OPTICAL ANALYSIS SYSTEM AND POSITIONING APPARATUS THEREFOR
    71.
    发明公开
    OPTICAL ANALYSIS SYSTEM AND POSITIONING APPARATUS THEREFOR 失效
    具有定位光分析装置。

    公开(公告)号:EP0569577A1

    公开(公告)日:1993-11-18

    申请号:EP92924774.0

    申请日:1992-12-02

    Abstract: Système de traitement ou d'analyse optique s'utilisant, par exemple, dans l'analyse de taches microscopiques de matériaux au moyen de leur effet exercé sur un faisceau lumineux polarisé très fin (par exemple FPIA). Dans l'analyse de taches multiples, les échantillons de taches sont disposés sur un substrat en fonction d'un rapport prédéterminé avec une configuration optique, des barres, des chevrons, etc. Le substrat (1) est monté dans le trajet du faisceau fixe et focalisé avec trois degrés de liberté de déplacement. Une caméra vidéo (9) enregistre avec précision la configuration optique et commande le montage du substrat, de façon à positionner une tache d'échantillon sélectionnée au niveau du foyer du faisceau. Ceci permet de réaliser des analyses d'échantillons multiples et rapides.

    Automatic structure analyzing/processing apparatus
    72.
    发明公开
    Automatic structure analyzing/processing apparatus 失效
    Automatische Vorrichtung zur Analyze / Behandlung einer Struktur。

    公开(公告)号:EP0353504A2

    公开(公告)日:1990-02-07

    申请号:EP89112714.4

    申请日:1989-07-12

    CPC classification number: G02B21/002 G01N15/1475 G01N2021/8887 G01N2201/103

    Abstract: An automatic structure analyzing/processing apparatus for surface structure of material includes a structure observing device (7) for observing structure of a surface of material to produce an electrical image signal thereof, a sample stage (4) disposed opposite to the observing means, an image processing device (8) for converting the image signal from the structure observing device to digital signal and expanding or contracting a desired image reproduced from a memory means or combining a plurality of images reproduced from the memory means to produce an image signal, the memory device storing the digital signal processed by the image processing device, and a display device (9) for displaying the image signal produced from the image processing device as an image, whereby the structure of the surface of material is stored in the memory as the image and examination of the structure can be made readily in a short time.

    Abstract translation: 用于材料表面结构的自动结构分析/处理装置包括:用于观察材料表面的结构以产生其电图像信号的结构观察装置(7),与观察装置相对设置的样品台(4), 图像处理装置(8),用于将来自结构观察装置的图像信号转换为数字信号,并扩展或缩小从存储装置再现的所需图像,或组合从存储装置再现的多个图像,以产生图像信号;存储器 存储由图像处理装置处理的数字信号的装置,以及用于将从图像处理装置产生的图像信号显示为图像的显示装置(9),由此将材料表面的结构作为图像存储在存储器中 可以在短时间内容易地进行结构的检查。

    光学ユニット、蛍光検出装置、および、蛍光検出方法
    74.
    发明申请
    光学ユニット、蛍光検出装置、および、蛍光検出方法 审中-公开
    光学单元,荧光检测装置和荧光检测方法

    公开(公告)号:WO2013140924A1

    公开(公告)日:2013-09-26

    申请号:PCT/JP2013/054144

    申请日:2013-02-20

    Abstract: 対物レンズからサンプルまでの距離が異なっても上記サンプルからの光の分布を精度良く検出可能にする。 対物レンズからの光を平行光にする第1レンズ23を、平面32aの中心部に凹曲面32cが形成された凹レンズ部32と、平面33bの周囲に凸曲面33cが形成された凸レンズ部33とで構成する。さらに、平面33bと凹曲面32cとを通って光を発散させる第1,第2領域と、凸曲面33cと凹曲面32cとを通って光を集光させる第3領域とを設ける。そして、サンプルを二次元電気泳動用基板中に封入してサンプル台に載置した場合は、上記対物レンズの側面で全反射された光を第2領域に入射させる一方、サンプルをサンプル台上に直接載置した場合は、上記光を第3領域に入射させる。その結果、何れの場合にも、第1レンズ23から出射される光dの各光線は、互いに略平行であって且つ光軸に対しても略平行になる。

    Abstract translation: 通过本发明,即使当从物镜到样品的距离变化时,可以高精度地检测来自样品的光的分布。 用于将物镜形成平行光的第一透镜(23)由在平坦表面(32a)的中心形成有凹面(32c)的凹透镜部(32)构成, 在平面(33b)的周围形成有凸面(33c)的凸透镜部(33)。 进一步提供使光分散通过平坦表面(33b)和凹面(32c)的第一和第二区域,以及用于通过凸面(33c)和凹面(32c)聚焦光的第三区域。 当将样品密封在用于二维电泳的基底中并安装在样品台上时,由物镜的侧表面全反射的光入射到第二区域上,并且当样品直接安装在样品上时 舞台上,灯光发生在第三个地区。 结果,在任何情况下,从第一透镜(23)发射的光束(d)基本上彼此平行并且基本上平行于光轴。

    SURFACE SCANNING INSPECTION SYSTEM WITH INDEPENDENTLY ADJUSTABLE SCAN PITCH
    75.
    发明申请
    SURFACE SCANNING INSPECTION SYSTEM WITH INDEPENDENTLY ADJUSTABLE SCAN PITCH 审中-公开
    具有独立可调节扫描间距的表面扫描检测系统

    公开(公告)号:WO2012122283A3

    公开(公告)日:2012-12-27

    申请号:PCT/US2012028092

    申请日:2012-03-07

    Abstract: A surface scanning wafer inspection system with independently adjustable scan pitch and associated methods of operation are presented. The scan pitch may be adjusted independently from an illumination area on the surface of a wafer. In some embodiments, scan pitch is adjusted while the illumination area remains constant. For example, defect sensitivity is adjusted by adjusting the rate of translation of a wafer relative to the rate of rotation of the wafer without additional optical adjustments. In some examples, the scan pitch is adjusted to achieve a desired defect sensitivity over an entire wafer. In other examples, the scan pitch is adjusted during wafer inspection to optimize defect sensitivity and throughput. In other examples, the scan pitch is adjusted to maximize defect sensitivity within the damage limit of a wafer under inspection.

    Abstract translation: 介绍了一种具有独立可调节扫描间距的表面扫描晶片检测系统及相关操作方法。 扫描间距可以独立于晶片表面上的照射区域进行调整。 在一些实施例中,在照明区域保持恒定的同时调整扫描间距。 例如,通过调整晶片相对于晶片的旋转速率的平移速率而无需额外的光学调整来调整缺陷灵敏度。 在一些示例中,调整扫描间距以在整个晶片上实现期望的缺陷灵敏度。 在其他示例中,在晶片检查期间调整扫描间距以优化缺陷灵敏度和产量。 在其他示例中,调整扫描间距以使得在检查下的晶片的损伤限度内的缺陷灵敏度最大化。

    SURFACE SCANNING INSPECTION SYSTEM WITH INDEPENDENTLY ADJUSTABLE SCAN PITCH
    76.
    发明申请
    SURFACE SCANNING INSPECTION SYSTEM WITH INDEPENDENTLY ADJUSTABLE SCAN PITCH 审中-公开
    具有独立可调扫描仪的表面扫描检测系统

    公开(公告)号:WO2012122283A2

    公开(公告)日:2012-09-13

    申请号:PCT/US2012/028092

    申请日:2012-03-07

    Abstract: A surface scanning wafer inspection system with independently adjustable scan pitch and associated methods of operation are presented. The scan pitch may be adjusted independently from an illumination area on the surface of a wafer. In some embodiments, scan pitch is adjusted while the illumination area remains constant. For example, defect sensitivity is adjusted by adjusting the rate of translation of a wafer relative to the rate of rotation of the wafer without additional optical adjustments. In some examples, the scan pitch is adjusted to achieve a desired defect sensitivity over an entire wafer. In other examples, the scan pitch is adjusted during wafer inspection to optimize defect sensitivity and throughput. In other examples, the scan pitch is adjusted to maximize defect sensitivity within the damage limit of a wafer under inspection.

    Abstract translation: 提出了具有独立可调的扫描间距和相关操作方法的表面扫描晶片检查系统。 可以独立于晶片表面上的照明区域来调整扫描间距。 在一些实施例中,在照明区域保持恒定的同时调整扫描间距。 例如,通过调整晶片相对于晶片的旋转速率的平移速率来调整缺陷灵敏度,而无需额外的光学调整。 在一些示例中,调整扫描间距以在整个晶片上实现期望的缺陷灵敏度。 在其他示例中,在晶片检查期间调整扫描间距以优化缺陷灵敏度和产量。 在其他示例中,调整扫描间距以使在检查的晶片的损伤极限内的缺陷灵敏度最大化。

    OPTICAL FIBER CABLE TAKE-UP MECHANISM FOR SCANNING SENSORS
    78.
    发明申请
    OPTICAL FIBER CABLE TAKE-UP MECHANISM FOR SCANNING SENSORS 审中-公开
    用于扫描传感器的光纤电缆采用机构

    公开(公告)号:WO2006055926A1

    公开(公告)日:2006-05-26

    申请号:PCT/US2005/042214

    申请日:2005-11-21

    Abstract: A scanning system includes a cable take-up mechanism that uses a series of pulleys that determine the bend diameters of a scanning system. The mechanism is particularly suited for a spectrometric, e.g., infrared, scanning system where moving scanner or sensor head essentially houses only the optical elements while essentially of all the other electronic and optical components associated with the measurement are housed in an easily accessible compartment that is remote from the moving scanner head. Light is transmitted through optical fiber cables. The cable take-up mechanism maintains the fiber optic cable at essentially constant total bend length and bend diameter thereby minimizing any dynamic changes to spectral bend losses as the optical head is scanned. The light weight construction of the sensor head further reduces vibrations associated with the moving scanner head.

    Abstract translation: 扫描系统包括使用确定扫描系统的弯曲直径的一系列滑轮的电缆卷绕机构。 该机构特别适用于光谱测量,例如红外线扫描系统,其中移动扫描器或传感器头部基本上仅容纳光学元件,而基本上与测量相关联的所有其它电子和光学部件基本上容纳在易于访问的隔间中, 远离移动的扫描仪头。 光通过光缆传输。 电缆吸收机构将光纤电缆保持在基本上恒定的总弯曲长度和弯曲直径,从而最小化当光学头被扫描时光谱弯曲损耗的任何动态变化。 传感器头的轻量化结构进一步降低与移动的扫描头相关联的振动。

    CAVITY ENHANCED OPTICAL MICROSCOPY
    80.
    发明公开

    公开(公告)号:US20240044788A1

    公开(公告)日:2024-02-08

    申请号:US18229087

    申请日:2023-08-01

    Inventor: Thomas Huemmer

    Abstract: According to a method for cavity enhanced microscopy, a sample is arranged on a sample carrier of an optical cavity, which is formed by a pair of opposing mirrors. A description defining a lateral motion of the sample during a predefined time interval and a variation of the cavity length during the time interval in a temporally synchronized manner is stored and an actuator system is triggered to move the sample carrier and/or at least one mirror of the pair of mirrors to effect the lateral motion of the sample with respect to the cavity and the variation of the cavity length according to the description. Light is introduced into the cavity and transmitted portions and/or reflected portions and/or scattered portions and/or emitted portions are detected to generate a sensor dataset.

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