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公开(公告)号：KR100631186B1
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：KR1020050056802
申请日：2005-06-29
Applicant: 전자부품연구원
IPC: B24B1/04
Abstract: A method of manufacturing an ultrasonic tool for machining a fine hole is provided to manufacture an ultrasonic tool using conventional exposure and electro-forming processes to reduce manufacturing cost. A method of manufacturing an ultrasonic tool for machining a fine hole includes the steps of preparing an exposure specimen(3) by forming photoresist(2) on a metal substrate(1) using a spin coater, irradiating light after aligning an exposure mask(4) to the exposure specimen, electro-forming by inserting a tip manufacturing metal from an exposed surface of the metal substrate, and polishing a surface to remove the photoresist.
Abstract translation: 提供一种制造用于加工细孔的超声波工具的方法，以使用传统的曝光和电成形工艺制造超声波工具以降低制造成本。 一种制造用于加工细孔的超声波工具的方法包括以下步骤：通过使用旋涂机在金属基板（1）上形成光致抗蚀剂（2）来制备曝光试样（3），在对准曝光掩模（4 ）涂布到曝光试样上，通过从金属基材的暴露表面插入尖端制造金属进行电成形，并抛光表面以除去光刻胶。
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公开(公告)号：KR100500390B1
公开(公告)日：2005-07-18
申请号：KR1020030035888
申请日：2003-06-04
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00 , B82Y35/00
Abstract: 본 발명은 병렬 프로브를 이용한 나노 리소그래피 시스템 및 방법에 관한 것으로, X와 Y방향으로 이동하며, 기판 상부에 나노 패턴을 형성할 수 있는 병렬 프로프가 형성되어 있는 프로브 리소 스캐너와; 상기 프로브 리소 스캐너를 제어하는 프로브 리소 컨트롤러와; 상기 나노 패턴 이외 영역의 기판 상부에 자외선을 노광시키는 자외선 노광기와; 상기 자외선 노광기를 제어하는 자외선 리소 컨트롤러로 구성된다.
따라서, 본 발명은 종래의 스캐닝 프로브 리소그래피가 생산성이 낮다는 단점을 해결하고 프로브 리소그래피 고속화를 구현할 수 있으며, 또한 다수의 프로브를 이용한 프로브 리소그래피에서의 프로브들 사이의 경계선 문제를 해결할 수 있는 효과가 있다.
더불어, 본 발명은 나노 소자의 대량생산을 가능하게 하는 생산성을 확보할 수 있으며, 프로브 팁에 의한 저에너지 전류에 의한 리소그래피를 가능하게 함으로써 수 나노미터의 패터닝을 가능하게 하여, 기존의 반도체 성능을 획기적으로 향상시키는 나노 소자의 제조가 가능한 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020050018039A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：KR1020030055860
申请日：2003-08-12
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y35/00
Abstract: PURPOSE: A photolithography method using a parallel probe is provided to perform a high-speed photolithography process and mass-produce a nano device by using a contact leveling probe. CONSTITUTION: A parallel probe array is formed on a wafer. A plurality of contact leveling probes are mutually symmetrically formed in the outer or inner region of the parallel probe array. A voltage is applied to the contact leveling probes and the parallel probe to drive the contact leveling probes and the parallel probe(S110,S120). The wafer having the parallel probe approaches a target wafer on which a photolithography process is to be performed. When one of the contact leveling probes comes in contact with the target wafer, the wafer having the parallel probe is horizontally aligned(S170). When all the contact leveling probes come in contact with the target wafer, the voltage applied to all the probes is removed(S190). After the wafer having the parallel probe approaches the target wafer, a voltage is applied to the parallel probe to perform a photolithography process(S220).
Abstract translation: 目的：提供使用平行探针的光刻方法来执行高速光刻工艺，并通过使用接触平衡探针大量生产纳米器件。 构成：在晶片上形成平行的探针阵列。 多个接触调平探针在平行探针阵列的外部或内部区域中相互对称地形成。 电压被施加到接触调平探针和并联探针上，以驱动接触平衡探针和平行探针（S110，S120）。 具有平行探针的晶片接近要在其上进行光刻工艺的目标晶片。 当接触平衡探针中的一个与目标晶片接触时，具有平行探针的晶片水平对准（S170）。 当所有接触平衡探针与靶晶片接触时，去除所有探针上施加的电压（S190）。 在具有平行探针的晶片接近目标晶片之后，向平行探针施加电压以执行光刻处理（S220）。
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公开(公告)号：KR1020040105046A
公开(公告)日：2004-12-14
申请号：KR1020030035888
申请日：2003-06-04
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00 , B82Y35/00
Abstract: PURPOSE: A system and a method for nano-lithography using parallel probes is provided to reduce the process time for nano-lithography by performing the nano-lithography only in a region for forming a nano-pattern. CONSTITUTION: A system for nano-lithography using parallel probes comprises a probe litho scanner, a probe litho controller(320), an ultraviolet exposure unit(330), and an ultraviolet litho controller(340). The probe litho scanner has a plurality of parallel probes for forming a nano-pattern region. A region for forming a nano-pattern is scanned by the probe litho scanner and the other region except the nano-pattern region is exposed by the ultraviolet exposure unit.
Abstract translation: 目的：提供使用平行探针的纳米光刻的系统和方法，以通过仅在形成纳米图案的区域中进行纳米光刻来减少纳米光刻的处理时间。 构成：使用平行探针的纳米光刻系统包括探针光刻扫描器，探针光栅控制器（320），紫外线曝光单元（330）和紫外光栅控制器（340）。 探针光刻扫描仪具有用于形成纳米图案区域的多个平行探针。 用于形成纳米图案的区域被探测光刻扫描仪扫描，除了纳米图案区域之外的其它区域被紫外线曝光单元暴露。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101807749B1
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：KR1020170119843
申请日：2017-09-18
IPC: G01N27/22
Abstract: 본발명의정전용량형따른습도센서는, 기판, 하부전극, 감습유전체및 상부전극이순차로적층되어, 상기감습유전체의유전율변화에따라전극들사이의정전용량의차이를감지하여습도를측정하는습도센서에있어서, 상기감습유전체는상기하부전극상에세워진원형또는 C형고리의단면을가지는통 형상들다수개를구비하며, 상기상부전극은상기감습유전체의상기통 형상들다수개의천장면에접하는원형또는 C형고리다수개들이서로연결되는패턴을구비할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170081362A
公开(公告)日：2017-07-12
申请号：KR1020160000307
申请日：2016-01-04
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 터치패널은상호이격되고대칭적인복수의하부및 상부전극셀들을각각포함하고교차되게오버레이되는제1 및제2 전극패턴들및 상기제2 전극패턴상의코너들각각에배치되고, 그일부에서상기제1 전극패턴에있는하부전극셀들과교차되게오버레이되어상기제1 및제2 전극패턴들간의상호위치에관한캘리브레이션연산을지원하는기준전극셀을포함한다. 따라서, 터치패널은사용자액션에대한정밀감지를수행할수 있다.
Abstract translation: 触摸面板被彼此间隔开，并设置在每个的一个角上的第一mitje第二电极图案各包括交叉呈现覆盖对称多个底部和顶部电极元件和第二电极图案的所述第一部分 并且参考电极单元与电极图案中的下电极单元重叠以支持关于第一和第二电极图案的相互位置的校准操作。 因此，触摸面板可以执行用户动作的精确检测。
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公开(公告)号：KR1020170017564A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020150111694
申请日：2015-08-07
Applicant: 전자부품연구원
CPC classification number: A61B5/11 , A61B5/00 , G06F3/016 , G06K9/00355 , G08B6/00
Abstract: 본발명은사용자의움직임을모니터링할수 있는사용자움직임모니터링방법및 이를수행하는시스템에관한것으로, 사용자움직임모니터링시스템은사용자의신체에착용되어해당위치의근육의움직임또는관절의굴곡을감지하고센싱된값을전송하는적어도하나의플렉서블촉각센서, 상기플렉서블촉각센서로부터수신된센싱값을기초로상기사용자의근육의움직임또는관절의굴곡을분석하고, 상기사용자의운동성을모니터링하는모니터링서버를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用户移动监视方法，通过该方法可以监视用户的移动，以及执行该用户的移动监视方法，所述用户移动监视系统包括：至少一个柔性触觉传感器，其被佩戴在用户的身体上， 检测相应位置的肌肉运动或关节弯曲，以及传送感测值; 以及监视服务器，其基于从柔性触觉传感器接收的感测值分析用户的肌肉运动或关节弯曲，并监视用户的运动性。
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公开(公告)号：KR1020150073080A
公开(公告)日：2015-06-30
申请号：KR1020140166661
申请日：2014-11-26
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 본발명의일 실시예에따른전자기기는, 제1 화면을표시하는디스플레이; 외부의오브젝트에의한한 지점에가해지는접촉(contact)의힘방향을감지하는힘방향센서부; 및특정데이터수신이벤트의발생을감지하고, 상기디스플레이를제1 영역및 제2 영역을포함하는적어도 2 이상의영역들로논리적으로분할하기위한미리정해진분할이벤트를감지하고, 상기힘방향센서부에의해감지된제1 접촉의힘방향을기초로하여, 분할된영역들중 어느하나에상기제1 화면이표시되도록하며, 나머지영역들중 어느하나에상기특정데이터수신이벤트와관련된정보가포함된제2 화면이표시되도록하는제어부;를포함할수 있다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例，一种电子设备包括：显示第一屏幕的显示器; 感测由外部物体施加到一点的接触力的力方向传感器单元; 以及控制单元，其感测特定数据接收事件的生成，感测预定的分割事件以将所述显示逻辑划分为包括第一区域和第二区域的至少两个区域，基于所述力在划分的区域中显示第一屏幕 由力方向传感器单元检测到的第一接触的方向，并且在其他区域之一上显示包括与特定数据接收事件相关的信息的第二屏幕。
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