロックと、主鎖の少なくとも一方の末端に結合し、かつ第1ブロックに連結する第1基とを有し、第1基が、メチル基を結合させたときにClogPが2.4以上の化合物を形成する1価の基であることを特徴とするパターン形成用組成物である。上記第1基が、炭素数3〜25の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜25、かつ環を構成するヘテロ原子の数が1の1価の芳香族複素環基であるとよい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于图案形成的组合物，其能够形成具有细小间距的规则阵列结构和减少的缺陷的自组织膜，并且能够形成精细和令人满意的形状的图案。解决方案： 本发明涉及通过自组织形成相分离结构的嵌段共聚物和含有溶剂的图案形成用组合物。 嵌段共聚物包括：由含有硅原子的第一重复单元形成的第一嵌段; 由不含硅原子的第二重复单元形成的第二块; 以及第一组，其结合到主链的至少一端并且耦合到第一块。 图案形成用组合物的特征在于，第一基团是当键合甲基时形成ClogP为2.4以上的化合物的一价基团。 优选第一组为碳数为3〜25的一价烃基或碳数为3〜25的一价杂芳环，构成环的杂原子数为1.SELECTED 图4：
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公开(公告)号：JP5994788B2
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：JP2013542944
申请日：2012-11-01
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F297/02 , H01L21/027 , G03F7/40 , C08L53/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B81C1/00031 , C08F297/026 , C08L53/005 , G03F7/0035 , H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/32139 , B81C2201/0149
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公开(公告)号：JP2016107211A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014247474
申请日：2014-12-05
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00 , B05D7/24
CPC classification number: B05D7/24 , B82Y40/00 , H01L21/027
Abstract: 【課題】規則配列構造の欠陥の少ない自己組織化膜を形成することができる自己組織化膜の形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、自己組織化により相分離構造を形成しうる1種又は複数種の第1重合体と溶媒とを含有する自己組織化膜形成用組成物により、基板上に液膜を形成する工程を備え、溶媒が、1気圧における沸点が150℃以上300℃以下、かつ25℃における表面張力が29mN/m以上60mN/m以下の第1溶媒を含み、溶媒における第1溶媒の含有量が、50質量%以上の自己組織化膜の形成方法である。液膜を静置する工程、及び液膜を加熱する工程をさらに備え、加熱工程を静置工程で行うとよい。溶媒における第1溶媒の含有量としては、70質量%以上が好ましい。自己組織化膜形成用組成物が、第1重合体よりも表面自由エネルギーが小さい第2重合体をさらに含有し、第2重合体が自己組織化膜の上方に偏在するとよい。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够以规则排列的结构形成具有有限检测的自组织膜的自组织膜形成方法。解决方案：自组织膜形成方法包括以下步骤：在 通过用于形成含有能够通过自组织形成相分离结构的一种或多种第一聚合物和溶剂的自组织膜的组合物的底物，所述溶剂包括沸点为1atm的第一溶剂设定为 150℃以上至300℃以下，25℃下的表面张力设定为29mN / m以上至60mN / m以下，溶剂中的第一溶剂的含量等于或大于 50质量％。 该方法还包括静电放置液膜的步骤和加热液膜的步骤，并且加热步骤优选在静电放置步骤中进行。 溶剂中的第一溶剂的含量优选为70质量％以上。 用于形成自组织膜的组合物还包含具有比第一聚合物的表面自由能小的第二聚合物，并且第二聚合物不均匀地分布在自组织膜上方。选择图：图2
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公开(公告)号：JP2015180931A
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：JP2015043018
申请日：2015-03-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F297/02 , G03F7/40 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0002
Abstract: 【課題】十分に微細かつ断面形状の矩形性に優れるパターンを形成することができ塗布性に優れるパターン形成用組成物及びパターン形成方法の提供。 【解決手段】自己組織化により相分離構造を形成し得る1種又は複数種の重合体を含有するパターン形成用組成物であって、エネルギー付与により酸を発生する酸発生体を含有し、上記1種又は複数種の重合体のうちの少なくとも1種が側鎖に酸解離性基を有することを特徴とする。上記1種の重合体を含有しその重合体がブロック共重合体であるとよい。上記ブロック共重合体がジブロック共重合体又はトリブロック共重合体であるとよい。上記酸解離性基が上記ブロック共重合体中のいずれか1種のブロックのみに含まれるとよい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于图案形成的组合物和具有优异的涂布性能的图案形成方法，其能够使图案足够细并且具有矩形性优异的截面形状。解决方案：用于 图案形成包括能够通过定向自组装形成相分离结构的一种或多种聚合物，并且还包括在施加能量时产生酸的酸产生剂，其中所述一种或多种聚合物 ）包括侧链中的酸不稳定基团。 优选地，用于图案形成的组合物中包含的一种聚合物是嵌段共聚物。 优选地，嵌段共聚物是二嵌段共聚物或三嵌段共聚物。 优选地，酸不稳定基团仅包含在嵌段共聚物中的一个嵌段中。
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公开(公告)号：JP2015170723A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014044442
申请日：2014-03-06
Applicant: JSR株式会社
IPC: B82B3/00 , B05D7/24 , B05D3/10 , C08L101/00 , H01L21/027
CPC classification number: C09D153/00 , C08F297/026 , G03F7/0002
Abstract: 【課題】十分に微細なパターンを簡便に形成することができるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、ブロック共重合体である第1重合体と、このブロック共重合体よりも表面自由エネルギーが小さい第2重合体とを含有する組成物を用い、上記第2重合体が表層領域に偏在する塗膜を形成する工程、上記塗膜の少なくとも一部を、略垂直方向に相分離させることにより自己組織化膜とする工程、及び上記自己組織化膜の一部の相を除去する工程を備えるパターン形成方法である。上記自己組織化膜は上記第1重合体で構成されることが好ましい。上記第1重合体の表面自由エネルギーから上記第2重合体の表面自由エネルギーを減じた値としては、1mN/m以上20mN/m以下が好ましい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够方便地形成足够精细图案的图案化方法。解决方案：图案化方法包括通过使用组合物形成第二聚合物不均匀地分布在表面层区域中的涂膜的步骤 含有嵌段共聚物的第一聚合物，所述第二聚合物的表面自由能小于嵌段共聚物的表面自由能，通过在大致垂直方向上的相分离来自组织所述涂膜的至少一部分的步骤，以及步骤 用于去除自组织膜的部分相。 自组织膜优选由第一共聚物组成。 通过从第一聚合物减去第二聚合物的表面自由能获得的值优选为1-20mN / m。
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