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    用於極紫外光源之靶材供給裝置
    81.
    发明专利
    用於極紫外光源之靶材供給裝置 审中-公开
    用于极紫外光源之靶材供给设备

    公开(公告)号：TW201816160A

    公开(公告)日：2018-05-01

    申请号：TW107105435

    申请日：2013-09-30

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 戴迪西爾維亞 ,  DE DEA,SILVIA ,  維斯晨庫喬治 O. ,  VASCHENKO,GEORGIY O. ,  包姆加特彼得 ,  BAUMGART,PETER ,  伯威林諾貝特 R. ,  BOWERING,NORBERT R.

    IPC: C23C14/34

    Abstract: 一種用於超紫外(EUV)光源之靶材供給裝置包括一管，該管包括一第一端、一第二端及一界定在該等第一與第二端之間的側壁。該管之一外表面之至少一部份包括一電絕緣材料，該第一端收納一加壓靶材，且該第二端界定一孔口，並且該加壓靶材通過該孔口以產生一靶材微滴流。該靶材供給裝置亦包括一在該管之外表面上的導電塗層。該塗層係構形成使該管之外表面電氣地接地以藉此減少在該外表面上之表面電荷。

    Abstract in simplified Chinese: 一种用于超紫外(EUV)光源之靶材供给设备包括一管，该管包括一第一端、一第二端及一界定在该等第一与第二端之间的侧壁。该管之一外表面之至少一部份包括一电绝缘材料，该第一端收纳一加压靶材，且该第二端界定一孔口，并且该加压靶材通过该孔口以产生一靶材微滴流。该靶材供给设备亦包括一在该管之外表面上的导电涂层。该涂层系构形成使该管之外表面电气地接地以借此减少在该外表面上之表面电荷。

    微影裝置及製造器件之方法
    82.
    发明专利
    微影裝置及製造器件之方法 审中-公开
    微影设备及制造器件之方法

    公开(公告)号：TW201814769A

    公开(公告)日：2018-04-16

    申请号：TW106131326

    申请日：2017-09-13

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 維拉 莎拉斯 喬治 艾爾博多 ,  VIEYRA SALAS, JORGE ALBERTO ,  賓 奧克 尤里安 ,  BEEN, AUKE JURIAAN ,  布蘭科 卡巴羅 維特 馬努兒 ,  BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725

    Abstract: 一種浸潤微影裝置，其包含：一支撐台，其經組態以支撐具有至少一個目標部分之一物件；一投影系統，其經組態以將一經圖案化光束投影至該物件上；一定位器，其經組態以相對於該投影系統移動該支撐台；一液體限制結構，其經組態以將一液體侷限於該投影系統與該物件及/或該支撐台之一表面之間的一浸潤空間；以及一控制器，其經組態以控制該定位器從而遵循由一系列運動組成之一路線而移動該支撐台，該控制器經調適以：當在該路線之該系列運動中之至少一個運動期間該浸潤空間之一邊緣越過該物件之一邊緣時預測該浸潤空間之該邊緣相對於該物件之該邊緣之一速度；比較該速度與一預定參數且在該速度大於該預定參數之情況下預測在該至少一個運動期間自該浸潤空間之液體損耗；以及若預測到自該浸潤空間之液體損耗，則相應地修改在該至少一個運動期間該路線之一或多個參數。

    Abstract in simplified Chinese: 一种浸润微影设备，其包含：一支撑台，其经组态以支撑具有至少一个目标部分之一对象；一投影系统，其经组态以将一经图案化光束投影至该对象上；一定位器，其经组态以相对于该投影系统移动该支撑台；一液体限制结构，其经组态以将一液体局限于该投影系统与该对象及/或该支撑台之一表面之间的一浸润空间；以及一控制器，其经组态以控制该定位器从而遵循由一系列运动组成之一路线而移动该支撑台，该控制器经调适以：当在该路线之该系列运动中之至少一个运动期间该浸润空间之一边缘越过该对象之一边缘时预测该浸润空间之该边缘相对于该对象之该边缘之一速度；比较该速度与一预定参数且在该速度大于该预定参数之情况下预测在该至少一个运动期间自该浸润空间之液体损耗；以及若预测到自该浸润空间之液体损耗，则相应地修改在该至少一个运动期间该路线之一或多个参数。

    用於直接寫入微影術之方法及設備
    86.
    发明专利
    用於直接寫入微影術之方法及設備 审中-公开
    用于直接写入微影术之方法及设备

    公开(公告)号：TW201812471A

    公开(公告)日：2018-04-01

    申请号：TW106123902

    申请日：2017-07-18

    Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 凡斯庫瑞恩 柯恩 艾德瑞安納斯 ,  VERSCHUREN, COEN ADRIANUS ,  史莫克曼 厄文 保羅 ,  SMAKMAN, ERWIN PAUL

    IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC classification number: G03F7/70433 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70508

    Abstract: 本發明描述一種經組態以處理複數個基板之直接寫入曝光設備，該設備包含： - 一基板固持器，其經組態以固持具有一可用圖案化區域之一基板； - 一圖案化系統，其經組態以將不同圖案投影至該基板上； - 一處理系統，其經組態以： ○ 判定將施加於該複數個基板之一第一基板上的一或多個圖案之一第一組合；及 ○ 判定將施加於該複數個基板之一後續第二基板上的一或多個圖案之一不同第二組合。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种经组态以处理复数个基板之直接写入曝光设备，该设备包含： - 一基板固持器，其经组态以固持具有一可用图案化区域之一基板； - 一图案化系统，其经组态以将不同图案投影至该基板上； - 一处理系统，其经组态以： ○ 判定将施加于该复数个基板之一第一基板上的一或多个图案之一第一组合；及 ○ 判定将施加于该复数个基板之一后续第二基板上的一或多个图案之一不同第二组合。

    視覺化設計佈局之計算分析之效能度量
    87.
    发明专利
    視覺化設計佈局之計算分析之效能度量 审中-公开
    可视化设计布局之计算分析之性能度量

    公开(公告)号：TW201812438A

    公开(公告)日：2018-04-01

    申请号：TW106121048

    申请日：2017-06-23

    Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 潘得利 塔克希 ,  PANDLEY, TAKSH ,  賽門斯 馬克 克里斯多福 ,  SIMMONS, MARK CHRISTOPHER

    IPC: G03F1/36 ,  G03F7/20 ,  G06F17/50

    CPC classification number: G03F1/36 ,  G03F7/70433 ,  G06F17/5081

    Abstract: 本發明提供一種程序，其包括：獲得指定一微影圖案之一佈局之資料；獲得該佈局之一計算分析之效能度量，該等效能度量指示執行該計算分析之各別部分之一或多個電腦程序的效能；使該等效能度量與在該等各別效能度量之量測期間經處理的該佈局之部分相關；及基於使該等效能度量與在量測期間經處理的該佈局之部分相關之一結果而產生一三維或更高維視覺化，其中該等視覺化維度中之至少一些指示該佈局之部分之相對位置且該等視覺化維度中之至少一些指示與該等各別部分相關之一效能度量。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种进程，其包括：获得指定一微影图案之一布局之数据；获得该布局之一计算分析之性能度量，该等性能度量指示运行该计算分析之各别部分之一或多个电脑进程的性能；使该等性能度量与在该等各别性能度量之量测期间经处理的该布局之部分相关；及基于使该等性能度量与在量测期间经处理的该布局之部分相关之一结果而产生一三维或更高维可视化，其中该等可视化维度中之至少一些指示该布局之部分之相对位置且该等可视化维度中之至少一些指示与该等各别部分相关之一性能度量。

    用於測量一目標結構之性質之檢測裝置、操作一光學系統之方法、電腦程式產品、製造器件之方法
    88.
    发明专利
    用於測量一目標結構之性質之檢測裝置、操作一光學系統之方法、電腦程式產品、製造器件之方法 审中-公开
    用于测量一目标结构之性质之检测设备、操作一光学系统之方法、电脑进程产品、制造器件之方法

    公开(公告)号：TW201805736A

    公开(公告)日：2018-02-16

    申请号：TW106139757

    申请日：2016-04-01

    Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 斐貞金 吉拉德 ,  FEIJEN,KIM GERARD ,  范 布爾亨利克斯 威爾翰瑪斯 瑪莉亞 ,  VAN BUEL,HENRICUS WILHELMUS MARIA ,  寇克馬汀那斯 喬瑟夫 ,  KOK,MARTINUS JOSEPH

    IPC: G03F7/20 ,  G01N21/956

    CPC classification number: G03F9/7088 ,  G01B11/0616 ,  G01B11/14 ,  G01B11/272 ,  G01N21/956 ,  G02B3/14 ,  G02B26/004 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70683 ,  G03F9/7069 ,  G03F9/7092

    Abstract: 本發明提供一種檢測裝置(例如，一散射計)，其包含：一基板支撐件，其用於支撐一基板；及一光學系統。一照明系統藉由輻射照明一目標(T)。一定位系統(518)移動該光學系統及該基板支撐件中之一者或兩者以便相對於該光學系統定位一個別目標(T)，使得成像光學件可使用繞射輻射之一部分以在一影像感測器(23)上形成目標結構之一影像。藉由前饋式控制來控制(902)一液體透鏡(722)以使該影像克服振動及/或該光學系統與該目標結構之間的掃描移動而維持靜止。在一第二態樣中，在不同波長下進行測量期間，液體透鏡(1324，1363)經控制用以校正色像差。此校正可使將照明聚焦於目標(T)上及/或將一影像聚焦於一影像感測器(23)上有所改良。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种检测设备(例如，一散射计)，其包含：一基板支撑件，其用于支撑一基板；及一光学系统。一照明系统借由辐射照明一目标(T)。一定位系统(518)移动该光学系统及该基板支撑件中之一者或两者以便相对于该光学系统定位一个别目标(T)，使得成像光学件可使用绕射辐射之一部分以在一影像传感器(23)上形成目标结构之一影像。借由前馈式控制来控制(902)一液体透镜(722)以使该影像克服振动及/或该光学系统与该目标结构之间的扫描移动而维持静止。在一第二态样中，在不同波长下进行测量期间，液体透镜(1324，1363)经控制用以校正色像差。此校正可使将照明聚焦于目标(T)上及/或将一影像聚焦于一影像传感器(23)上有所改良。

    微影裝置
    89.
    发明专利
    微影裝置 审中-公开
    微影设备

    公开(公告)号：TW201800875A

    公开(公告)日：2018-01-01

    申请号：TW106117086

    申请日：2017-05-24

    Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 巴特勒 漢司 ,  BUTLER, HANS ,  凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  迪 威特 保羅 寇尼 亨利 ,  DE WIT, PAUL CORNE HENRI

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/44

    CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70808

    Abstract: 本發明提供一種微影裝置，其包含一基板台、一投影系統、一編碼器系統、一量測框架及一量測系統。該基板台具有用於固持一基板之一固持表面。該投影系統係用於將一影像投影於該基板上。該編碼器系統係用於提供表示該基板台之一位置之一信號。該量測系統係用於量測該微影裝置之一性質。該固持表面係沿著一平面。該投影系統處於該平面之一第一側處。該量測框架經配置以支撐在不同於該第一側的該平面之一第二側處的該編碼器系統之至少部分及該量測系統之至少部分。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种微影设备，其包含一基板台、一投影系统、一编码器系统、一量测框架及一量测系统。该基板台具有用于固持一基板之一固持表面。该投影系统系用于将一影像投影于该基板上。该编码器系统系用于提供表示该基板台之一位置之一信号。该量测系统系用于量测该微影设备之一性质。该固持表面系沿着一平面。该投影系统处于该平面之一第一侧处。该量测框架经配置以支撑在不同于该第一侧的该平面之一第二侧处的该编码器系统之至少部分及该量测系统之至少部分。

    檢測設備及方法、微影設備、元件製造方法及電腦程式
    90.
    发明专利
    檢測設備及方法、微影設備、元件製造方法及電腦程式 审中-公开
    检测设备及方法、微影设备、组件制造方法及电脑进程

    公开(公告)号：TW201800738A

    公开(公告)日：2018-01-01

    申请号：TW106107533

    申请日：2017-03-08

    Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： 蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 ,  COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL ,  寇尼茲南柏格 亞力山德 派斯提亞 ,  KONIJNENBERG, ALEXANDER PRASETYA

    IPC: G01N21/33 ,  G01N21/47 ,  G01N21/956 ,  G03F9/00

    CPC classification number: G01N21/47 ,  G01N21/33 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7092

    Abstract: 本發明揭示一種獲得描述一物件結構之資料之方法。該方法包含以下步驟：(a)藉由照明輻射照明該物件結構；(b)在藉由該物件結構散射之後調變該照明輻射之相位，該調變包含施加取決於至少一個可控制參數之一第一相位因數及具有一向量範數之一次加性函數之一形式之一像差函數；(c)捕獲複數個強度圖案，其中每一強度圖案對應於該至少一個可控制參數之一唯一值；以及(d)基於該複數個強度圖案重建構描述該物件結構之該資料。本發明亦揭示對應檢測及微影設備、製造元件之方法及電腦程式。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种获得描述一对象结构之数据之方法。该方法包含以下步骤：(a)借由照明辐射照明该对象结构；(b)在借由该对象结构散射之后调制该照明辐射之相位，该调制包含施加取决于至少一个可控制参数之一第一相位因子及具有一矢量范数之一次加性函数之一形式之一像差函数；(c)捕获复数个强度图案，其中每一强度图案对应于该至少一个可控制参数之一唯一值；以及(d)基于该复数个强度图案重建构描述该对象结构之该数据。本发明亦揭示对应检测及微影设备、制造组件之方法及电脑进程。

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