公开(公告)号：KR1019970076163A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960016942

申请日：1996-05-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한

IPC: G06F1/00

Abstract: 본 발명은 프린터의 전원을 컴퓨터 시스템에서 자동으로 오피시킬 수 있도록 하는 것이다.
본 발명은 사용자가 컴퓨터 시스템을 조작하여 프린터의 전원 오프를 명령함에 따라 컴퓨터 시스템에서 전원 오프 제어신호가 출력되어 프린터로 전송되고, 프린터는 전송되는 전원 오프 제어신호에 따라 프린터의 각 부위에 공급되는 전원을 차단시키게 한다.

公开(公告)号：KR1019960033767A

公开(公告)日：1996-10-22

申请号：KR1019950005257

申请日：1995-03-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한

IPC: B41J2/305

Abstract: 본 발명은 잉크 제트 프린터에 있어서의 잉크흡입량 조절방법에 관한 것이다.
본 발명은 사용자에 의해 기인자된 인쇄상태를 파악하는 단계; 상기 파악상태에 따라 잉크 흡입량을 결정하는 단계; 및 상기 결정에 의해 헤드로부터 잉크를 흡입하는 단계를 포함하여 된 점에 그 특징이 있다.
따라서, 흡입용 실린더를 구동시킴에 있어서, 노즐의 막힘정도에 따라 소정 거리만큼만 피스톤을 이동시켜 잉크를 흡입하게 되므로, 잉크의 불필요한 소모를 방지할 수 있으며, 동시에 그와 같이 정해진 지점까지만 피스톤이 이동하게 되므로 흡입 시간을 단축시킬 수 있다. 따라서, 잉크 카트리지의 수명을 연장시킬 수 있고, 노즐막힘을 정상상태로 복귀시키는 데 소요되는 시간이 단축됨에 따라 업무의 능률을 한층 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019910014238A

公开(公告)日：1991-08-31

申请号：KR1019900000078

申请日：1990-01-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한

IPC: B41J29/42

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR2019870009878U

公开(公告)日：1987-07-09

申请号：KR2019850017525

申请日：1985-12-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한

IPC: B41J33/00

公开(公告)号：KR102029645B1

公开(公告)日：2019-11-18

申请号：KR1020130004046

申请日：2013-01-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한 ,  조후성 ,  김철홍 ,  박승학

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/42 ,  H01L27/115 ,  H01L21/8247

公开(公告)号：KR1020170136797A

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020160068774

申请日：2016-06-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박미지 ,  서경화 ,  윤경수 ,  이재한

IPC: G06T3/00 ,  H04N5/232 ,  H04N5/262

CPC classification number: G06T3/00 ,  H04N5/232 ,  H04N5/262

Abstract: 본발명의실시예는중심점을기준으로적어도일부가구의일부형상으로마련된구형컨텐츠를저장하는메모리, 상기구형컨텐츠를출력하는디스플레이, 상기메모리및 상기디스플레이와전기적으로연결되는프로세서를포함하고, 상기프로세서는사용자입력에대응하여, 상기구형컨텐츠의중심점에지정된패치이미지를배치하도록설정된전자장치를개시한다. 이외에도명세서를통해파악되는다양한실시예가가능하다.

Abstract translation: 本发明的实施例包括显示器，所述存储器和所述处理器，以及耦合到所述显示器和电到至少所述存储器的处理器，以及输出该矩形内容为存储由相对家具的所述部分的一个部分的形状设置在中心点旧内容 对应于用户输入，电子设备被设置为放置在球形内容的中心点处指定的补丁图像。 通过说明书已知的各种实施例也是可能的。

公开(公告)号：KR3009210900000S

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：KR3020170013985

申请日：2017-03-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Designer： 기대홍 ,  김준석 ,  유석현 ,  이호영 ,  정수진 ,  최나리 ,  최준호 ,  최진호 ,  황호익 ,  윤경수 ,  이재한

公开(公告)号：KR1020160069596A

公开(公告)日：2016-06-17

申请号：KR1020140175184

申请日：2014-12-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한 ,  정원석 ,  주경중

IPC: H01L27/115

CPC classification number: H01L27/11565 ,  H01L27/11512 ,  H01L27/11524 ,  H01L27/11556 ,  H01L27/1157 ,  H01L27/11573 ,  H01L27/11575 ,  H01L27/11582

Abstract: 본발명은반도체소자및 그제조방법에관한것으로, 셀영역과주변영역을갖는기판, 상기기판의셀 영역상에게이트들이적층된, 그리고적어도하나의계단형측면을갖는게이트스택, 상기게이트스택을관통하며메모리막으로둘러싸인채널, 그리고상기게이트스택으로부터이격되고, 상기기판상에이격배치된적어도두 개의더미패턴들을포함한다.

Abstract translation: 半导体器件及其制造方法技术领域本发明涉及半导体器件及其制造方法。 半导体器件包括：具有单元区域和周围区域的衬底; 具有堆叠在所述基板的单元区域上的栅极的栅极堆叠，其中所述栅极堆叠具有至少一个台阶侧; 通道，其穿过栅极堆叠并被记忆膜包围; 以及至少两个与栅极堆叠分离并且分别布置在基板上的虚拟图案。 因此，半导体器件可以提高产量。

公开(公告)号：KR1020150142386A

公开(公告)日：2015-12-22

申请号：KR1020140071105

申请日：2014-06-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박민기 ,  이재한

IPC: G03B17/02

CPC classification number: H04N5/2252 ,  H04M1/0264 ,  H04N5/2257 ,  H05K9/0067

Abstract: 본발명의다양한실시예들에따른카메라장치는, 카메라장치에있어서, 카메라어셈블리를실장하는카메라하우징과, 카메라하우징을커버하는데코부및 카메라하우징의주변둘레를따라구비되고, 데코부를고정하는고정부를포함하고, 고정부에는상기데코부를통해유입되는정전기를상기카메라하우징에근접하게실장되는방전모듈로이동되는경로부(discharging path)가포함될수 있다. 또한, 다양한다른실시예가가능할것이다.

Abstract translation: 根据本发明的各种实施例，相机装置包括：其中安装相机组件的相机外壳; 覆盖相机外壳的装饰单元; 以及沿着相机外壳的周围准备的固定单元，并且固定装饰单元。 通过装饰单元引入的静电通过其移动到邻近照相机外壳安装的放电模块的放电路径可被包括在定影单元中。 还有其他可能的实施例。

公开(公告)号：KR1020140091962A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：KR1020130004046

申请日：2013-01-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이재한 ,  조후성 ,  김철홍 ,  박승학

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/42 ,  H01L27/115 ,  H01L21/8247

CPC classification number: H01L22/12 ,  G03F1/70 ,  G03F1/84 ,  H01L21/31144 ,  H01L27/11556 ,  H01L27/11582 ,  H01L21/0273 ,  G03F1/42 ,  H01L27/112 ,  H01L27/11521 ,  H01L27/11568

Abstract: Provided are a method of fabricating a customized mask and a method of fabricating a semiconductor device using a customized mask. The method of fabricating a customized mask comprises the steps of: forming a first pattern in a mold structure; forming a second pattern in the mold structure having the first pattern using an initial mask; measuring an overlap defect of the first pattern and the second pattern; and fabricating a customized mask by compensating for the position of the pattern of the initial mask according to the measurement result. The position of at least a portion of the pattern of the initial mask is moved in correspondence to a movement direction and a size of at least a portion of the first pattern in order to compensate for the position of the pattern of the initial mask.

Abstract translation: 提供一种制造定制掩模的方法和使用定制掩模制造半导体器件的方法。 制造定制掩模的方法包括以下步骤：在模具结构中形成第一图案; 在具有第一图案的模具结构中使用初始掩模形成第二图案; 测量所述第一图案和所述第二图案的重叠缺陷; 并通过根据测量结果补偿初始掩模的图案的位置来制造定制掩模。 初始掩模的图案的至少一部分的位置对应于第一图案的至少一部分的移动方向和尺寸移动，以便补偿初始掩模的图案的位置。