公开(公告)号：JP2004186338A

公开(公告)日：2004-07-02

申请号：JP2002350438

申请日：2002-12-02

Applicant: Watanabe Shoko:Kk ,  株式会社渡辺商行

Inventor： FUKAGAWA MITSURU

IPC: C23C16/448 ,  F16K27/00 ,  H01L21/31

CPC classification number: F16K27/003 ,  Y10T137/87249

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mono-block valve which can make it possible to clean its inside and a raw material solution supply line easily and in a short time, and to provide the mono-block valve which can extremely eliminate the residual of by-products to a reaction product. SOLUTION: The retaining portion of the inside of the valve is reduced to make the internal space small. A constituent member such as a liquid material supply tank or a liquid material carburetor is directly connected to the valve with a metallic seal member to reduce the internal space of piping. As a result, it becomes possible to clean the inside of the mono-block and the raw material solution supply line easily and in a shot time. COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

公开(公告)号：JP2018053368A

公开(公告)日：2018-04-05

申请号：JP2017207510

申请日：2017-10-26

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  都田 昌之

Inventor： 梅田 優 ,  都田 昌之

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/448

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/46

Abstract: 【課題】気化器と成膜室との間に設置された液体材料気化ガス供給配管にて通過する間に、前記液体材料気化ガスが完全に気化されて成膜室内へ供給される成膜装置の提供。 【解決手段】成膜用液体材料供給系と、液体材料をキャリアガスと混合して気化させる気化器30aと、気化器から出る液体材料気化ガスを基板42aに流して膜を成膜させる成膜室40aと、気化器からのガスを、成膜室に供給する液体材料気化ガス供給配管50aとで構成される成膜装置101であって、液体材料気化ガス供給配管50aが、らせん状形体で形成され、らせん状形体での回転軸を、床平面に対して垂直方向に設定された成膜装置101。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2016191155A

公开(公告)日：2016-11-10

申请号：JP2016127077

申请日：2016-06-27

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  都田 昌之

Inventor： 梅田 優 ,  都田 昌之

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/448

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 【課題】 複数の薄膜形成原料溶液が、安定に、確実に分散部本体内にて、確実に分離されてキャリアガスによって運ばれ、後工程の気化部にて、前記複数の薄膜形成原料溶液がそれぞれ安定に気化が行われる気化器および気化器に用いられるセンターロッド、ならびにキャリアガスに同伴される原料などを気化する方法を得る。 【解決手段】 散部本体の中心軸方向にキャリアガス導入穴が形成され、前記キャリアガス導入穴にセンターロッド10が挿入されて、前記キャリアガス導入穴の内壁と前記センタロッドの外壁との間に形成された隙間によりガス通路が形成され、前記分散部本体の前記ガス通路の中途部の複数個所に形成された、薄膜形成材料を供給する薄膜形成材料供給部が配置され、前記センターロッドは、該センターロッドの長手方向にシール部材11a,11bが配置されていることを特徴とする気化器とする。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种蒸发器，使得多个薄膜形成原料溶液在分散体体中稳定可靠地分离，然后携带载气，并且多个薄膜形成原料 溶液在用于后处理的蒸发部分，用于蒸发器的中心棒以及蒸发由载气夹带的原料的方法分别稳定蒸发。蒸发器的特征在于：载气引入孔 在分散体主体的中心轴的方向上形成; 中心杆10插入载气引入孔中; 气体通道由形成在载气引入孔的内壁和中心杆的外壁之间的间隙形成; 布置薄膜形成材料供应部分，其形成在分散体主体的气体通道的半部分的多个位置处，并供应薄膜形成材料; 并且中心杆具有沿中心杆的较长方向布置的密封构件11a，11b。选择的图示：图1

公开(公告)号：JP5933233B2

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：JP2011255083

申请日：2011-11-22

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  都田 昌之

Inventor： 都田 昌之 ,  梅田 優

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23C16/448 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/4481

公开(公告)号：JPWO2013183660A1

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：JP2014520023

申请日：2013-06-05

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  都田 昌之 ,  昌之 都田

Inventor： 梅田　優 ,  優 梅田 ,  都田　昌之 ,  昌之 都田

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/46

Abstract: 気化器にて、まだ完全に気化されていない液体材料気化ガスを、気化器と成膜室との間に設置された液体材料気化ガス供給配管にて通過する間に、前記液体材料気化ガスが完全に気化されて成膜室内へ供給される成膜装置を得る。成膜用液体材料供給系と、前記液体材料をキャリアガスと混合して気化させる気化器30aと、前記気化器から出る液体材料気化ガスを基板に流して膜を成膜させる成膜室と、前記気化器からのガスを、前記成膜室に供給する液体材料気化ガス供給配管50aとで構成される成膜装置であって、前記液体材料気化ガス供給配管が、らせん状形体で形成され、らせん状形体での回転軸を、床平面に対して垂直方向に設定されたことを特徴とする成膜装置とする。

Abstract translation: 在汽化器中，液体材料汽化还未被完全汽化气体，同时由安装液体材料汽化气体供给管使所述汽化器和所述成膜室之间，液体材料汽化气体 获得的成膜装置要被提供到沉积室而完全蒸发。 用于沉积液体材料供应系统，该蒸发的液体材料的汽化器30A是与载气混合，并沉积室用于形成由从蒸发器供给的液体材料气化气体到衬底的膜， 来自蒸发器的气体，用于供给成膜室中的液体材料气化气体供给管50a的构成的成膜装置，形成为螺旋形式的液体材料气化气体供给管， 螺旋形式的旋转轴，一个成膜装置，其特征在于它是在一个方向上设置成垂直于地板面。

公开(公告)号：JP5614935B2

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：JP2009023063

申请日：2009-02-03

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  都田 昌之 ,  昌之 都田

Inventor： 梅田　優 ,  優 梅田 ,  都田　昌之 ,  昌之 都田

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31

CPC classification number: B01B1/005 ,  C23C16/4481

公开(公告)号：JP5427344B2

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：JP2007136872

申请日：2007-05-23

Applicant: 株式会社渡辺商行 ,  昌之 都田

Inventor： 昌之 都田 ,  昌樹 楠原 ,  優 梅田 ,  満 深川

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/448

CPC classification number: C23C16/407 ,  C23C16/4486

Abstract: Because an evaporating apparatus for use in an MOCVD film deposition system has a structure in which a plurality of gas passages brings in a gas from the upper direction, the apparatus has a difficulty to position a jet nozzle, and the apparatus is incapable of accurately controlling the pressure and flow rate of a carrier gas mixed with a raw material solution to be issued into an evaporating unit, and it is thus difficult to highly accurately control the composition of MOCVD films. A plurality of gas passages is arranged on a flat, disk-shaped plate. With this configuration, the accurate positioning of the jet nozzle can be made easier, and the composition of MOCVD films can be controlled highly accurately.

Abstract translation: 由于用于MOCVD膜沉积系统的蒸发装置具有多个气体通道从上方引入气体的结构，所以该装置难以定位喷嘴，并且该装置不能精确地控制 与要发放到蒸发单元中的原料溶液混合的载气的压力和流速，因此难以高精度地控制MOCVD膜的组成。 多个气体通道设置在平坦的盘形板上。 利用这种结构，可以使喷嘴的精确定位变得更容易，并且可以高精度地控制MOCVD膜的组成。

公开(公告)号：JP2013258415A

公开(公告)日：2013-12-26

申请号：JP2013153781

申请日：2013-07-24

Applicant: Watanabe Shoko:Kk ,  株式会社渡辺商行 ,  Masayuki Toda ,  昌之 都田

Inventor： TODA MASAYUKI ,  KUSUHARA MASAKI ,  UMEDA MASARU ,  FUKAGAWA MITSURU

IPC: H01L21/365 ,  C23C16/448 ,  H01L21/316

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that positioning of an injection nozzle is difficult because a vaporizer used in an MOCVD deposition device has structure that a plurality of gas channels introduce gas from above, and thereby pressure and a flow rate of carrier gas mixed with material solution to be blown out to a vaporizing portion cannot be controlled correctly, and consequently, precise control of composition of an MOCVD film is difficult.SOLUTION: A vaporizer comprises a plurality of gas channels arranged on a flat disc-like substrate. Thereby, precise positioning of an injection nozzle can be done easily and composition of an MOCVD film can be controlled with high accuracy.

Abstract translation: 要解决的问题：为了解决由于MOCVD沉积装置中使用的蒸发器具有多个气体通道从上方引入气体的结构，并且由此压力和载气的流量混合的结构，难以定位喷嘴的难题 不能正确地控制被吹出到蒸发部分的物质溶液，因此难以精确控制MOCVD膜的组成。溶液：蒸发器包括布置在平板状基板上的多个气体通道。 因此，可以容易地进行注射喷嘴的精确定位，并且可以高精度地控制MOCVD膜的组成。

公开(公告)号：JP5336708B2

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：JP2007135982

申请日：2007-05-22

Applicant: 株式会社渡辺商行

Inventor： 晃 植原 ,  昌之 都田 ,  優 梅田

IPC: B65G51/03

CPC classification number: B65G51/03 ,  B65G2201/022

Abstract: A levitation transportation device that contributes to a reduction in weight of a device body and that has increased strength. A plate-shaped body is transported in a predetermined direction while being levitated by pressurized gas jetted from the tips of nozzles (22d) formed on nozzle members (22) arranged on the device body. Each nozzle member (22) exposed on a top plate (31) having a honeycomb pattern is formed as a circular column body rotatable within a horizontal plane. Further, the outer wall of the nozzle member (22) is placed to be in contact with the inner wall of a honeycomb shape, and this prevents displacement between the nozzle members during transportation etc. of the device body.

公开(公告)号：JP5161471B2

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：JP2007082735

申请日：2007-03-27

Applicant: 隆 杉野 ,  株式会社渡辺商行

Inventor： 隆 杉野 ,  秀充 青木 ,  千春 木村 ,  信明 藤原 ,  昭彦 増井

IPC: G01N27/02 ,  G01N27/447