태양전지용 CIGS 광흡수층 형성 방법 및 CIGS 태양전지
    81.
    发明授权
    태양전지용 CIGS 광흡수층 형성 방법 및 CIGS 태양전지 有权
    CIGS吸收层和CIGS太阳能电池的形成方法

    公开(公告)号:KR101369166B1

    公开(公告)日:2014-03-24

    申请号:KR1020120076562

    申请日:2012-07-13

    CPC classification number: H01L31/0322 H01L31/0749 H01L31/18 Y02E10/541

    Abstract: 본발명은기판의 Na의농도가낮아서 CIGS 광흡수층의공핍층이얇은경우에태양전지효율을향상시킬수 있는 CIGS 광흡수층을형성하는방법에관한것으로, 3단계의동시진공증발법에의하여태양전지용 CIGS 광흡수층을형성하는방법으로서, In과 Ga 및 Se을동시에증발시켜증착하는제1단계; Cu와 Se를동시에증발시켜증착하는제2단계; In과 Ga 및 Se를동시에증발시켜증착하는제3단계;를포함하여구성되며, 상기제1단계에서 Ga을증발시켜공급하는양이, 상기제3단계에서 Ga를증발시켜공급하는양보다많은것을특징으로한다. 본발명의다른형태에의한 CIGS 태양전지는, 기판; 상기기판위에형성된전극층; 및상기전극층위에형성된 CIGS 광흡수층을포함하여구성되며, 상기전극층과상기 CIGS 광흡수층의계면에서의 Ga/(In+Ga)의비율이 0.45 이상인것을특징으로한다. 본발명은, 3단계동시진공증발법으로 CIGS 광흡수층을형성하는과정에서제1단계의 Ga 증발량을늘림으로써, Na의농도가낮은기판위에형성되어공핍층의깊이가깊은 CIGS 태양전지의효율을향상시키는효과가있다.

    급속 열처리 공정을 사용한 CIGS 박막의 제조방법
    82.
    发明公开
    급속 열처리 공정을 사용한 CIGS 박막의 제조방법 有权
    使用快速热处理的CIGS薄膜的制备方法

    公开(公告)号:KR1020140026678A

    公开(公告)日:2014-03-06

    申请号:KR1020120091874

    申请日:2012-08-22

    Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a CIGS thin film which does not require an additional Se supply during rapid thermal processing (RTP), by performing the rapid thermal processing after forming a Cu-In-Ga-Se precursor thin film containing a Se component. Specifically, the method for manufacturing a CIGS thin film comprises the steps of forming a Cu-In-Ga-Se precursor thin film containing selenium in a substrate (step a); and performing rapid thermal processing to the precursor thin film formed in step a at a temperature exceeding 400°C and below 600°C and at a pressure of 1 to 760 torr for 1 to 30 minutes (step b). The present invention allows the precursor thin film to contain a sufficient amount of Se in itself in the process of manufacturing the CIGS precursor thin film. Therefore the precursor thin film does not require an additional Se supply during the rapid thermal processing, thereby minimizing loss of Se from controlling the rapid thermal processing conditions and providing a high crystalline CIGS thin film.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在快速热处理(RTP)中不需要额外的Se供应的CIGS薄膜的制造方法,其特征在于,在形成含有Cu-In-Ga-Se前体薄膜的Cu-In-Ga-Se前体薄膜之后进行快速热处理 Se组件。 具体地说,制造CIGS薄膜的方法包括以下步骤:在衬底中形成含有硒的Cu-In-Ga-Se前体薄膜(步骤a)。 对步骤a中形成的前体薄膜,在超过400℃,600℃以下,1〜760托的压力下进行1〜30分钟的快速热处理(步骤b)。 本发明允许前体薄膜在制造CIGS前体薄膜的过程中本身含有足够量的Se。 因此,前体薄膜在快速热处理期间不需要额外的Se供应,从而使得Sn的损失最小化以控制快速热处理条件并提供高结晶CIGS薄膜。

    탄소층이 감소한 CI(G)S계 박막의 제조방법, 이에 의해 제조된 박막 및 이를 포함하는 태양전지
    84.
    发明公开
    탄소층이 감소한 CI(G)S계 박막의 제조방법, 이에 의해 제조된 박막 및 이를 포함하는 태양전지 有权
    具有降低碳层的CI(G)S基薄膜的制备方法,由其制备的基于CI(G)S的薄膜和包括其的太阳能电池

    公开(公告)号:KR1020140021841A

    公开(公告)日:2014-02-21

    申请号:KR1020120087925

    申请日:2012-08-10

    Abstract: Provided are a manufacturing method of a CI(G)S thin film capable of reducing the carbon layer formed between a CI(G)S thin film and molybdenum by using slurry manufactured by mixing two or more kinds of binary nano-particles, a precursor solution including CI(G)S elements, an alcoholic solvent, and a chelating agent. Specifically, the manufacturing method of a CI(G)S thin film according to the present invention includes: a step of producing slurry by mixing two or more kinds of binary nano-particles, a precursor solution including CI(G)S elements, an alcoholic solvent, and a chelating agent; a step of forming a CI(G)S thin film by non-vacuum-coating the slurry; and a step of selenic-thermal-treating the formed CI(G)S thin film.

    Abstract translation: 提供了一种通过使用通过混合两种或更多种二元纳米颗粒制备的浆料,能够减少在CI(G)S薄膜和钼之间形成的碳层的CI(G)S薄膜的制造方法,前体 溶液,包括CI(G)S元素,醇溶剂和螯合剂。 具体地说,根据本发明的CI(G)S薄膜的制造方法包括:通过混合两种或更多种二元纳米颗粒,包含CI(G)S元素的前体溶液, 醇溶剂和螯合剂; 通过非真空涂覆浆料形成CI(G)S薄膜的步骤; 以及对形成的CI(G)S薄膜进行硒热处理的步骤。

    텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법 및 이에 따라 제조된 칼코게나이드계 태양전지
    86.
    发明授权
    텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법 및 이에 따라 제조된 칼코게나이드계 태양전지 有权
    具有双层纹理结构的具有纹理层和聚氯乙烯太阳能电池的聚碳酸酯太阳能电池的制造方法

    公开(公告)号:KR101334055B1

    公开(公告)日:2013-11-29

    申请号:KR1020120030083

    申请日:2012-03-23

    Abstract: 본 발명은 텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법에 관한 것으로서, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 텍스처층을 형성하는 단계; 상기 텍스처층에 후면전극을 형성하는 단계; 상기 후면 전극 위에 칼코게나이드계 반도체 재질의 광흡수층을 형성하는 단계; 상기 광흡수층 위에 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 위에 투명전극을 형성하는 단계; 및 상기 투명전극의 표면에 전면텍스처를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 텍스처층에 의하여 상기 후면전극의 표면에 요철이 형성되는 것을 특징으로 한다.
    본 발명에 의한 텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지는, 기판; 상기 기판 위에 형성된 텍스처층; 상기 텍스처층 위에 형성된 후면전극; 상기 후면 전극 위에 형성된 칼코게나이드계 반도체 재질의 광흡수층; 상기 광흡수층 위에 형성된 버퍼층; 및 상기 버퍼층 위에 형성된 투명전극을 포함하여 구성되고, 상기 텍스처층 표면의 텍스처 구조에 의하여 상기 후면전극의 표면에 요철이 형성되며, 상기 투명전극의 표면에 전면텍스처 구조가 형성된 것을 특징으로 한다.
    본 발명은 전면텍스처와 텍스처층의 2중 텍스처 구조를 구비하여 광포획 성능을 크게 증가시킴으로써, 태양전지의 광전변환효율을 향상시키는 효과가 있다.

    태양전지용 CZTSe계 박막의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 CZTSe계 박막
    87.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020130071055A

    公开(公告)日:2013-06-28

    申请号:KR1020110138361

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521 H01L31/0445 H01L31/06 H01L31/18

    Abstract: PURPOSE: CZTSe group thin film manufactured by manufacturing method of a CZTSe group and method thereof for a solar cell are provided to uniform element distribution by minimizing loss and phase separation of Sn. CONSTITUTION: Cu, Zn, Sn and Se are deposited on a substrate according to a co-evaporation process. Cu and Se are additionally deposited on the thin film. The additional deposition of Cu and Se is performed at substrate temperature of 150 to 320°C. Se is additionally deposited on the thin film at high temperature condition. The additional deposition of Se is performed at substrate temperature of 400 to 600°C.

    Abstract translation: 目的:通过CZTSe组的制造方法制造的CZTSe组薄膜及其太阳能电池的方法通过使Sn的损耗和相分离最小化来提供均匀的元件分布。 构成:根据共蒸发方法将Cu,Zn,Sn和Se沉积在基底上。 Cu和Se另外沉积在薄膜上。 Cu和Se的附加沉积在150至320℃的衬底温度下进行。 Se在高温条件下另外沉积在薄膜上。 Se的附加沉积在400至600℃的衬底温度下进行。

    이산화탄소 분리시스템 적용을 위한 볼텍스 튜브 장치
    90.
    发明授权
    이산화탄소 분리시스템 적용을 위한 볼텍스 튜브 장치 有权
    一种用于分离二氧化碳系统的VORTEX管设备

    公开(公告)号:KR101038439B1

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:KR1020080074737

    申请日:2008-07-30

    Abstract: 본 발명은 이산화탄소 분리 시스템에 사용되는 이산화탄소 분리용 볼텍스 튜브 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 연소가스 내의 이산화탄소 분리효율을 향상시킬 수 있는 이산화탄소 분리용 볼텍스 튜브 장치에 관한 것이다.
    본 발명에 의한 이산화탄소 분리용 볼텍스 튜브 장치는, 연소가스를 공급하는 공급관; 상기 공급관의 일측에 설치되어 흡수제를 상기 연소가스에 분사하는 흡수제 분사부; 상기 공급관을 통해 공급되는 연소가스에 볼텍스를 발생시키는 볼텍스 발생부; 상기 볼텍스 발생부의 일단과 소통하고, 그 단부에 고온출구를 가진 제1튜브; 상기 볼텍스 발생부의 타단과 소통하고, 그 단부에 저온출구를 가진 제2튜브; 및 상기 제1튜브의 고온출구에 배치된 이산화탄소 분리부를 포함한다.
    이산화탄소, 분리, 볼텍스, 튜브, 연소가스

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