公开(公告)号：CN104465359A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410497873.8

申请日：2014-09-25

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: H01L21/304 ,  B05C13/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/42 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/67011 ,  B05C9/08 ,  B05C11/08 ,  B05C13/00

Abstract: 一种自旋处理装置，能够抑制灰尘的发生及夹持时的基板位置的偏移。实施方式的自旋处理装置使基板旋转来进行处理，具备：至少三个夹持销，分别与基板的外周面抵接来把持基板；能够旋转的多个销旋转体，对各夹持销分别设置该销旋转体，该销旋转体将夹持销从与基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持；多个磁齿轮，该磁齿轮按各销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上，磁极沿着销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状；多个旋转用磁铁，对各磁齿轮分别设置该旋转用磁铁，该旋转用磁铁被定位成与磁齿轮的磁极相互吸引；以及移动机构，使多个旋转用磁铁沿着销旋转体的旋转轴的轴方向移动。

公开(公告)号：CN103811377A

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN201210445789.2

申请日：2012-11-09

Applicant: 沈阳芯源微电子设备有限公司

Inventor： 卢继奎 ,  谷德君

IPC: H01L21/67

CPC classification number: B05C15/00 ,  B05C5/002 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明涉及在晶片上形成涂布液膜并去掉部分保护膜的设备，具体地说是一种液体涂敷切边装置，包括底板、处理罩、处理腔、环门、切边喷嘴、承片台、主轴电机及处理杯，其中处理罩安装在底板上，处理罩内设有安装在底板上的主轴电机，主轴电机的输出端连接有承载晶片的承片台；在处理罩与承片台之间由外向内依次设有可升降的处理腔及可升降的环门，处理腔的上部表面安装有可升降的切边喷嘴，处理腔的下部连接有随处理腔升降的处理杯，环门位于处理腔与处理杯之间；处理腔的腔臂上开有通过环门升降控制开关的切口，晶片经该切口送入处理腔内放在承片台上。本发明晶片甩出的液体被处理罩或处理腔收集排出，不会溅落在工艺杯上而对晶片造成污染。

公开(公告)号：CN101980792A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200880128540.0

申请日：2008-02-29

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： B·P·阿伦 ,  R·W·伯纳德 ,  J·J·多梅 ,  R·G·邓恩 ,  W·J·赞德尔

IPC: B05C11/04 ,  B28B11/04

CPC classification number: C04B38/0006 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/021 ,  B05C11/023 ,  B05C11/08 ,  B28B11/04 ,  B28B19/0038

Abstract: 提供一种用于将胶结混合物施加到蜂窝状本体的方法，该方法包括以下步骤：使蜂窝状本体的第一端相对于第一支承部件的第一纵向轴线对准。该方法还包括以下步骤：使第二支承部件相对于蜂窝状本体的第二端对准。第二支承部件能相对于第一支承部件运动，从而使第二支承部件的第二纵向轴线不与第一纵向轴线重合。该方法还包括以下步骤：使蜂窝状本体相对于第一支承部件和第二支承部件的位置固定。该方法还包括以下步骤：将胶结混合物施加到蜂窝状本体。提供一种装置，该装置构造成将胶结混合物施加到蜂窝状本体。

公开(公告)号：CN101905205A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN201010200797.1

申请日：2010-06-08

Applicant: 株式会社东芝 ,  中外炉工业株式会社

Inventor： 大城健一 ,  佐藤强 ,  德本隆男 ,  夏贞雄 ,  岩崎聪一郎

IPC: B05B13/04 ,  B05B15/02 ,  B05B9/04 ,  B05D1/02 ,  B05D1/40 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B12/08 ,  B05B12/084 ,  B05B15/52 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B41J2/165 ,  B41J2/16579 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明所要解决的技术问题是，实现材料利用效率以及作业率的提高，且防止以涂覆喷嘴的污染为起因的膜厚均匀性的降低。本发明中，成膜装置(1)中，具备：具有载置涂覆对象物(W)的载置面(2a)的台架(2)、使台架(2)在沿载置面(2a)的旋转方向旋转的旋转机构(3)、将材料排出到台架(2)上的涂覆对象物(W)上并进行涂覆的涂覆喷嘴(4)、使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在与旋转方向相交的交差方向沿载置面(2a)相对移动的移动机构(5)、一面通过旋转机构(3)使载置了涂覆对象物(W)的台架(2)旋转，一面通过移动机构(5)使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在交差方向沿载置面(2a)相对移动，进行通过涂覆喷嘴(4)将向台架(2)上的涂覆对象物(W)涂覆材料的控制的控制部(10)、清洗涂覆喷嘴(4)的清洗装置(7)。

公开(公告)号：CN101027138B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200580017981.X

申请日：2005-06-01

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司

Inventor： 伊藤朋和 ,  西垣寿 ,  川上司 ,  成田悠 ,  龙泽洋次 ,  花田拓实 ,  石见宗宪

IPC: B05D1/40 ,  B05C9/08 ,  B05C11/08 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D7/56 ,  G11B7/266 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明提供可用简单的顺序、使贴合前的基板上或已涂敷的基板上的树脂层均匀化的树脂层形成方法及树脂层形成装置、以及盘及盘的制造方法。一边使基板(P)低速旋转，一边在内周侧涂敷粘接剂(A)，通过使基板(P)高速旋转，在基板(P)的表面形成第一粘接剂层(AL1)，对第一粘接剂层(AL1)的内周侧照射紫外线、使其硬化，这样，在基板(P)的旋转中心周围形成台阶部(H)，在台阶部(H)的基板(P)的旋转中心侧，涂敷粘接剂(A)，使基板(P)高速旋转，以此在第一粘接剂层(AL1)上形成第二粘接剂层(AL2)。第一粘接剂层(AL1)和第二粘接剂层(AL2)一体化，整体作为均匀的粘接层(B)。

公开(公告)号：CN100374213C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN02160492.4

申请日：2002-12-27

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 伊藤英一 ,  久田和也 ,  林一英 ,  阿部伸也 ,  大野锐二

IPC: B05D1/40 ,  B05D3/06 ,  B05D7/02 ,  B05C5/02 ,  G11B7/26

CPC classification number: G11B7/266 ,  B05C11/08

Abstract: 一种在平板上形成树脂层的方法，包括：(1)在平板(102)的第1主面(112)上涂布作为液体材料的光硬化性树脂组成物(110)；(2)然后通过将光硬化性树脂组成物曝光而硬化、形成树脂层，光硬化性树脂组成物的涂布是通过将平板的侧面与导向构件(103、104)大致接触、并使导向构件的上面(114、120)位于相对平板的第1主面大致同一的水平面，在将平板配置于载物台上的状态下进行旋转涂布，而在平板的第1主面涂布光硬化性树脂组成物，形成向导向构件的上面和平板的第1主面延伸的涂膜，将该涂膜曝光。由此，通过旋转涂布可使形成的涂膜厚度均匀化，使最终形成的树脂层的厚度均匀化。

公开(公告)号：CN1297976C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200410057344.2

申请日：2000-10-08

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 宇佐美由久

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/26

CPC classification number: G11B7/24 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0406 ,  G11B7/26

Abstract: 一种信息记录媒体的制造方法，其在主板(202)上，具有可记录信息的记录层(204)，在使形成有色素记录层(204)的主板(202)高速旋转的同时，使空气流过，进行干燥的场合，在使上述主板(202)高速旋转的装置顶部的开口部(422)上，设置在中心部具有圆形的开口部(512)的盖(504)，用于使清洁的空气进入的进气口变窄。

公开(公告)号：CN1720106A

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：CN200380105131.6

申请日：2003-12-02

Applicant: 尤纳克西斯巴尔策斯公司

Inventor： 欧阳契

IPC: B05C1/08 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: 一种通过在旋涂过程之前或在过程中特定局部地热调节基底以便在基底(1)的表面上分配粘性液体的方法和设备，其中基底(1)是例如半导体晶片或数据存储介质。

公开(公告)号：CN1224029C

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN02155976.7

申请日：2002-12-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 卢明道 ,  张道熏 ,  朴仁植 ,  尹斗燮

IPC: G11B7/26

CPC classification number: G11B7/263 ,  B05C11/08 ,  B29C2035/0827 ,  B29D17/005 ,  B29L2017/005 ,  G11B7/253 ,  G11B7/26 ,  G11B7/266

Abstract: 本发明提供了一种制造光盘的方法，通过该方法，光传输层能够在不需要附加盖体的情况下均匀地旋转涂覆。制备心轴夹具，该心轴夹具有中心轴，并由不粘性物质形成。将树脂排出到心轴夹具的表面上。将基片放置在该树脂上，并使该基片的记录层对着心轴夹具，并使该基片旋转，以便形成光传输层。使涂覆有光传输层的基片与心轴夹具分离。因此，树脂并不排出到基片的中心，而是环绕该基片的中心。因此不需要附加的盖体，从而使光盘的制造过程简化。还有，通过利用由不粘性更好的物质来形成心轴夹具和模型基质，能够使基片的整个表面均匀涂覆有光传输层。

公开(公告)号：CN1203482C

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：CN01800328.1

申请日：2001-01-24

Applicant: 皇家菲利浦电子有限公司

Inventor： M·M·J·德克雷

IPC: G11B7/26

CPC classification number: B05C11/08 ,  G11B7/253 ,  G11B7/2542 ,  G11B7/266

Abstract: 在制造圆形光学存储盘(10)的方法中，当在覆盖层和间隔层(15)的旋转涂覆过程中，光盘(10)的基底(11)周围有延伸体(21)。延伸体(21)可由一件或件组成。外周边(23)具有圆形或多边形状。延伸体与光盘基底(11)的周边(13)周向密切接触。延伸体的表面(22)大体与光盘的基底(11)的表面(12)平齐以便在旋转涂覆过程中阻止旋转涂覆流体的流动。常在基底(11)的周边(13)形成的抬高的边缘(16)现被传送至延伸体(21)的外周边(23)。涂覆操作后，去除延伸体(21)。通过选择涂层(15)不好地粘附的表面，有助于再用延伸体(20)。所制造的光学存储盘没有或有很小的抬高的边缘(16)，该方法不会引起额外的重折率。